[发明专利]接合物体的方法和组合体有效
申请号: | 201110293820.0 | 申请日: | 2011-09-29 |
公开(公告)号: | CN102431272A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 钟显耀;D.沙弗 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | B32B37/12 | 分类号: | B32B37/12;B32B5/00;B32B7/12 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接合 物体 方法 组合 | ||
1.一种接合方法,在彼此相对放置的接合表面(2a,3a)上将第一物体(2)接合到平板状第二物体(3),第二物体(3)在至少一个方向(X)上突出超过第一物体(2)的边缘(2’),要被接合的所述物体(2,3)形成为定位台的一部分,具体地用于微光刻的晶片台或掩模母版台,所述方法包括:
在至少一个所述接合表面上(2a)制造多个间隔体(4a至4e,4a’至4e’),
施加粘合剂(5)到所述间隔体(4a至4e,4a’至4e’)之间的中间间隔(6a至6d)中并且超过外部间隔体(4e,4e’)直到粘合剂周边(5a),所述粘合剂周边(5a)形成在所述第一物体(2)的边缘(2’),以及
通过将所述接合表面(2a,3a)与所述间隔体(4a至4e)接触而接合所述物体(2,3),
设置所述粘合剂周边(5a)与最外的间隔体(4e)之间的指定距离(d),以设置所述施加的粘合剂(5)收缩之后所述平板状物体(3)的变形的期望状态,在所述期望状态所述平板状物体(3)的弯曲被最小化。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述粘合剂周边(5a)与最外的间隔体(4e)之间的所述指定距离(d)设在20μm至250μm之间,优选在30μm至200μm之间,特别是在40μm至150μm之间。
3.如权利要求1或2所述的方法,其中所述间隔体(4a至4e,4a’至4e’)布置为彼此相距距离(L),距离(L)为0.3mm以上,优选1mm以上,特别是5mm以上。
4.如前述权利要求中任一所述的方法,其中所述平板状物体(3)的厚度(P)选择为5mm或更小,优选2mm或更小,特别是1mm或更小。
5.如前述权利要求中任一所述的方法,其中所述平板状物体(3)的弹性模量与所述粘合剂的弹性模量之间的商值位于5至300之间,优选在10至200之间。
6.如前述权利要求中任一所述的方法,其中所述粘合剂(5)的收缩率在0.1%至5%之间,优选在2%至4%之间,特别是在2.5%至3.5%之间。
7.如前述权利要求中任一所述的方法,其中所述粘合剂(5)选自包括2组分粘合剂和1组分粘合剂的组,2组分粘合剂特别是环氧粘合剂,1组分粘合剂特别是UV可固化粘合剂。
8.如前述权利要求中任一所述的方法,其中所述粘合剂(5)的动态粘度小于5000mPa,优选小于3000mPa,特别是小于2500mPa。
9.如前述权利要求中任一所述的方法,其中所述间隔体通过微定位形成为布置在所述接合表面(2a)上的填充物(4a至4e),或者形成为通过微结构化所述接合表面(2a)而产生的凸起(4a’至4e’)。
10.如前述权利要求中任一所述的方法,其中所述填充物(4a至4e)或所述凸起(4a’至4e’)的最大宽度(b)小于250μm,优选小于100μm。
11.一种组合体(1),所述组合体形成为定位台,特别是作为用于微光刻的晶片台或掩模母版台,所述组合体包括:
第一物体(2),
平板状第二物体(3),其在至少一个方向(X)上突出超过所述第一物体(2)的边缘(2’),所述第一物体(2)和所述第二物体(3)利用粘合剂(5)在彼此相对放置的接合表面上(2a,3a)彼此接合,
至少一个所述接合表面(2a,3a)具有多个间隔体(4a至4e,4a’至4e’),且所述粘合剂(5)既施加到所述间隔体(4a至4e,4a’至4e’)之间的中间间隔(6a至6e)中,又超过外部间隔体(4e,4e’)直到粘合剂周边(5a),所述粘合剂周边(5a)形成在所述第一物体(2)的边缘(2’),
所述粘合剂周边(5a)与所述外部间隔体(4e)之间距离(d)在20μm至250μm之间,优选在30μm至200μm之间,特别是在40μm至100μm之间,以设置平板状物体(3)在所述施加的粘合剂(5)收缩之后的变形的期望状态,在所述期望状态所述平板状物体(3)的弯曲被最小化。
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