专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种晶圆临时合方法-CN201610285817.7在审
  • 赵滨;陈勇辉 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2016-04-29 - 2017-11-07 - H01L21/683
  • 本发明提供一种晶圆临时合方法,包括步骤1、提供一载片,在所述载片的第一面上开设多个真空槽;步骤2、提供一晶圆,在真空环境下将所述晶圆的与所述载片的第一贴合,并通过合胶将所述合面的边缘与所述载片的第一合形成合片本发明提供晶圆临时合方法,在真空环境下将所述晶圆的与所述载片的第一贴合,并通过合胶将所述合面的边缘与所述载片的第一合形成合片,通过合片中的真空槽来实现合,对合胶处理简单方便,工艺简单
  • 一种临时方法
  • [实用新型]一种帽组装机-CN202120545109.9有效
  • 彭友品 - 深圳市富云帝科技有限公司
  • 2021-03-16 - 2021-11-09 - H01H11/00
  • 本实用新型涉及键盘组装技术领域,特别涉及一种帽组装机,包括装配机构,装配机构包括平行设置的按压板和接触板,按压板设置有按压柱,接触板远离按压板的一侧设置有帽容纳槽,工作时帽被吸取并定位于帽容纳槽中,界定帽容纳槽与帽接触的为抵靠,抵靠为一斜面,抵靠设置有压柱孔,按压柱与压柱孔对应设置,通过将帽容纳槽设置为斜面,当吸取帽时,帽的非安装贴合倾斜的抵靠帽的安装面上设置的勾扣和卡扣均可精确对位安装,解决现有帽组装设备难以精确对位的问题。
  • 一种组装
  • [发明专利]一种SOI晶圆及制造方法-CN202210526183.5在审
  • 蒋兴教;梁昕;郭晨浩;宋飞;张涛 - 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司
  • 2022-05-16 - 2022-10-14 - H01L21/762
  • 本发明涉及一种SOI晶圆及制造方法,该制造方法包括:提供第一硅晶圆和第二硅晶圆;分别在第一硅晶圆的和第二硅晶圆的形成氧化层;分别对第一硅晶圆的及第二硅晶圆的进行等离子体注入;将等离子体注入后的第一硅晶圆的与第二硅晶圆的合;合后,对第一硅晶圆的非进行第一次减薄;第一次减薄后,在第二硅晶圆的非形成介质层。本发明在SOI晶圆的第二硅晶圆背面沉积一层介质层,可降低SOI晶圆的应力和弯曲度,并且该介质层是在第一硅晶圆与第二硅晶圆合后且对第一硅晶圆第一次减薄后形成,有利于减少第一硅晶圆与第二硅晶圆合面的合空洞
  • 一种soi制造方法
  • [实用新型]双面显示屏手机-CN200420063893.6无效
  • 马占祥 - 马占祥
  • 2004-11-29 - 2005-11-16 - H04M1/02
  • 本实用新型公开了一种双面显示屏手机,由外壳、机芯、电池、卡构成,手机A面有显示屏、接听或呼出、通话结束或关机、按键式数码、功能;B面有显示屏、接听或呼出、通话结束或关机、功能;A、B各自装有机芯、机卡,两套机芯与一块电池构成实现各自功能的通路,A、B之间合页连接。手机A面的数码由麻将中的“并”、“条”、“万”标示符对应表示,“0”由“白板”、“中”、“发”表示,A“※、#”功能由“东、西”或“南、北”表示。具有民族特色,手感强烈,适合特殊人群需要;手机一正常显示,另一为超大屏幕显示,为增加显示内容提供硬件支持;双屏显示,双面使用,拨出、接听方便。
  • 双面显示屏手机
  • [外观设计]带分组交互图形用户界面的显示屏幕面板-CN202230139118.8有效
  • 许均海;王丽 - 亮风台(上海)信息科技有限公司
  • 2022-02-28 - 2022-08-19 - 14-04
  • 在设计1界变化状态图1中点击组1的“+”(或通过快捷“shift+数字1”)进入设计1界变化状态图2或设计1界变化状态图3或设计1界变化状态图4,或者在设计1主视图中通过快捷(“shift在设计1界变化状态图2中点击队员对应的添加(“+”)进入设计1界变化状态图5、添加该队员到组1内,同时该队员对应的添加(“+”)变为删除(“‑”)。同理,在设计1界变化状态图4中点击队员对应的添加(“+”)进入设计1界变化状态图6、添加该队员到组1内,同时该队员对应的添加(“+”)变为删除(“‑”)。在设计1界变化状态图7中点击组队(或通过快捷“shift”)进入设计1界变化状态图8,在设计1界变化状态图8中点击组1对应(或通过快捷“shift+数字1”)重新进入设计1界变化状态图在设计1界变化状态图7中通过快捷(“shift+数字7”)或在设计1界变化状态图8中点击组7的“+”(或通过快捷“shift+数字7”)添加队员后点击完成后进入设计1界变化状态图9。
