[发明专利]晶体振动片及晶体振动器件有效
申请号: | 201880021121.0 | 申请日: | 2018-06-04 |
公开(公告)号: | CN110463037B | 公开(公告)日: | 2023-05-16 |
发明(设计)人: | 吉冈宏树 | 申请(专利权)人: | 株式会社大真空 |
主分类号: | H03H9/19 | 分类号: | H03H9/19 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 刘伟志 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶体 振动 器件 | ||
1.一种晶体振动片,是具有包括在一个主面上形成的第一激励电极和在另一个主面上形成的第二激励电极的近似矩形的振动部;从所述振动部的角部向AT切的Z′轴方向突出并保持着该振动部的保持部;及包围着所述振动部的外周的同时保持着所述保持部的外框部的AT切型晶体振动片,其特征在于:
所述保持部与所述外框部间的边界位于所述外框部的内周边中与X轴平行的边上的情况下,
所述振动部和所述保持部的至少一部分被形成为比所述外框部厚度薄的蚀刻区域,由于该蚀刻区域,所述保持部与所述外框部间的边界附近形成台阶,
所述第一激励电极及所述第二激励电极的引出布线被形成为,与所述台阶重叠地从所述保持部延伸到所述外框部,
所述一个主面和所述另一个主面的至少一方中,与所述引出布线重叠的部分的所述台阶的至少一部分被形成为俯视时不与X轴平行,
所述引出布线整体相对于所述台阶从不与X轴平行的部位通过。
2.如权利要求1所述的晶体振动片,其特征在于:
与所述引出布线重叠的部分的所述台阶的至少一部分被形成为俯视时不与X轴平行的直线部分。
3.如权利要求2所述的晶体振动片,其特征在于:
所述直线部分俯视时与X轴垂直。
4.如权利要求2或3所述的晶体振动片,其特征在于:
所述直线部分的长度大于等于所述引出布线的线宽度的一半。
5.如权利要求4所述的晶体振动片,其特征在于:
所述直线部分的长度大于等于所述引出布线的线宽度。
6.如权利要求1至3中任一项所述的晶体振动片,其特征在于:
所述台阶形成在比所述保持部与所述外框部间的边界更位于外框部侧之处。
7.如权利要求1至3中任一项所述的晶体振动片,其特征在于:
所述振动部及所述保持部为比所述外框部厚度薄的所述蚀刻区域,并且,所述一个主面及所述另一个主面的至少一方中,所述蚀刻区域具有从所述保持部进入到所述外框部的一部分内的进入部,
所述进入部中的所述蚀刻区域的边界线的起点形成在,偏离所述保持部的-X侧的边的延长线的位置。
8.一种晶体振动片,是具有包括在一个主面上形成的第一激励电极和在另一个主面上形成的第二激励电极的近似矩形的振动部;从所述振动部的角部向AT切的Z′轴方向突出并保持着该振动部的保持部;及包围着所述振动部的外周的同时保持着所述保持部的外框部的AT切型晶体振动片,其特征在于:
所述保持部与所述外框部间的边界位于所述外框部的内周边中与X轴平行的边上的情况下,
所述振动部和所述保持部的至少一部分被形成为比所述外框部厚度薄的蚀刻区域,由于该蚀刻区域,所述保持部与所述外框部间的边界附近形成台阶,
所述第一激励电极及所述第二激励电极的引出布线被形成为,与所述台阶重叠地从所述保持部延伸到所述外框部,
所述一个主面和所述另一个主面的至少一方中,与所述引出布线重叠的部分的所述台阶的至少一部分被形成为俯视时不与X轴平行,
所述一个主面及所述另一个主面的至少一方中,所述蚀刻区域具有从所述保持部进入到所述外框部的一部分内的进入部,该进入部中的所述蚀刻区域的边界线成为所述台阶,
所述台阶的-X侧的起点形成在所述保持部与所述外框部间的连接区域的内侧。
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