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[发明专利]保护膜形成用片、带保护膜的芯片的制造方法及层叠物-CN202180016958.8在审
发明人： 中石康喜 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：本发明的保护膜形成用片具备支撑片与设置于所述支撑片的一侧的面上的固化性树脂膜，所述固化性树脂膜为用于通过贴附于晶圆的具有凸状电极的面并进行固化而在所述晶圆的所述面上形成保护膜的树脂膜，所述支撑片在其所述一侧的面上具有设置有所述固化性树脂膜的第一区域、与围绕所述第一区域且未设置所述固化性树脂膜的第二区域。
保护膜形成芯片制造方法层叠

[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用片、保护膜形成用复合片、及装置的制造方法-CN202210305547.7在审
发明人： 中石康喜;佐藤明德;稻男洋一;山下茂之 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在经过回流焊处理等加热工序的情况下印字的识别性仍高的保护膜形成膜、具备该保护膜形成膜的保护膜形成用片、保护膜形成用复合片及带保护膜的工件加工物、以及具备带保护膜的工件加工物等的装置的制造方法。所述保护膜形成膜用于形成保护膜，其中，保护膜形成膜具有印字贯穿层与印字识别层，在CIE1976L*a*b*色空间中，于260℃加热5分钟后的印字贯穿层与印字识别层的色差为50以上。
保护膜形成复合装置制造方法

[发明专利]背面保护膜形成用复合体、第一层叠体的制造方法、第三层叠体的制造方法及带背面保护膜的半导体装置的制造方法-CN202180015484.5在审
发明人： 中石康喜 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2021-02-18 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种背面保护膜形成用复合体(1)，其通过层叠保护层(12)与背面保护膜形成用膜(13)而成，该背面保护膜形成用复合体(1)被用于第一层叠体的制造方法中，该制造方法包括以下工序：在半导体基板的背面贴附背面保护膜形成用膜(13)，得到依次层叠有所述半导体基板、背面保护膜形成用膜(13)及保护层(12)的第二层叠体的第一层叠工序；使所述第二层叠体的背面保护膜形成用膜(13)固化而制成背面保护膜的固化工序；及将所述第二层叠体从所述第一层叠工序搬运至所述固化工序的搬运工序，所述第一层叠体通过依次层叠所述半导体基板、所述背面保护膜及保护层(12)而成。
背面保护膜形成复合体第一层叠制造方法第三半导体装置

[发明专利]保护膜形成用膜-CN202210081668.8在审
发明人：山下茂之;山本大辅;中石康喜 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种保护膜形成用膜，其即使在激光印字的线宽较窄时，也能够得到充分的印字可见性。所述保护膜形成用膜为在其表面进行激光印字的保护膜形成用膜，其中，将印字部的颜色设为以CIE1976L*a*b*表色系规定的坐标中的明度L*p、色度a*p、色度b*p，并将非印字部的颜色设为以CIE1976L*a*b*表色系规定的坐标中的明度L*N、色度a*N、色度b*N时，以下述式(A)定义的印字部与非印字部的色差ΔE*ab为8以上。ΔE*ab＝[(L*p－L*N)2+(a*p－a*N)2+(b*p－b*N)2]1/2···(A)。
保护膜形成

[发明专利]保护膜形成用膜-CN202210081725.2在审
发明人：山下茂之;山本大辅;中石康喜 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L23/31 文献下载
摘要：本发明提供一种保护膜形成用膜，其用于良好地探测处于收纳于载带中的状态的半导体芯片。所述保护膜形成用膜相对于在以CIE1976L*a*b*表色系规定的坐标中明度L*为37.9、色度a*为‑0.36、色度b*为‑2.6的颜色的、以下述式表示的色差ΔE*ab为17以上。ΔE*ab＝[(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2]1/2。
保护膜形成

[发明专利]第三层叠体的制造方法、第四层叠体的制造方法及带背面保护膜的半导体装置的制造方法、以及第三层叠体-CN202080026612.1在审
发明人：上道厚史;根本拓;中石康喜;古野健太 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2020-04-24 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： B32B27/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种第三层叠体(19)的制造方法，其中，工件(14)的一个面为电路面(14a)，另一个面为背面(14b)，背面保护膜形成用膜(13)的一个面为平滑面(13b)，另一个面为比平滑面(13b)粗糙的粗糙面(13a)，所述制造方法依次包括：将背面保护膜形成用膜(13)的粗糙面(13a)朝向工件(14)的背面(14b)进行贴附的第一层叠工序；及在背面保护膜形成用膜(13)的平滑面(13b)上贴附支撑片(10)的第二层叠工序。
第三层叠制造方法第四背面保护膜半导体装置以及

