[发明专利]一种均匀镀膜的装置以及方法

权利要求书

1.一种均匀镀膜的装置，设于蒸发镀膜腔内并位于基板传送带的下方，其特征在于，该装置包括：点蒸发源阵列、加热组件、膜层监控机构和加热控制机构；

所述点蒸发源阵列包括多个均匀排布的点蒸发源，在每个所述点蒸发源的外部设置所述加热组件；

所述膜层监控机构包括：厚度测量器，用于监测基板的膜层厚度，成分分析器，用于监测基板的膜层成分，以及与厚度测量器和成分分析器连接的控制器，用于根据所述膜层厚度和膜层成分得到各个所述点蒸发源的蒸发量；

所述加热控制机构与所述控制器和所述加热组件连接，用于根据所述蒸发量，控制所述加热组件对每个所述点蒸发源的加热输出功率。

2.根据权利要求1所述的均匀镀膜的装置，其特征在于，该装置还包括：腔室，所述腔室设有一个蒸发平面，所述蒸发平面与基板传送带所在平面平行，在所述蒸发平面上设有多个连通孔，所述连通孔位于各个所述点蒸发源的上方；

所述点蒸发源阵列和所述加热组件排布在所述腔室内；

所述成分分析器设于所述蒸发平面上。

3.根据权利要求2所述的均匀镀膜的装置，其特征在于，所述点蒸发源阵列，包括：沿垂直基板运动方向列排布的点蒸发源，以及沿基板运动方向行排布的点蒸发源；

同一列排布的点蒸发源中放置同一种蒸发材料；

同一行排布的点蒸发源中以预设的顺序依次放置不同蒸发材料。

4.根据权利要求3所述的均匀镀膜的装置，其特征在于，所述点蒸发源包括：坩埚、喷管和喷嘴，所述喷管的一端连通所述坩埚，另一端连接所述喷嘴；

所述坩埚，用于对蒸发材料进行蒸发；

所述喷嘴与所述连通孔一一对应，用于将所述坩埚内蒸发的蒸发材料喷向基板。

5.根据权利要求4所述的均匀镀膜的装置，其特征在于，该装置还包括：在列排布的点蒸发源之间设有隔离板，所述隔离板设于所述蒸发平面上，用于隔离不同列的喷嘴所喷出的蒸发材料。

6.根据权利要求4所述的均匀镀膜的装置，其特征在于，所述加热组件包覆于每个所述坩埚的外部，用于根据所述加热控制机构设定的加热输出功率，对所述坩埚进行加热。

7.根据权利要求6所述的均匀镀膜的装置，其特征在于，所述加热控制机构包括：

初始加热子模块，对设于点蒸发源外部的加热组件，设有对应的初始加热输出功率；

实时加热子模块，用于根据所述控制器中得到的各个点蒸发源的蒸发量，调整各个所述加热组件的加热输出功率。

8.一种均匀镀膜的方法，采用权利要求1-7任一项所述的装置，其特征在于，该方法包括：

将基板传送至蒸发镀膜腔内；

加热控制机构以初始加热输出功率控制加热组件对各个点蒸发源进行加热；

厚度测量器采集基板的膜层厚度数据并传输至控制器，成分分析器采集基板的膜层成分数据并传输至控制器；

控制器根据膜层厚度数据和膜层成分数据，得到各个点蒸发源的蒸发量数据并传输至加热控制机构；

加热控制机构根据所述蒸发量数据，对各个点蒸发源的加热组件加热输出功率进行调整；

加热组件根据加热控制机构调整后的加热输出功率，对各个点蒸发源进行加热。