[实用新型]液处理装置

说明书

本实用新型提供一种液处理装置，对于利用从喷嘴喷出的处理液进行的液处理的面内均匀性有效。液处理装置具备：处理液供给部，其具有喷出处理液的喷嘴；喷嘴移动部，其使所述喷嘴在用于朝向基板的表面供给处理液的涂布位置和与涂布位置不同的待机位置之间移动；清洗部，其朝向待机位置供给清洗液，以通过清洗液对位于待机位置的喷嘴的顶端面进行清洗；吸引部，其具有朝向位于待机位置的喷嘴的顶端面开口的吸引口，吸引部吸引从位于待机位置的喷嘴喷出的处理液以及通过清洗部供给到待机位置的清洗液；以及控制装置，其控制处理液供给部、喷嘴移动部、吸引部及清洗部。

技术领域

本公开涉及一种液处理装置。

背景技术

在专利文献1中公开了一种液处理装置，其具备：多个液处理部，各液处理部是在杯体中设置水平保持基板的基板保持部而构成的；处理液喷嘴，其用于向基板供给处理液；以及除液部，其在杯体的开口部间去除从处理液喷嘴垂下的处理液的液滴。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-186974号公报

实用新型内容

实用新型要解决的问题

本公开提供一种对于利用从喷嘴喷出的处理液进行的液处理的面内均匀性有效的液处理装置。

用于解决问题的方案

本公开的一个侧面所涉及的液处理装置具备：处理液供给部，其具有喷出处理液的喷嘴；喷嘴移动部，其使所述喷嘴在用于朝向基板的表面供给所述处理液的涂布位置和与所述涂布位置不同的待机位置之间移动；清洗部，其朝向所述待机位置供给清洗液，以通过所述清洗液对位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面进行清洗；吸引部，其具有朝向位于所述待机位置的所述喷嘴的顶端面开口的吸引口，所述吸引部吸引从位于所述待机位置的所述喷嘴喷出的所述处理液以及通过所述清洗部供给到所述待机位置的所述清洗液；以及控制装置，其控制所述处理液供给部、所述喷嘴移动部、所述吸引部及所述清洗部。

在一个可能的方式中，在所述处理液供给部停止从位于所述待机位置的所述喷嘴喷出所述处理液后，所述吸引部停止从所述吸引口吸引所述处理液。

在一个可能的方式中，所述清洗部具有：清洗槽，其设置于所述待机位置；以及清洗液供给部，其向所述清洗槽内供给所述清洗液，所述吸引口向所述清洗槽内开口，所述清洗液供给部向收容有所述喷嘴的所述清洗槽内供给所述清洗液；以及所述吸引部吸引由所述清洗液供给部供给到所述清洗槽内的所述清洗液。

在一个可能的方式中，所述吸引部还具有吸引头，该吸引头相对于所述清洗槽的底壁突出，所述吸引口在所述吸引头的上表面开口。

在一个可能的方式中，所述清洗部还具有排液口，该排液口设置于所述清洗槽的所述底壁，向所述清洗槽外排出所述清洗液，所述排液口位于所述吸引头的周围。

在一个可能的方式中，所述吸引头朝向收容于所述清洗槽内的所述喷嘴的顶端面突出，所述排液口位于由所述吸引头与所述底壁形成的高低差部中的低的面。

在一个可能的方式中，设置有多个所述排液口，多个所述排液口设置于夹着所述吸引头的位置。

在一个可能的方式中，设置有多个所述排液口，多个所述排液口沿以所述吸引口为中心的周向形成。

在一个可能的方式中，所述排液口的大小大于所述吸引口的大小。

在一个可能的方式中，所述吸引口的直径是所述喷嘴的喷出口的直径的0.7倍～1.3倍。

在一个可能的方式中，在所述喷嘴位于所述待机位置的状态下，所述喷嘴和所述吸引部配置成所述喷嘴的喷出口的中心与所述吸引部的所述吸引口的中心相互大致一致，且以从所述喷嘴喷出的所述处理液不扩散到所述喷嘴的顶端面而被所述吸引口吸引的程度接近。