[发明专利]一种导电光刻胶及使用该导电光刻胶的OLED电极及制造方法有效

专利信息
申请号: 201210385363.2 申请日: 2012-10-12
公开(公告)号: CN102929101A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 邱勇;沈波涛;王龙;甘帅燕 申请(专利权)人: 昆山维信诺显示技术有限公司;清华大学;北京维信诺科技有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/016;G03F7/008;G03F7/00;G03F7/16;H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 寇海侠
地址: 215300 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 导电 光刻 使用 oled 电极 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种OLED电极及其制造方法,特别是一种导电光刻胶及应用该导电光刻胶的OLED电极。

背景技术

有机电致发光器件(英文全称为Organic Light Emitting Device,简写为OLED)自1987年面世以来,就因其具有低驱动电压、低功耗、主动发光、宽视角等众多优点,赢得了广泛的关注。现有技术中OLED通常采用夹层式三明治结构,即阳极层和阴极层之间加入有机发光层。氧化铟锡(英文全称indium tin oxide,简称为ITO)因具有对可见光和近红外光透明和高电导率的特点,常在OLED中作为透明的阳极。电极引线是连接电压驱动与发光器件电极的部位,OLED中若是阳极与引线同时采用ITO,这样图形可经一次光刻工艺成型,但是由于ITO的方阻较大,约为10Ω/□(方块电阻),电压降严重,一般会在ITO引线上溅射一层或若干层导电金属或合金,以提高引线电导率。现有技术中,常使用镀有二氧化硅层的有碱/无碱玻璃或者柔性高分子薄膜作为基板,在基板上磁控溅射的方法镀上一层ITO,再在ITO层上采用溅射镀膜工艺分别镀上钼(Mo)层、铝(Al)层、钼(Mo)层,简称MAM层;采用光刻工艺,将带有MAM层的ITO层制备出阳极图形和电极引线。

MAM金属层导电率高,但是需要真空镀膜设备,不但成本高,而且工艺复杂。

发明内容

为此,本发明所要解决的是现有技术中OLED电极制备成本高、工艺复杂的问题,提供一种导电光刻胶,并由所述导电光刻胶制备出成本低、工艺简单的OLED电极。

为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案如下:

一种导电光刻胶,其特征在于,所述导电光刻胶包括:

a)电阻率小于10×10-8Ω·m的导电介质,其质量百分含量为50%-70%;

b)成膜树脂,其质量百分含量为15%-25%;

c)光敏剂,其质量百分含量为1%-5%;

d)溶剂,其质量百分含量为10%-25%;

e)添加剂,其质量百分含量0-5%。

所述导电介质为导电金属粒子或者导电合金粒子。

所述导电介质优选为银粒子,其粒径在0.05-1.5μm。

所述成膜树脂为热塑性树脂;所述光敏剂为芳香族酮类衍生物或安息香醚类衍生物;所述溶剂为高沸点有机溶剂;所述添加剂包括流平剂、增稠剂和消泡剂中的至少一种。

一种OLED电极,包括电极和电极引线,所述电极与所述电极引线相连接,所述电极引线部分包括ITO层,以及覆盖在ITO层上的所述的导电光刻胶形成的涂层。

所述导电光刻胶层的厚度为1-10μm。

所述导电光刻胶层的厚度优选为4μm。

一种OLED电极的制备方法,包括如下步骤:

S1:采用光刻工艺,在ITO基板上制备出电极和电极引线的图形;

S2:清洗;

S3:在基板带有电极的一面上涂布一层所述的导电光刻胶,制备覆盖所述电极引线层的导电光刻胶层;

S4:前烘、干燥;

S5:利用掩膜紫外曝光、显影形成电极引线图案;

S6:后烘、固化。

所述步骤S3中所述导电光刻胶层采用的涂布方法为狭缝涂布。

所述步骤S3中所述导电光刻胶层的厚度为4μm。

所述步骤S6中后烘的温度范围为130℃-250℃。

本发明的上述技术方案相比现有技术具有以下优点:

1、所述导电光刻胶制备成本低、导电性好、附着力强、硬度大。

2、所述OLED电极,使用所述导电光刻胶作为提高导电性的介质,导电效果好。

3、所述OLED电极,使用所述导电光刻胶作为提高导电性的介质,制备工艺简单、成本低,适合大规模生产。

4、所述导电光刻胶层采用狭缝涂布设备涂布,可以很大程度的节省原料,降低了成本。

5、所述导电光刻胶的固化温度为130-250℃,温度范围大,可以在高分子柔性基板,如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET),形成电极图案,可以运用于柔性显示或照明的应用中。

附图说明

为了使本发明的内容更容易被清楚的理解,下面根据本发明的具体实施例并结合附图,对本发明作进一步详细的说明,其中

图1本发明所述OLED电极制备方法流程图。

具体实施方式

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