[发明专利]端子保护用双面胶带及带电磁波屏蔽膜的半导体装置的制造方法-CN201980082837.6在审
发明人：坂东沙也香;佐藤明德;中石康喜;冈本直也 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： B32B27/00 文献下载
摘要：本发明提供一种端子保护用双面胶带，其为在带端子的半导体装置上形成电磁波屏蔽膜的工序中使用的端子保护用双面胶带，其具有粘弹性层(12)、基材(11)及第二粘着剂层(15)，所述粘弹性层(12)、所述基材(11)、所述第二粘着剂层(15)中的至少一层为导热层。
端子保护双面胶带电磁波屏蔽半导体装置制造方法

[发明专利]端子保护用胶带及带电磁波屏蔽膜的半导体装置的制造方法-CN201980052146.1在审
发明人：坂东沙也香;佐藤明德;中石康喜;冈本直也 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2019-08-08 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： H01L23/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种端子保护用胶带(1)，其为在带端子的半导体装置上形成电磁波屏蔽膜的工序中使用的端子保护用胶带(1)，其具有黏弹性层(12)，在黏弹性层(12)的动态黏弹性测定中，50℃下的tanδ值为0.2以上，黏弹性层(12)的厚度为80～800μm。
端子保护胶带电磁波屏蔽半导体装置制造方法

[发明专利]端子保护用胶带及带电磁波屏蔽膜的半导体装置的制造方法-CN201980052131.5在审
发明人：坂东沙也香;佐藤明徳;中石康喜;冈本直也 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2019-08-08 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： H01L21/56 文献下载
摘要：本发明涉及一种端子保护用胶带，其为在带端子的半导体装置上形成电磁波屏蔽膜的工序中使用的端子保护用胶带(1)，其具有黏弹性层(12)，在黏弹性层(12)的动态黏弹性测定中，50℃下的tanδ值为0.2以上，对于黏弹性层(12)，对圆柱形状的评价用试样于50℃施加10％(36°)的恒定的扭转应变并测定松弛弹性模量时，用[logG(t)max‑logG(t)min]求出的松弛弹性模量波动值X2为0.12以上。
端子保护胶带电磁波屏蔽半导体装置制造方法

[发明专利]保护膜形成用膜、保护膜形成用复合片、检查方法及识别方法-CN201980032659.6在审
发明人：小桥力也;中石康喜 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2019-08-23 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： H01L21/301 文献下载
摘要：本发明提供一种图像清晰度为110以上的保护膜形成用膜(13)、及具备该保护膜形成用膜的保护膜形成用复合片、以及检查方法及识别方法。本发明的保护膜形成用膜(13)贴附于半导体晶圆的被激光印字的背面，并用于带保护膜的半导体芯片的制造。
保护膜形成复合检查方法识别

[发明专利]长条层叠片及其卷料-CN201980010181.7在审
发明人：上道厚史;冈本直也;中石康喜 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2019-01-22 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： B32B3/16 文献下载
摘要：本发明提供一种长条层叠片，其含有带树脂膜形成层的支撑片和长条的剥离片，所述带树脂膜形成层的支撑片具有大致矩形的支撑片和形成于该支撑片上的大致矩形的树脂膜形成层，且具有大致矩形的环形框架保持构件，该构件用于将环形框架保持在俯视下围绕树脂膜形成层的区域，多个带树脂膜形成层的支撑片沿着剥离片的长边方向可剥离地且独立地暂时粘着于该剥离片的剥离处理面上的短边方向的内侧，有时为了消除长条层叠片的厚度差而在剥离片的剥离处理面上的短边方向的两端连续层叠辅助片，所述长条层叠片能够防止在所述辅助片上发生隧道现象。在上述长条层叠片中，辅助片与剥离片之间的平均剥离力为50mN/100mm以上，或者不设置辅助片。
长条层叠及其

[发明专利]长条层叠片的卷料-CN201980009705.0在审
发明人：上道厚史;冈本直也;中石康喜 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2019-01-22 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： B32B7/06 文献下载
摘要：本发明的目的在于防止在由包含带树脂膜形成层的支撑片和长条的剥离片的长条层叠片卷绕成卷状而成的卷料中的树脂膜形成层上产生卷绕痕迹，该带树脂膜形成层的支撑片具有大致矩形的支撑片和形成于支撑片的大致矩形的树脂膜形成层，且具有用于将环形框架保持在俯视下围绕树脂膜形成层的区域的大致矩形的环形框架保持构件，在剥离片剥离处理面上短边方向的两端连续层叠长条辅助片，多个带树脂膜形成层的支撑片沿剥离片长边方向可剥离且独立地暂时粘着于剥离片剥离处理面上短边方向内侧。该长条层叠片中，将从去除剥离片后的树脂膜形成层侧俯视图中树脂膜形成层与辅助片外侧端的距离设为W1、将该俯视图中辅助片最宽部分的辅助片宽度设为W2时，W2/W1≤1.6。
长条层叠

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