[发明专利]一种均匀镀膜的装置以及方法

说明书

本发明公开了一种均匀镀膜的装置以及方法，该装置包括：点蒸发源阵列、加热组件、膜层监控机构和加热控制机构；点蒸发源阵列包括多个均匀排布的点蒸发源，在每个点蒸发源的外部设置加热组件；膜层监控机构包括：厚度测量器，用于监测基板的膜层厚度，成分分析器，用于监测基板的膜层成分，以及与厚度测量器和成分分析器连接的控制器，用于根据膜层厚度和膜层成分得到各个点蒸发源的蒸发量；加热控制机构与控制器和加热组件连接，用于根据蒸发量，控制加热组件对每个点蒸发源的加热输出功率。本发明通过设置多个均匀排布的点蒸发源，能够实现大面积的均匀镀膜，并通过实时监测数据，精确控制蒸发材料的蒸发量，提高了蒸发材料的有效利用率。

技术领域

本发明涉及蒸发镀膜技术领域，尤其涉及一种均匀镀膜的装置以及方法。

背景技术

蒸发镀膜常称真空镀膜。真空镀膜设备，是用于在高真空的条件下，加热金属或非金属材料的靶材，使其以原子团或离子等形式被蒸发，并在镀件表面凝结成薄膜的一种设备。

现有的薄膜太阳能电池，主要采用真空镀膜设备进行制备。在薄膜太阳能电池的制备过程中，若靶材蒸汽在镀件表面沉积的厚度差较大，会造成产品品质不均匀，膜层厚度的均匀性决定了整批次生产的薄膜太阳能电池的成品率。

在实际生产中，通常将真空镀膜设备中的蒸发源设置为点蒸发源或线性蒸发源，进行薄膜太阳能电池的制备。但是设置点蒸发源对太阳能电池基板进行蒸发镀膜，无法保证靶材蒸汽能够均匀地喷射至待蒸镀的镀件表面；而采用线性蒸发源难以实现机械调节，机械加工完成后的线性蒸发源，难以根据镀膜过程中膜层的实时性能参数进行位置调节。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种均匀镀膜的装置以及方法，能够对真空镀膜的膜层厚度进行均匀性调整，从而提高工作效率和产品良率。

为了实现上述目的，本发明采取的技术方案为：

本发明的一方面，提供了一种均匀镀膜的装置。

本发明提供的一种均匀镀膜的装置，设于蒸发镀膜腔内并位于基板传送带的下方，其特征在于，该装置包括：点蒸发源阵列、加热组件、膜层监控机构和加热控制机构；

所述点蒸发源阵列包括多个均匀排布的点蒸发源，在每个所述点蒸发源的外部设置所述加热组件；

所述膜层监控机构包括：厚度测量器，用于监测基板的膜层厚度，成分分析器，用于监测基板的膜层成分，以及与厚度测量器和成分分析器连接的控制器，用于根据所述膜层厚度和膜层成分得到各个所述点蒸发源的蒸发量；

所述加热控制机构与所述控制器和所述加热组件连接，用于根据所述蒸发量，控制所述加热组件对每个所述点蒸发源的加热输出功率。

本发明的另一方面，还提供了一种均匀镀膜的方法。

本发明提供的一种均匀镀膜的方法，包括：

将基板传送至蒸发镀膜腔内；

加热控制机构以初始加热输出功率控制加热组件对各个点蒸发源进行加热；

厚度测量器采集基板的膜层厚度数据并传输至控制器，成分分析器采集基板的膜层成分数据并传输至控制器；

控制器根据膜层厚度数据和膜层成分数据，得到各个点蒸发源的蒸发量数据并传输至加热控制机构；

加热控制机构根据所述蒸发量数据，对各个点蒸发源的加热组件加热输出功率进行调整；

加热组件根据加热控制机构调整后的加热输出功率，对各个点蒸发源进行加热。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：