专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种红色釉料及其制备方法-CN201610833584.X在审
  • 崔松伟 - 崔松伟
  • 2016-09-20 - 2017-03-22 - C03C8/00
  • 釉面具有较高光泽、表面光滑致密、硬度大、抗酸碱侵蚀性好,提高产品的使用性能,增加产品的美感和产品艺术性,釉料流动性好,悬浮性能好,合理的铝含量和钾钠含量,使釉面滑透明又提高了白光泽,坯釉结合性能好,釉面呈色均匀稳定,红色鲜艳明亮并且具有玉石之感,最终得到的陶瓷产品釉面滑均匀,釉面红色鲜亮饱满、纯正没有色差、光泽好。
  • 一种红色釉料及其制备方法
  • [发明专利]一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺-CN202110881727.5在审
  • 徐介胜;吴晴 - 江苏波登新材料科技有限公司
  • 2021-08-02 - 2021-11-19 - B29C48/00
  • 本发明公开一种高光釉面石晶墙/地砖生产工艺,不使用传统的PVC耐磨层,而是通过压延和表面淋涂的方式,使色彩和质感更加饱满,光泽达到90以上,采用的技术方案为:将包括聚氯乙烯、钙粉、加工助剂在内的原材料用加温挤塑T型模具挤塑成石晶墙/地砖;然后用五辊压延机使其表面光洁平滑;再在传输轨道上冷却定型;将冷却定型的石晶墙/地砖用辊涂加淋涂混合方式使石晶墙/地砖的表面光达到90以上,然后再用膜压机在其表面附一层高光膜并整平,成为高光釉面石晶墙/地砖;其中,辊涂包括两个工艺参数不同的第一辊涂和第二辊涂;将做好的高光釉面石晶墙/地砖的四边开槽,方便安装。
  • 一种釉面石晶墙地砖生产工艺
  • [发明专利]釉上彩粉青瓷的制备工艺-CN202110301115.4有效
  • 李玉桃 - 福建省德化县嘉发陶瓷有限公司
  • 2021-03-22 - 2022-12-30 - C04B33/13
  • 釉上彩粉青瓷的制备工艺,所述粉青瓷包括坯体、粉青釉和彩料;粉青釉由以下原料组成:德化石英、硼镁石、石棉粉、德化高岭土、紫金土、熔块、氧化钇,本发明制备的粉青瓷釉色青绿淡雅、青绿中显粉白,釉面柔和、细腻,该粉青瓷精确限定粉青釉的原料组成,并对熔块的化学组分进行严格的把控,引入紫金土与熔块配合,以使烧制后的瓷器釉面呈粉青;引入硼镁石与氧化钇配合,以增大釉对光的折射,提高釉面光泽,是釉面柔和、细腻
  • 釉上彩粉青瓷制备工艺
  • [发明专利]一种改变膜表面光的方法-CN201811099770.0有效
  • 孙树成;介兴明;王哲;曹义鸣;王仁华;张树彬 - 江苏润华膜业科技有限公司
  • 2018-09-20 - 2021-01-29 - B29C41/26
  • 本发明公开了一种改变膜表面光的方法。在流延成膜的操作步骤中,主动流延辊前增加硅胶压辊,通过调节气压,改变硅胶压辊和主动流延辊相互贴合的压力,从而使膜的表面光发生改变,压力越大,光泽越小;改变硅胶压辊和主动流延辊的距离,距离越大,膜的表面光越大本发明改变膜表面光的方法,通过物理调节的方法,调节流延膜的光泽,硅胶压辊和主动流延辊相互贴合的压力大小及硅胶压辊和主动流延辊的距离均能够调节膜的表面光,从而在配方不变的条件下满足客户对于光泽的需求
  • 一种改变表面光泽方法
  • [发明专利]光泽处理装置-CN201310049248.2有效
  • 岛尾聪;高桥克典;玉木贤二;林健一;泉宫由美子;吉村和俊 - 柯尼卡美能达商用科技株式会社
  • 2013-02-07 - 2013-08-14 - G03G15/00
  • 本发明提供一种光泽处理装置,防止光泽处理时的装置内的卡纸的发生及图像不良的发生。背面用光泽处理装置的控制部从背面用光泽测定部(420)取得由背面用光泽测定部(420)测定的纸张背面侧的光泽的测定数据(S110)。通过从背面用光泽测定部取得的纸张背面侧的光泽是否比预先设定的阈值大,判断纸张的背面侧是否进行了光泽处理(S120)。在纸张背面侧的光泽比阈值小的情况下,判断为纸张的背面侧未进行光泽处理,并判断现在设定的运转模式是否为正面光处理用的正面光处理模式(S130)。在判断为现在的运转模式不是正面光处理模式的情况下,将运转模式从现在设定的背面光处理模式自动切换成正面光处理模式(S160)。
  • 光泽处理装置

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