[实用新型]一种化学气相沉积升降装置有效
申请号: | 201320161480.0 | 申请日: | 2013-04-02 |
公开(公告)号: | CN203174199U | 公开(公告)日: | 2013-09-04 |
发明(设计)人: | 何其保;奚晓明 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 升降 装置 | ||
1.一种化学气相沉积升降装置,其特征在于,所述化学气相沉积升降装置至少包括:静电吸盘、升降顶杆和夹持件;所述升降顶杆呈L型,升降顶杆的顶端穿过所述静电吸盘;所述升降顶杆的尾端插设于所述夹持件中;所述夹持件的上表面作为卡板从竖直方向上卡住升降顶杆尾端。
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积升降装置,其特征在于:化学气相沉积升降装置包括至少三条所述升降顶杆,每一条升降顶杆由一个夹持件所夹持。
3.根据权利要求1所述的化学气相沉积升降装置,其特征在于:所述夹持件具有一容纳所述升降顶杆尾端的空间,所述夹持件侧面设有一升降顶杆尾端插入的缺口。
4.根据权利要求1所述的化学气相沉积升降装置,其特征在于:所述升降顶杆的尾端中设有第一孔体。
5.根据权利要求3所述的化学气相沉积升降装置,其特征在于:所述夹持件上设有穿透自身侧壁且与所述第一孔体相匹配的第二孔体。
6.根据权利要求1所述的化学气相沉积升降装置,其特征在于:所述化学气相沉积升降装置还包括一固定件,该固定件插设于所述第一孔体和第二孔体中。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的