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- [发明专利]投影曝光装置-CN200410003749.8无效
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饭塚和央;磯端純二;田中信义
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佳能株式会社
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2004-01-30
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2004-08-11
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G03F7/20
- 公开一种适合给图案重复曝光的小型且低成本的投影曝光装置。投影曝光装置具有：把光照射到具有多列掩模图案的掩模，用于给曝光图案列重复曝光的照明系统、把所述掩模来的光投射到所述被曝光部件上的投影系统、移动所述被曝光部件的曝光工作台、以及移动所述掩模的掩模载台。交替进行所述光照射和以所述曝光图案排列间距n倍的移动量移动所述被曝光部件的所述曝光工作台的步进驱动。并且，随着在对所述曝光图案重复曝光的初期和末期的所述曝光工作台的步进驱动，以所述曝光图案排列间距的n倍的移动量移动所述掩模。
- 投影曝光装置
- [发明专利]扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法-CN202110847346.5在审
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上野卓郎;板桥宏明
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佳能株式会社
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2021-07-27
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2022-01-28
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G03F7/20
- 本公开涉及扫描曝光装置、扫描曝光方法以及物品制造方法。扫描曝光装置针对由照明光学系统照明的照明区域扫描原版，并且一边与原版的扫描同步地扫描基板，一边对基板进行扫描曝光。扫描曝光装置具备：第1调整机构，在进行基板的第1区域的扫描曝光以及与第1区域部分地重复的第2区域的扫描曝光的模式下调整被照射到第1区域与第2区域的重复区域的曝光光的照度分布；第2调整机构，调整照明区域的形状；以及控制部，在执行以在重复区域的整个区域使曝光量超过目标曝光量的方式使第1调整机构动作的第1调整动作之后，执行以在重复区域使曝光量收敛于目标曝光量的容许范围的方式使第2调整机构动作的第2调整动作。
- 扫描曝光装置方法以及物品制造
- [发明专利]图形描绘装置和图形描绘方法-CN200710154365.X无效
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林秀树;井上正雄
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大日本网目版制造株式会社
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2007-09-26
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2008-05-28
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G03F7/20
- 在该图形描绘装置中，通过向主扫描方向上的多次曝光扫描来进行图形描绘。在先行的曝光扫描和后续的曝光扫描之间，曝光头相对基板(9)在副扫描方向上相对移动的幅度(h)比一个扫描区域(As)在副扫描方向上的幅度(w)短。由此，通过先行的曝光扫描和后续的曝光扫描，使扫描区域As的一部分重复。因此，在毗邻的扫描区域As的连接点形成了实施过先行的曝光扫描和后续的曝光扫描两次曝光扫描的重复范围(B1)。在重复范围B1内，由于能够使曝光头两端部的不均匀特性的影响混匀平整，所以能够缓解在扫描区域As的连接点产生的不均。
- 图形描绘装置方法
- [发明专利]曝光方法、曝光装置和制造物品的方法-CN201810874025.2有效
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小泉僚;中村忠央
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佳能株式会社
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2018-08-03
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2021-07-27
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G03F7/20
- 本发明公开了曝光方法、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种曝光方法，所述曝光方法用于重复地执行用于经由投影光学系统对基板进行曝光的曝光处理，所述方法包括：第一曝光处理，所述第一曝光处理用于测量所述投影光学系统的光学特性，并且在基于所述测量的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光；第二曝光处理，所述第二曝光处理用于在基于通过预测公式估计所述光学特性的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光，其中，重复地执行所述第一曝光处理，并且在其中判断所确定的所述预测公式的系数已收敛的所述第一曝光处理之后开始所述第二曝光处理
- 曝光方法装置制造物品
- [发明专利]曝光方法及装置-CN202310930335.2在审
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肖宇涵
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无线生活（北京）信息技术有限公司
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2023-07-26
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2023-10-13
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G06F16/9535
- 本公开是关于曝光方法及装置。该方法包括：获取各个用户群体针对每一内容类别的Beta分布函数；根据待曝光的内容对应的内容类别和待曝光的群体获取对应的目标Beta分布函数；根据目标Beta分布函数对应的概率密度函数获取待曝光的内容的预估点击率；根据待曝光的内容对应的重复曝光时间间隔获取待曝光的内容基于时间衰减的阈值；在阈值大于预估点击率时，曝光待曝光的内容；在阈值小于预估点击率时，过滤待曝光的内容。由于是基于事实数据的反馈，以及时间衰减的考虑，随着重复曝次数的增加，曝光过滤判断的置信度不断提升，从而提升了曝光的准确性。
- 曝光方法装置
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