  • 分组交互图形用户界面显示屏幕面板
  • [发明专利]一种片上单晶材料的制备方法-CN201911278691.0在审
  • 殷华湘;林翔;罗彦娜;刘占峰 - 中国科学院微电子研究所
  • 2019-12-13 - 2020-05-12 - H01L21/762
  • 本发明公开了一种片上单晶材料的制备方法,包括以下步骤:提供半导体衬底,其具有第一合互连;于第一合互连,对半导体衬底进行热氧化处理,在半导体衬底上形成热氧化层;提供芯片;其中,芯片具有第二合互连;对半导体衬底的热氧化层与芯片的第二合互连进行低温合处理;对半导体衬底的另一进行减薄处理,以在芯片上保留预设厚度的半导体衬底。本发明提供的片上单晶材料的制备方法,在进行合互连前,于第一合互连,对后续与芯片进行合的半导体衬底进行热氧化处理,在半导体衬底的上表面形成热氧化层,这样在后续进行热氧化层与芯片的第二合互连进行低温合处理时,可以大幅度的提升氢键成比例、提升合强度。
  • 一种片上单晶材料制备方法
  • [实用新型]一种遥控器按键结构-CN202222575235.6有效
  • 黄雪明 - 广东辰奕智能科技股份有限公司
  • 2022-09-28 - 2023-03-24 - H01H13/04
  • 本实用新型公开了一种遥控器按键结构,包括底壳、电路板、弹性内衬件、确认、方向和面壳,在壳上设置有通孔,通孔的周边设置键位槽,确认安装于通孔,并在边缘设置台阶部,弹性内衬件与确认抵接,键位槽设有若干挂孔,方向上则设有挂钩,方向安装于键位槽,且挂钩扣入挂孔,弹性内衬件与方向抵接。本实用新型遥控器按键结构,将确认安装在通孔中,方向则安装在键位槽中,即可降低通孔的开设面积,缩小壳的减胶范围,使壳整体强度更好,同时弹性内衬件分别对确认和方向进行抵接,从而使确认壳之间、方向壳之间均无间隙,故避免异响,且确认与方向之间无关联,因此不会发生联动情况。
  • 一种遥控器按键结构
  • [发明专利]一种PMMA芯片与PDMS芯片的不可逆合方法-CN201110107372.0无效
  • 杨乾乾;丁继亮;孙晓朋 - 西北工业大学
  • 2011-04-28 - 2011-12-14 - C08J7/12
  • 一种PMMA芯片与PDMS芯片的不可逆合方法,将PMMA芯片与PDMS芯片分开加工。利用反应离子刻蚀机的B室对PMMA芯片的进行氧等离子体处理,用电晕放电仪对PDMS芯片的进行处理,并合理控制处理参数。将处理后的PDMS芯片的和PMMA芯片的合面相互贴合并固紧,得到不可逆合的芯片。本发明充分利用了PMMA和PDMS的优点,使PMMA芯片的和PDMS芯片的由亲水性变为疏水性,从而提高了合成功率,增强了PMMA芯片与PDMS芯片的合强度。
  • 一种pmma芯片pdms可逆方法
  • [发明专利]三维存储器及其制造方法-CN201811352970.2有效
  • 刘峻 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2018-11-14 - 2020-08-21 - H01L23/488
  • 所述三维存储器包括:第一晶圆,具有第一以及暴露于所述第一合面的第一导电层;第二晶圆,具有朝向所述第一设置的第二以及暴露于所述第二合面的第二导电层;粘合层,位于所述第一与所述第二之间,并与所述第一、第二连接,所述粘合层具有用于电性连接所述第一导电层与所述第二导电层的掺杂部,所述掺杂部中包括自所述第一导电层和/或所述第二导电层扩散而来的导电粒子。本发明提高了第一晶圆与第二晶圆的合强度,改善了合后形成的三维存储器的性能。
  • 三维存储器及其制造方法
  • [发明专利]硅与硅真空合装置及合方法-CN03104016.0无效
  • 冯勇建;吴青海 - 厦门大学
  • 2003-02-11 - 2004-08-18 - H01L21/02
  • 涉及一种利用密封真空腔体和加力合的硅与硅真空合装置及合方法。设有上盖、底座和密封圈,密封圈设于上盖与底座之间,在上盖和底座中设管道,在上盖或底座中由真空腔内至外部设真空腔管道。合方法为在合装置的密封真空合腔体中灌入氧气或氮气,在腔体内形成正压,将硅片清洗,甩干后放入合装置的上盖的下方和底座的上方,打开阀门,抽真空。可实用于硅与硅、硅与玻璃、硅与硅重掺杂P+、硅与碳化硅、硅与砷化镓材料的预合。预合强度极强,广泛应用在SOI硅片的生产,微机电器件中硅与硅、硅与氧化层面、硅与P+掺杂面、硅与碳化硅、硅与玻璃材料合的工艺。制作成本低,合成功率高,容易成批量生产。
  • 真空装置方法

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