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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]曝光方法、曝光装置和制造物品的方法-CN201810874025.2有效
发明人：小泉僚;中村忠央 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了曝光方法、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种曝光方法，所述曝光方法用于重复地执行用于经由投影光学系统对基板进行曝光的曝光处理，所述方法包括：第一曝光处理，所述第一曝光处理用于测量所述投影光学系统的光学特性，并且在基于所述测量的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光；第二曝光处理，所述第二曝光处理用于在基于通过预测公式估计所述光学特性的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光，其中，重复地执行所述第一曝光处理，并且在其中判断所确定的所述预测公式的系数已收敛的所述第一曝光处理之后开始所述第二曝光处理。
曝光方法装置制造物品

[发明专利]决定方法、曝光方法、信息处理装置、介质以及制造方法-CN201810491571.8有效
发明人： 中村忠央;小泉僚 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2018-05-22 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及决定方法、曝光方法、信息处理装置、介质以及制造方法。一种决定方法，是在将掩模的图案经由投影光学系统转印到基板的曝光装置中决定在表示所述投影光学系统的成像特性的变动的模型式中使用的表示所述成像特性的饱和值的系数的决定方法。
决定方法曝光信息处理装置介质以及制造

[发明专利]测量装置、光刻装置和制造物品的方法-CN202010592420.9在审
发明人：古卷贵光;中村忠央 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种测量装置、光刻装置和制造物品的方法。所述测量装置测量包括第一标记和第二标记的被检体的位置，并且包括：摄像单元，其被构造为在视场中包含第一标记和第二标记的状态下拍摄第一标记和第二标记；以及偏振元件，其被构造为在入射到摄像单元上的来自第一标记的光和来自第二标记的光中产生彼此不同的偏振方向。
测量装置光刻制造物品方法

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