[发明专利]无机薄膜晶体管的制作方法、柔性显示装置

权利要求书

1.一种无机薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，包括：

在硬质基板上依次形成P型半导体层和N型半导体层；

在所述P型半导体层中形成贯穿所述N型半导体层的凹槽；

在所述N型半导体层上形成分别位于所述凹槽两侧的源极和漏极；

通过翻转转移的方式将所述P型半导体层、所述N型半导体层、所述源极和所述漏极转移到柔性基板上；

在所述P型半导体层上依次形成栅极绝缘层和栅极；

在所述栅极绝缘层上形成覆盖所述栅极的平坦层。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在硬质基板上依次形成P型半导体层和N型半导体层的方法包括：

在所述硬质基板上沉积形成半导体层；

对所述半导体层依次进行离子注入、结晶和热退火处理，以形成所述P型半导体层和所述N型半导体层。

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述P型半导体层中形成贯穿所述N型半导体层的凹槽的方法包括：

在所述N型半导体层上涂布压印光阻；

利用压印模具对所述压印光阻进行热压印成型，以在所述压印光阻中形成暴露所述N型半导体层的通孔；

将暴露出的所述N型半导体层刻蚀去除，并在所述P型半导体层中刻蚀形成所述凹槽；

将剩余的所述压印光阻去除。

4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，利用干刻的方式对暴露出的所述N型半导体层和所述P型半导体层进行刻蚀。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在翻转转移之前，在所述柔性基板上形成粘合层；

在翻转转移完成之后，所述粘合层填充于所述源极和所述柔性基板之间、所述漏极和所述柔性基板之间、所述N型半导体层和所述柔性基板之间以及所述凹槽中。

6.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述硬质基板为玻璃基板。

7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述柔性基板采用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺中的至少一种制成。

8.一种具有由权利要求1至7中任一项所述的制作方法制作的无机薄膜晶体管的柔性显示装置。

9.根据权利要求8所述的柔性显示装置，其特征在于，所述柔性显示装置为柔性有机电致发光显示装置。