[实用新型]一种半导体纯水处理系统的抛光混床树脂桶有效
申请号: | 202021235272.7 | 申请日: | 2020-06-29 |
公开(公告)号: | CN213651945U | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 安建国;张旭;吴菁;于天扬 | 申请(专利权)人: | 江苏源邦环境科技有限公司 |
主分类号: | C02F1/42 | 分类号: | C02F1/42;B08B9/087;C02F103/04 |
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地址: | 214000 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 纯水 处理 系统 抛光 树脂 | ||
本实用新型是半导体纯水处理系统的抛光混床树脂桶,其结构是罐体顶部侧面连接清洗进水管,清洗进水管连接罐体内部顶部的环形管,环形管上设喷头,罐体中心设有转轴,转轴通过轴承连接罐体,转轴底端延伸至罐体下方并连接被动轮,被动轮通过传动带连接主动轮,主动轮连接电机输出端,转轴通过若干根与水平面平行的连杆连接接触罐体内壁且由罐体顶端向底端延伸的清洗刷。本实用新型的优点:对罐体进行清洗时,清洗水从清洗进水管进入环形管,由喷头对罐体内壁进行冲刷,电机带动清洗刷对罐体内壁进行整体刷洗,凸起配合环形槽可提高运行稳定性。有效提高了对罐体内壁清洗的质量,可满足生产需要。
技术领域
本实用新型涉及的是一种半导体纯水处理系统的抛光混床树脂桶,属于水处理设备技术领域。
背景技术
在半导体制作工艺中,80%以上的工序都要经过化学处理,而每一道化学处理都离不开超纯水。在硅片的处理工序中,一半以上的工序经过超纯水清洗后便直接进入高温处理过程,此时如果水中含有杂质便会进入硅片,造成器件性能下降,成品率低。电子工业提出的超纯水电阻率≥18MΩ·cm(25℃),已极其接近理论纯水水质18.3MΩ·cm(25℃)。
现有技术有用于生产半导体制作所需超纯水的处理系统,其中抛光混床树脂桶是处理系统的重要组成,用于系统出水水质能够维持用水标准,现有技术的抛光混床树脂桶在换装树脂时,必须完全的清洗桶槽,然而现有技术的设计清洗不方便,容易存在清洗不干净而污染水质的情况,现有技术也有通过电机带动清洗杆进而带动若干个位置固定的清洗刷对罐体内部进行刷洗的设计,然而其并不能有效对整个罐体内部进行刷洗,清洗质量仍然不理想,无法满足生产需要。
实用新型内容
本实用新型提出的是一种半导体纯水处理系统的抛光混床树脂桶,其目的旨在克服现有技术存在的上述不足,通过设置与罐体高度匹配的清洁刷,满足对罐体内壁整体有效刷洗,且设置运行限位机构,可保证运行稳定。
本实用新型的技术解决方案:一种半导体纯水处理系统的抛光混床树脂桶,其结构包括底部设支腿的罐体,罐体顶端设手动控制头,手动控制头上装有进水管和产水管,所述的罐体底部侧面设排污管,罐体顶部侧面连接清洗进水管,清洗进水管连接罐体内部顶部的环形管,环形管上均匀设有若干个喷头,罐体中心设有转轴,转轴通过轴承连接罐体,转轴底端延伸至罐体下方并连接被动轮,被动轮通过传动带连接主动轮,主动轮连接电机输出端,被动轮、传动带、主动轮和电机都安装在罐体底部罩壳内,转轴通过若干根与水平面平行的连杆连接接触罐体内壁且由罐体顶端向底端延伸的清洗刷。
优选的,所述的清洗刷两端设凸起,凸起与罐体内壁上下两端的环形槽活动卡接。
本实用新型的优点:结构设计合理,需要对罐体进行清洗时,一方面清洗水从清洗进水管进入环形管,然后由喷头对罐体内壁进行冲刷,另一方面电机启动通过转轴带动清洗刷对罐体内壁进行整体刷洗,优选的凸起配合环形槽可提高圆周向运行的稳定性。有效提高了对罐体内壁清洗的质量,可满足生产需要。
附图说明
图1是本实用新型半导体纯水处理系统的抛光混床树脂桶的结构示意图。
图中的1是罐体、2是手动控制头、3是进水管、4是产水管、5是清洗进水管、6是环形管、7是喷头、8是转轴、9是被动轮、10是传动带、11是主动轮、12是电机、13是罩壳、14是轴承、15是排污管、16 是连杆、17是清洗刷、18是凸起、19是环形槽、20是支腿。
具体实施方式
下面结合实施例和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
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