[发明专利]功能性膜的制造方法无效

专利信息
申请号: 201110254003.4 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN102383091A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 小野寺大辅 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C23C14/00 分类号: C23C14/00;C23C14/56
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 功能 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及在真空中对基材膜进行成膜,与保护膜层叠,并将该层叠体卷绕成筒状的功能性膜的制造方法。

背景技术

目前,在基材的表面形成阻气膜、光反射膜、防光反射膜、表面保护膜等显示目标功能的膜而成的功能性膜被利用于各种用途中。另外,作为这样的功能膜,已知有各种无机膜(由无机化合物形成的膜)。

例如,就阻气膜而言,已知的是在基材膜(以下简称为基材)上形成有氮化硅膜、氧化硅膜的阻气膜。

在这样的功能性膜的制造中,可利用等离子CVD、溅射、真空蒸镀等气相生长法形成用于显示功能的无机膜。

另外,作为连续地形成这样的无机膜来以高生产性、生产效率制造功能性膜的方法,已知有利用所谓的辊至辊(Roll to Roll以下也称为RtoR)进行成膜的装置。RtoR中,从卷绕成筒状而成的基材卷送出长条状的基材,边沿长度方向输送,边进行阻气膜的成膜等,再次将完成成膜后的基材卷绕成筒状,由此在长条状的基板连续地进行成膜,并能够以高生产性实现制造。

这样的功能性膜的制造中,因由输送辊对进行的输送或者与其他的构件的接触等使无机膜受损伤时,有可能无法制造具有目标性能的功能性膜。

尤其利用前述的RtoR进行的装置中,用于输送长条状的基材的输送辊对,有可能会使无机膜受损伤。另外,由RtoR进行的装置中,因完成成膜后的基材的卷绕,使无机膜的表面与基材的背面滑动接触,所以由于成膜的无机膜的强度、基材背面的表面粗糙度等,有时会使无机膜受损伤。

进而,为了制造高品质的制品,无机膜的表面最好尽量保持洁净。

因此,阻气膜等的功能性膜的制造中,如专利文献1所示,为了保护成膜后的阻气膜等,在基材上使无机膜成膜后,在成膜的无机膜的表面层叠/粘贴保护膜,来保护无机膜。

利用这样的保护膜的功能性膜的制造中,保护膜的目的归根到底是保护制造过程中的无机膜。

因此,在该功能性膜成为最终制品的阶段,保护膜被剥离。或者使无机膜成膜后的功能性膜(最终制品的中间体)在剥离了保护膜后,供于表面处理、或供于进一步对上层进行无机膜的成膜等接下来的工序中的处理。

例如,所述专利文献1记载的RtoR的装置中,在实施了基于真空蒸镀的成膜后,在基材上层叠保护膜并进行输送,在即将卷绕基材前,剥离保护膜,进行基材的卷绕。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开平1-185836号公报

发明内容

发明想要解决的问题

不过,这样的功能性膜的制造中,尽管不使用保护膜时能够制作具有目标性能的制品,但使用保护膜且进行卷绕时,有时不能制造具有目标性能的制品。

即,在基材上使无机膜成膜后,未层叠保护膜,另外,即便层叠保护膜也不进行卷绕时,如果在不与无机膜接触的情况下输送或处理,则多数情况下可以得到没有任何问题的良好的制品。

与此相对,真空中,在完全同样的基材上使相同的无机膜成膜,层叠保护膜并进行层叠体的卷绕时,有时会使无机膜受损伤,且由于该无机膜的损伤而功能性膜无法发挥目标性能。

本发明的目的在于解决所述以往技术问题,即在于提供能很好地防止对无机膜的损伤并稳定地制造发挥目标性能的功能性膜的功能性膜的制造方法,所述制造方法中,在真空中,在基材膜上形成显示目标功能的无机膜,层叠用于保护无机膜的保护膜,并将该层叠体卷绕成筒状。

用于解决问题的方法

为了实现所述目的,本发明的功能性膜的制造方法的特征在于,在真空中边将长条状的基材膜沿长度方向输送,边利用气相生长法在所述基材膜的表面使无机膜成膜,并对所述无机膜进行加热处理后,将保护膜抵接在所述无机膜上进行层叠,且将该基材膜与保护膜的层叠体卷绕成筒状。

这样的本发明的功能性膜的制造方法中,以使所述无机膜成膜时的基材膜的温度作为基准温度,优选以所述基材膜的温度比该基准温度低5℃的温度以上的方式进行所述无机膜的加热处理。

另外,优选以所述基材膜的最高温度低于该基材膜上产生褶皱的温度的方式进行所述无机膜的加热处理。

进而,优选以使所述基材膜的温度在设定的目标温度以上保持1秒以上的方式,进行所述无机膜的加热处理。

另外,在所述无机膜的加热处理后,且在将所述保护膜与无机膜抵接而进行层叠之前,优选对所述基材膜进行冷却。

另外,所述无机膜优选为具有阻气性的膜,所述具有阻气性的膜特别优选为氮化硅膜、氧化硅膜、氧化铝膜中的任意一种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110254003.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top