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[发明专利]金属工件表面光泽度的控制方法及金属薄膜的制备方法-CN202110790618.2有效
发明人： 邬登辉 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-07-13 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G01N21/57 文献下载
摘要：本公开提供了一种金属工件表面光泽度的控制方法以及制备金属薄膜的方法。金属工件表面光泽度的控制方法包括：提供金属工件；检测金属工件的表面光泽度，得到第一检测值；根据第一检测值不同，采用不同工艺对金属工件进行处理，使金属工件的表面光泽度达到生产需求。使用本公开的控制方法，提高金属工件的表面光泽度，从而改善所形成的金属薄膜的电阻率和膜厚均匀度。
金属工件表面光泽控制方法薄膜制备

[发明专利]半导体系统及半导体工艺方法-CN201911106424.5有效
发明人： 邬登辉 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2019-11-13 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种半导体系统及半导体工艺方法；包括：信号采集模块，用于采集半导体机台的状况；清洗处理模块，用于在半导体机台处于需要进行清洗处理的状况时自动对半导体机台的工艺腔室进行清洗处理；机况自动切换模块，用于在清洗处理后且符合机况切换条件时将半导体机台的状况自动切换至测机状况。上述半导体系统中在半导体机台处于需要清洗处理的状况时可以自动对半导体机台的工艺腔室进行清洗处理，且在清洗处理结束后将半导体机台的状况自动切换至测机状况，整个过程完全自动化，大大降低了人力和时间，避免了误操作的隐患，提高了机台的正常运行时间，提高了半导体机台的产能。
半导体系统工艺方法