专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]静电吸盘-CN201910149763.5有效
  • 片山宝;山口康介;板仓郁夫;籾山大;白石纯;西愿修一郎 - TOTO株式会社
  • 2019-02-28 - 2023-06-30 - H01L21/683
  • 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够提高强度。提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、在从所述第2主面到所述第1主面的跨度上设置的穿通孔;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有连通于所述穿通孔的气体导入路;及第1多孔质部,设置于所述穿通孔,其特征为,所述第1多孔质部具有位于所述陶瓷电介体基板侧的第1区域,所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1区域侧的第1基板区域,所述第1区域与所述第1基板区域被设置成接触,所述第1区域中的平均粒径不同于所述第1基板区域中的平均粒径。
  • 静电吸盘
  • [发明专利]静电吸盘-CN202310336113.8在审
  • 山口康介;白石纯;板仓郁夫;籾山大;西愿修一郎 - TOTO株式会社
  • 2019-02-28 - 2023-06-23 - H01L21/683
  • 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够确保对电弧放电的抗性及流动的气体流量,同时能够提高多孔质部的机械强度(刚性)。提供一种静电吸盘,其特征为,第1多孔质部具有:疏松部分,具有多个孔;及紧密部分,具有比疏松部分的密度更高的密度,多个疏松部分分别在从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向上延伸,紧密部分位于多个疏松部分的彼此之间,疏松部分具有设置在孔与孔之间的壁部,在与第1方向大致正交的第2方向上,壁部的尺寸的最小值比紧密部分的尺寸的最小值更小。
  • 静电吸盘
  • [发明专利]静电吸盘-CN201910149165.8有效
  • 山口康介;白石纯;板仓郁夫;籾山大;西愿修一郎 - TOTO株式会社
  • 2019-02-28 - 2023-06-20 - H01L21/683
  • 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够实现电弧放电的降低及气体流动的顺畅化。提供一种静电吸盘,其特征为,陶瓷电介体基板具有位于第1主面与第1多孔质部之间的第1孔部,陶瓷电介体基板及第1多孔质部中的至少任意一个具有位于第1孔部与第1多孔质部之间的第2孔部,在与从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向大致正交的第2方向上,第2孔部的尺寸比第1多孔质部的尺寸更小,比第1孔部的尺寸更大。
  • 静电吸盘
  • [发明专利]静电吸盘以及处理装置-CN202211003084.5在审
  • 佐佐木雄基;白石纯;籾山大;河野玲绪 - TOTO株式会社
  • 2022-08-19 - 2023-03-03 - H01L21/683
  • 本发明的目的在于提供一种可长期维持电弧放电的抑制效果的静电吸盘以及处理装置。提供一种静电吸盘,具备:接合部,设置在基板与基座板之间;气体导入路,具有位于基板的第1孔部、位于基座板的第2孔部和位于接合部的第3孔部;锪孔部,设置在第1孔部及第2孔部的至少任意一个;及多孔质部,具有向第3孔部露出的露出面且设置在锪孔部,当将从基座板朝向基板的方向作为第1方向时,多孔质部具有:具有透气性的多孔部;及与多孔部相比更致密的致密部,致密部被配置成覆盖多孔部的外周,致密部的至少一部分构成从露出面沿着第1方向朝着第3孔部突出的第1突出部。
  • 静电吸盘以及处理装置
  • [发明专利]静电吸盘以及处理装置-CN202210997609.5在审
  • 佐佐木雄基;白石纯;籾山大;河野玲绪 - TOTO株式会社
  • 2022-08-19 - 2023-03-03 - H01L21/683
  • 本发明的目的在于提供一种可长期维持电弧放电的抑制效果的静电吸盘以及处理装置。提供一种静电吸盘,具备:接合部,设置在基板与基座板之间;气体导入路,具有位于基板的第1孔部、位于基座板的第2孔部和位于接合部的第3孔部;锪孔部,设置在第1孔部;多孔质部,具有第3孔部侧的第1面和第1面相反侧的第2面,设置在锪孔部;及弹性体,被设置成与接合部的第3孔部侧的端部相对,多孔质部的侧面具有第1面侧的第1侧部,在第1侧部中的至少与第1面相连的区域中,设置有倾斜的第1倾斜部,第1面与接合部及弹性体发生重叠,多孔质部在第1倾斜部处与弹性体发生接触。
  • 静电吸盘以及处理装置
  • [发明专利]静电吸盘-CN202080036383.1在审
  • 佐藤真树;板仓郁夫;西愿修一郎;白石纯;籾山大;小林幸太 - TOTO株式会社
