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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]选择性焊接系统-CN201380053338.7在审
发明人：托恩·科莱恩 -专利权人：伊利诺斯工具制品有限公司
申请日： 2013-11-20 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： B23K3/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于焊接电子电路板的选择性焊接设备，提供了至少一个用于液体焊料的容器、具有至少一个焊接喷嘴的焊接结构以及至少一个用于将液体焊料输送到焊接结构的泵，在焊接结构的上方提供了用于至少部分地阻止焊接结构的气流向上的内阻止装置
选择性焊接系统

[发明专利]陶瓷选择性膜-CN201780009260.7在审
发明人：利洛·D·波佐;安东尼·威廉·莫雷蒂;格雷戈里·M·纽勃姆;亚伦·韦斯特;伊顿·里弗斯 -专利权人：华盛顿大学
申请日： 2017-02-02 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： B01J13/02 文献下载
摘要：本发明公开了陶瓷选择性膜和通过在多孔膜基材上形成选择性二氧化硅陶瓷来形成陶瓷选择性膜的方法。代表性的陶瓷选择性膜包括离子传导膜(例如，质子传导膜)和气体选择性膜。膜的代表性用途包括并入燃料电池和氧化还原液流电池(RFB)中作为离子传导膜。
选择性膜陶瓷离子传导膜氧化还原液流电池二氧化硅陶瓷多孔膜基材气体选择性质子传导膜燃料电池

[发明专利]光谱选择性面板-CN201380062799.0在审
发明人：米哈伊尔·瓦西列夫;卡迈勒·阿拉梅赫;维克托·罗森贝格 -专利权人：特罗皮格拉斯科技有限公司
申请日： 2013-12-03 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： E06B3/66 文献下载
摘要：本公开内容提供了一种光谱选择性面板，其对于波长在可见波长范围内的辐射至少部分地透射。
光谱选择性面板

[发明专利]选择性氢化方法-CN201480033659.5在审
发明人： R·B·华生;G·A·米勒 -专利权人：陶氏技术投资有限责任公司
申请日： 2014-06-19 - 公布日： 2016-02-17 - 主分类号： C07C5/05 文献下载
摘要：一种通过将氢分级馈入到方法中来降低烯烃的二烯含量的方法。
选择性氢化方法

[发明专利]选择性香味分配-CN201580015553.7在审
发明人：萨姆尔·乌尔 -专利权人：萨姆尔乌尔创新有限公司
申请日： 2015-04-13 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： A61L2/00 文献下载
摘要：用于选择性香味分配的计算机实现方法、计算机化设备以及计算机程序产品。
选择性香味分配

[发明专利]选择性反向传播-CN201680056229.4在审
发明人： R·B·托瓦;D·J·朱里安 -专利权人：高通股份有限公司
申请日： 2016-09-07 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： G06N3/08 文献下载
摘要：在梯度阶段作出调整，其中利用选择性反向传播来修改成本函数，以基于数据集中的类别示例频度来调整或选择性地应用梯度。可基于具有最少成员的类别的示例数目与当前类别的示例数目的比率来确定用于修改梯度的因子。
反向传播机器学习模型成本函数数据集中训练数据应用梯度频度关联平衡

[发明专利]选择性衰减耳塞-CN201380067803.2有效
发明人：雅各布·H·埃利 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2013-12-19 - 公布日： 2016-11-30 - 主分类号： A61F11/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种选择性衰减耳塞(300)。在示例性实施例中，一种选择性衰减耳塞包括能够在第一位置和第二位置之间进行调节的开关(330)，并且所述开关包括至少一个悬臂弹簧臂(333,334)。
选择性衰减耳塞

[发明专利]选择性烯烃提取-CN201380060818.6有效
发明人：凯文·约翰·施温特;罗伯特·J·布鲁默 -专利权人：鲁姆斯科技公司
申请日： 2013-10-09 - 公布日： 2016-10-19 - 主分类号： C07C7/08 文献下载
摘要：公开了利用极性溶剂通过提取蒸馏分离丁烯和丁烷的方法和系统。所述方法可以包括：将包含丁烷和丁烯的烃混合物与贫溶剂混合物在提取蒸馏塔中接触，形成包含丁烯的富溶剂馏分；从所述提取蒸馏塔回收包含丁烷的塔顶馏分和塔底馏分；将所述塔底馏分进给到包括汽提段和洗涤段的汽提塔；从汽提塔回收作为塔底馏分的所述贫溶剂混合物以及包含丁烯和水的汽提塔塔顶馏分；冷凝所述塔顶馏分以形成水馏分和产物丁烯馏分；将水作为回流进给到汽提塔洗涤段的顶部；将所述冷凝水馏分的至少一部分作为第二回流进给到所述汽提塔洗涤段的顶部和底部中间。
选择性烯烃提取

