[发明专利]金属MO膜连续磁控溅射生产线

说明书

本发明公开了金属MO膜连续磁控溅射生产线，包括依次连接的进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室和质检室，所述进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室内均设有依次连接的传动辊，所述质检室内设有镀膜质检辊和质检系统，所述出口室内传动辊与镀膜质检辊相连，所述传动辊与镀膜质检辊用于传送镀膜基片。本发明提供的金属MO膜连续磁控溅射生产线能够实现各类大面积镀膜的大批量、低成本生产，而且溅射沉积速率高，工艺通用性强。素扩散路径短，无中间产物，无元素蒸发，因而制备速度快、效率高，良品率高达95％以上，特别适合大规模工业化生产。

技术领域

本发明涉及金属MO膜连续磁控溅射生产线，属于真空镀膜技术领域。

背景技术

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。

磁控溅射是利用荷能粒子轰击固体靶材，使靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。靶材可选用金属靶和陶瓷靶。磁控溅射制备法具有沉积速率高、基片温度低、成膜黏附性好、易控制、成本低、适合大面积制膜的优点。真空蒸镀就是将需要制成薄膜的物质放于真空中进行蒸发或升华，使之在基片表面上析出。真空蒸镀的装置比较简单，工艺参数较少，易控制薄膜的生长，薄膜中杂质含量低。但真空度的高低直接影响薄膜的结构和性能，真空度低，材料受残余气体分子污染严重，薄膜性能变差，提高衬底温度有利于气体分子的解吸。

随着真空镀膜领域中镀膜技术的日新月异，对镀膜产品的要求也越来越高，因此镀膜生产线也出现越来越多的改进，生产线的要求随之提高，现有技术的镀膜生产线的整体稳定性及镀膜均匀性，生产效率低以及相应的设备成本高。

发明内容

针对现有技术存在的上述问题，本发明的目的是提供可立式镀膜的金属MO膜连续磁控溅射生产线。

为实现上述发明目的，本发明采用的技术方案如下：

本发明的目的在于提供金属MO膜连续磁控溅射生产线，包括：依次连接的进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室和质检室，所述进口室、进口缓冲室、进口传送室、溅射室、出口传送室、出口缓冲室、出口室内均设有依次连接的传动辊，所述质检室内设有镀膜质检辊和质检系统，所述出口室内传动辊与镀膜质检辊相连，所述传动辊与镀膜质检辊用于传送镀膜基片。

优选地，所述质检系统包括光源和顺次连接的光电探测器、滤波器、A/D转换器，所述光源与光电探测器分设于镀膜质检辊两侧，所述光源发出的光透过镀膜基片被光电探测器接收，经滤波后通过A/D转换器转换为电信号。

优选地，所述质检系统还包括服务器，所述服务器与A/D转换器相连，用于将转换的电信号进行分析和对比。

优选地，所述进口缓冲室、进口传送室、溅射室和出口传送室均安装有加热装置。

更优选地，所述加热装置与各工艺室之间通过镜面板隔热。

优选地，辊轴沿垂直方向的末端设有万向轴承。

优选地，所述溅射室内设有至少一个旋转阴极。

与现有技术相比，本发明提供的金属MO膜连续磁控溅射生产线具备以下优势：

1.采用连续性立式薄膜基材的磁控溅射方式，使得薄膜在镀膜过程中减少了环境中杂质对镀膜质量的影响。