  • 2020-08-24 - 2022-01-28 - H01L21/683
  • 本发明提供一种静电吸盘,具备:导电性的基座板,具有第1部分和设置在所述第1部分的外周的第2部分,设置有导入冷却气体的气体导入路;第1静电吸盘部,设置在所述第1部分上,构成为可吸附晶片,具备具有连通于所述气体导入路的至少一个穿通孔的陶瓷电介体基板和内置于所述陶瓷电介体基板的第1吸附电极;及第2静电吸盘部,设置在所述第2部分上,构成为可吸附聚焦环,具备具有可导入冷却气体的至少一个穿通孔的陶瓷层,所述陶瓷层至少具有当所述聚焦环吸附于所述第2静电吸盘部时接触所述聚焦环的第1层,所述第1层的致密度构成为小于所述陶瓷电介体基板的致密度。由此,提供一种可提高设备的成品率的静电吸盘。
  • 静电吸盘
  • [发明专利]静电吸盘-CN202010227806.X在审
  • 籾山大;佐佐木均 - TOTO株式会社
  • 2020-03-27 - 2020-10-09 - H01L21/683
  • 本发明提供一种静电吸盘,在极低温的环境下,能够抑制发生陶瓷电介体基板从基座板的剥离及陶瓷电介体基板的裂开。一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板;金属制的基座板,支撑所述陶瓷电介体基板;及接合层,设置在所述陶瓷电介体基板与所述基座板之间且含有树脂材料,其特征为,满足相关于接合层的伸长率、接合强度、弹性模量的第1~第6条件中至少任意一个。
  • 静电吸盘
  • [发明专利]静电吸盘-CN202010200242.0在审
  • 佐佐木均;籾山大 - TOTO株式会社
  • 2020-03-20 - 2020-09-29 - H01L21/683
  • 静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有第1、第2主面;基座板;第1电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与高频电源连接;及第2电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与吸附用电源连接,其特征在于,第1电极层在Z轴方向上被设置在第1主面和第2主面之间,第1电极层的Z轴方向上的尺寸比第2电极层的Z轴方向上的尺寸更大,第2电极层在Z轴方向上被设置在第1电极层和第1主面之间,第1电极层具有第1主面侧的第1面和与第1面呈相反侧的第2面,在从第2面侧供电的静电吸盘上,第1电极层包含陶瓷成分和金属成分,陶瓷成分的浓度及金属成分的浓度的至少任一在Z轴方向上不均匀。
  • 静电吸盘
  • [发明专利]静电吸盘-CN202010200600.8在审
  • 佐佐木均;籾山大 - TOTO株式会社
  • 2020-03-20 - 2020-09-29 - H01L21/683
  • 静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有第1、第2主面;基座板;第1电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与高频电源连接;及第2电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与吸附用电源连接,其特征在于,第1电极层在Z轴方向上被设置在第1主面和第2主面之间,第1电极层的Z轴方向上的尺寸比第2电极层的Z轴方向上的尺寸更大,第2电极层在Z轴方向上被设置在第1电极层和第1主面之间,第1电极层具有第1主面侧的第1面和与第1面呈相反侧的第2面,从第2面侧进行供电,第1电极层包含陶瓷成分和金属成分,且具有包含第1面的第1部分,第1部分上的陶瓷成分的浓度比第1电极层的陶瓷成分的平均浓度更高。
  • 静电吸盘
  • [发明专利]静电吸盘-CN201910675335.6在审
  • 籾山大;佐佐木均 - TOTO株式会社
  • 2019-07-25 - 2020-02-11 - H01J37/32
  • 本发明提供一种静电吸盘,其能够在提高等离子体密度的面内均匀性的同时也提高RF敏感性。具备:第1电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部,连接于高频电源;及第2电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部,连接于吸附用电源,第1电极层在Z轴方向上设置于第1主面与第2主面之间,第2电极层在Z轴方向上设置于第1电极层与第1主面之间,第1电极层具有第1主面侧的第1面及第1面相反侧的第2面,且从第2面侧被供电,其特征为,第1面与第1主面之间的沿向Z轴方向的距离呈一定,在第1电极层的端部处的第2面与第1面之间的沿向Z轴方向的距离,小于在第1电极层的中央部处的第2面与第1面之间的沿向Z轴方向的距离。
  • 电极层主面陶瓷电介体基板等离子体面内均匀性高频电源静电吸盘中央部面侧吸附电源供电

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