[发明专利]选择性混合ARQ-CN200880022213.7有效
发明人： B·哈姆策 -专利权人：英特尔公司
申请日： 2008-06-16 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： H04L1/18 文献下载
摘要：简言之，根据一个或多个实施例，可以根据较长期和/或较短期分组错误率统计要在应用的一个或多个需求内来选择性地执行HARQ过程。结果，可以减少或最少化HARQ过程的重传的次数。
选择性混合 arq

[发明专利]选择性SiARC去除-CN201780019678.6有效
发明人：希亚姆·斯里达尔;王立;安德鲁·诺兰;浩人大竹;谢尔盖·沃罗宁;阿洛克·兰詹 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-02-23 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： G03F7/11 文献下载
摘要：描述了用于选择性硅抗反射涂层(SiARC)去除的方法和系统。方法的实施方式包括在处理室中设置基板，基板包括：抗蚀剂层、SiARC层、图案转移层和底层。
去除基板图案转移层抗蚀剂层图案转移抗反射涂层目标集成选择性硅配置创建

[发明专利]光谱选择性面板-CN201280032948.4有效
发明人：维克托·罗森贝格;米哈伊尔·瓦西列夫;卡迈勒·阿拉梅赫 -专利权人：特罗皮格拉斯科技有限公司
申请日： 2012-06-29 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明公开内容提供一种光谱选择性面板，该光谱选择性面板包括第一材料，该第一材料对于波长在可见波长范围内的光是至少部分透射的并且被布置为用于引导适当的光。布置第一材料并且定向衍射元件使得与从光谱选择性面板的横向方向入射的IR光相关联的至少一部分能量沿着面板导向面板的侧部。
光谱选择性面板

[发明专利]离子选择性电极-CN201280004374.X有效
发明人：桥本忠范;石原笃;西尾友志;岩本惠和 -专利权人：国立大学法人三重大学;株式会社堀场制作所
申请日： 2012-01-06 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： G01N27/333 文献下载
摘要：本发明提供一种离子选择性电极，感应部的电阻小，响应精度高，能提高机械强度，并且感应部的形状自由度高，容易制造。离子选择性电极包括内部电极（4）、与所述内部电极（4）接触的内部液体（5）、以及具有与所述内部液体（5）接触的面和与试样溶液接触的面的感应部（3）。所述感应部（3）包括电子导电性支承体（31）以及位于所述电子导电性支承体（31）上并且形成于与所述试样溶液接触的面、且含有金属氧化物的膜（32）。所述金属氧化物是从由二氧化钛、二氧化锆、氧化铝和二氧化硅构成的组中选择的至少一种化合物。
离子选择性电极

[发明专利]选择性内容提取-CN200980160237.3有效
发明人： S.刘;P.乔施;Y.熊;C.阿特金斯;J.刘 -专利权人：惠普开发有限公司
申请日： 2009-06-30 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： G06F17/30 文献下载
摘要：一种用于提取网页内容的方法包括在网页页面内检测包括多个节点的分级结构。识别来自多个节点的潜在文章节点。将在分级结构中具有最高等级的所识别的潜在文章节点识别为文章节点。从文章节点提取内容。
选择性内容提取

[发明专利]选择性分集组合-CN98807115.0有效
发明人： J·巴克曼;S·哈坎松;T·林德奎斯特 -专利权人：艾利森电话股份有限公司
申请日： 1998-05-12 - 公布日： 2003-10-01 - 主分类号： H04B7/08 文献下载
摘要：可在每个脉冲串，半个脉冲串，或其它合适的间隔上组合来选择该分集组合技术。
选择性分集组合

[发明专利]选择性刻蚀方法-CN200580004648.5有效
发明人：哈瑞德·克劳斯;马汀·科莱斯 -专利权人： SEZ股份公司
申请日： 2005-02-07 - 公布日： 2007-02-21 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：公开了一种选择性刻蚀方法，其通过将液体刻蚀剂以足够快的流速流经衬底表面以产生平行于衬底表面的最低平均速度v，来对衬底上第一材料进行选择性刻蚀，而且对第二材料具有高度选择性。
选择性刻蚀方法

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