[发明专利]一种薄膜晶体管及其制作方法、显示面板

权利要求书

1.一种薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，包括：

形成金属薄膜；

在所述金属薄膜上沉积保护薄膜；

将暴露于所述保护薄膜外的金属进行刻蚀处理，以消除金属薄膜表面存在的小丘；

剥离所述保护薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述形成金属薄膜包括：

在基底上沉积第一金属薄膜，或者在基底上依次沉积第一金属薄膜和第二金属薄膜。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，第一金属薄膜的材料包括：铝，第一金属薄膜的厚度为400-700纳米；

第二金属薄膜的材料包括：钼，第二金属薄膜的厚度为10-20纳米。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述保护薄膜的材料包括：光刻胶或者氧化硅。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述保护薄膜的厚度为20-40纳米。

6.根据权利要求1-5任一所述的方法，其特征在于，将暴露于所述保护薄膜外的金属进行刻蚀处理包括：

采用湿法刻蚀溶液对暴露于所述保护薄膜外的金属进行湿法刻蚀处理。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述湿法刻蚀溶液包括：硝酸、磷酸和醋酸。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述剥离所述保护薄膜之后，所述方法还包括：通过构图工艺形成电极；

其中，所述电极包括：栅电极和/或源漏电极。

9.一种薄膜晶体管，其特征在于，采用如权利要求1-8任一所述的薄膜晶体管的制作方法制作而成。

10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求9所述的薄膜晶体管。