[发明专利]一种单晶硅坩埚在审
申请号: | 201810360150.1 | 申请日: | 2018-04-20 |
公开(公告)号: | CN108396373A | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 周俭 | 申请(专利权)人: | 周俭 |
主分类号: | C30B15/10 | 分类号: | C30B15/10;C30B29/06 |
代理公司: | 北京元中知识产权代理有限责任公司 11223 | 代理人: | 王明霞 |
地址: | 美国马鞋路比*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 坩埚 单晶硅 石英坩埚 瓣体 侧壁 通孔 两段式结构 单元连接 底部中心 应力集中 有效控制 中心设置 逐渐增大 坩埚本体 坩埚侧壁 受热 拆卸 配置 盛放 连通 膨胀 | ||
本发明公开了一种单晶硅坩埚,包括坩埚部本体,配置为盛放石英坩埚;所述坩埚部包括第一坩埚单元,配置为坩埚部的底部,包括至少两部分的瓣体围成,第一坩埚单元的中心设置有通孔;第二坩埚单元,与第一坩埚单元连接,形成坩埚部的侧壁;孔单元,设置于第二坩埚单元,连通坩埚部的内外空间;孔单元在第二坩埚单元圆周方向上所占的比例,自坩埚部底部一侧向另一侧逐渐增大。本发明将坩埚本体设置为两段式结构,并在底部中心设置有通孔,避免了当坩埚受热时,内部石英坩埚膨胀带来的应力集中,同时底部由瓣体结构围成,拆卸便捷;坩埚侧壁减少了侧壁厚度,增大了坩埚的容积,有效控制单晶硅氧含量以及单晶硅产量等优点。
技术领域
本发明属于半导体及太阳能晶体生长设备技术领域,具体地说,涉及一种单晶硅坩埚。
背景技术
单晶硅为一种半导体材料,一股用于制造集成电路和其它电子元件,进入21世纪后,为应对日益严重的环境问题,对清洁能源的需求促进了光伏市场的发展,晶体硅太阳能电池是光伏行业的主导产品,占市场份额的90%。在中国市场的拉动下,我国太阳能光伏发电产业发展迅速,我国太阳能电池年产量由原来占世界份额的1%发展到世界份额的70%以上。与其它晶体硅太阳能电池相比,单晶硅太阳能电池的转化率较高,但其生产成本也高。随着世界各国对太阳能光伏产业的进一步重视,特别是中国等用电大国制定了一系列的扶持政策,鼓励开发利用太阳能,另外,随着硅太阳能电池应用面的不断扩大,太阳能电池的需求量越来越大,硅单晶材料的需求量也就同比扩大。
单晶硅生长技术有两种:区熔法和直拉法,其中直拉法是目前普遍采用的方法。在直拉法生长单晶硅的方法中,主要运用的是熔体的冷凝结晶驱动原理,在固液界面处,藉由熔体温度下降,将产生由液体转换成固态的相变化。为了生长质量合格(硅单晶电阻率、氧含量及氧浓度分布、碳含量、金属杂质含量、缺陷等)的单晶硅棒,在采用直拉法生长时,必须考虑以下问题。首先是根据技术要求,选择使用合适的单晶生长设备,其次是要掌握一整套单晶硅的制备工艺、技术,包括:单晶硅系统内的热场设计,确保晶体生长有合理稳定的温度梯度;单晶硅生长系统内的氩气气体系统设计;单晶硅挟持技术系统的设计;为了提高生产效率的连续加料系统的设计;单晶硅制备工艺的过程控制。
热的传输靠三种主要模式,亦即辐射、对流及热传导。由于晶体的生长是在高温下进行,所以这三种模式都存在于系统中。在直拉法里,熔体是藉由石墨加热器的辐射热而被加热,而熔体内部的热传导则是主要靠着对流,晶棒内部的热传输主要靠着传导。另外,从液面及晶棒表面散失到外围的热则是藉由辐射作用。系统内的温度分布对晶体生长的速度(即产量,进而成本)有很大的影响,其对单晶质量也有很大的影响,包括单晶内部缺陷的大小、密度与分布,氧的含量及氧的析出物生成等。
申请号为CN201510369177.3的中国专利公开了一种单晶炉用炭素材料组合坩埚,包括由炭-炭复合材料或石墨材料制成的组合坩埚埚体,所述组合坩埚埚体包括埚筒、埚碗、埚托,所述埚筒为圆筒状,所述埚碗底部设有圆孔,埚碗由至少2瓣埚碗构件组成;所述埚托中间设有与埚碗底部圆孔相适配的凸台,凸台上设有与石英坩埚相适配的凹圆弧,埚碗装配在埚托上,埚筒装配在埚碗上沿,埚筒的底端与埚碗上部搭接。
虽然上述现有技术提供了一种使用炭素材料组合的坩埚,但由于炭素材料由纯碳元素组成的炭纤维增强炭基体复合材料,其成型由炭纤维网胎和炭布经叠层复合成预制件,其径向导热性能较差,存在着能源消耗过大、且得到的单晶硅氧含量高,进而影响其电性能的问题。
因此,有必要对现有技术的不足和缺陷进行改进,提供一种单晶硅坩埚,坩埚本体设置为两段式结构,并在底部中心设置有通孔,避免了当坩埚受热时,内部石英坩埚膨胀带来的应力集中,同时底部由瓣体结构围成,拆卸便捷;由于采用碳-碳复合材料的坩埚侧壁可以减少了侧壁厚度,相对增大了坩埚的容积,提高单晶硅的产量;侧壁孔单元的设置,提高了加热器发热体对石英坩埚及硅熔体的热量传递,在使用时节省能源,通过在侧壁上设置不同尺寸、不同形状或者分布密度不同的孔单元,可以有效控制硅熔体内部温度梯度的分布,控制硅熔体的对流,从而降低单晶硅的氧含量等优点。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于周俭,未经周俭许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810360150.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。