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[发明专利]载置器-CN201010279468.0有效
发明人：古宫山常夫;堀田启之;西尾彰 -专利权人：日本碍子株式会社;NGK阿德列克株式会社
申请日： 2010-09-10 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： C04B41/85 文献下载
摘要：本发明提供一种烧成用载置器，在烧成含有钛成分的陶瓷电容器时，在载置器与陶瓷电容器的接触部分或其附近不会发生化学反应，不会有在陶瓷电容器上发生变色、热粘结或因组成改变而使特性降低的问题。在含有钛成分的陶瓷电容器的烧成中使用的载置器，在基材的表面具备含有锆酸盐的表层，该表层的钛成分的含量以氧化钛计，为0～0.1质量％。
载置器

[发明专利]基片处理装置和基片输送方法-CN201880022064.8有效
发明人：诧间康司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-04-04 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明实施方式的基片处理装置包括承载器载置部(11)、基片载置部、第一输送装置(13)、多个处理部、第二输送装置(17)和控制部(18)。承载器载置部(11)载置收纳多个基片的承载器(C)。基片载置部能够载置多个基片。第一输送装置(13)在载置于承载器载置部(11)的承载器(C)与基片载置部之间输送基片。多个处理部处理基片。第二输送装置(17)在多个处理部与基片载置部之间输送基片。此外，控制部(18)以第一输送装置(13)从承载器(C)取出基片而将其载置到基片载置部并且从基片载置部取出基片而收纳到承载器(C)为止的所需时间以上的时间间隔，使第一输送装置(13)执行从承载器(C)取出基片而将其载置到基片载置部的取出动作
处理装置输送方法

[发明专利]载置台装置、光刻装置以及物品制造方法-CN202010964290.7在审
发明人：栗原孝史 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-09-15 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及载置台装置、光刻装置以及物品制造方法。[课题]提供对微动载置台的定位的高精度化有利的载置台装置。[解决方法]载置台装置具有：粗动载置台；微动载置台；电磁致动器，配置于所述粗动载置台与所述微动载置台之间，在沿着所述粗动载置台的表面的方向上对所述微动载置台提供推力；以及控制部，控制所述电磁致动器，所述控制部根据所述粗动载置台的驱动开始位置，决定所述电磁致动器的控制参数。
载置台装置光刻以及物品制造方法

[发明专利]载置台及载置方法-CN201810258928.8有效
发明人：井出伸树 -专利权人：新东超精密有限公司
申请日： 2018-03-27 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： B25H1/02 文献下载
摘要：提供一种能够将工件高精度地载置于所希望的位置的载置台及载置方法。所述载置台为载置矩形形状的工件的载置台(2)，具备对载置所述工件的所述载置台的表面(10a)的平面度进行调整的平面度调整部(4a～4x)，所述平面度调整部具备：螺栓(16)，配置于贯通所述载置台的贯通孔(28)；第一球面垫片(18)，被所述螺栓插通，在所述载置台的表面侧且在所述贯通孔的入口配置；第二球面垫片(20)，被所述螺栓插通，在所述载置台的背面侧且在所述贯通孔的出口配置；调整螺钉(22)，配置在所述载置台的背面侧
载置台方法

[发明专利]探测装置和晶片装载器-CN201410060208.2无效
发明人：秋山收司;雨宫浩 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-02-21 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种探测装置和晶片装载器。其能够使晶片收纳容器的载置高度应对由搬运机械手进行的自动搬运，且能够与大型的测试头等对应。进行形成于半导体晶片的半导体器件的电检查的探测装置，具备探测器部，其具有载置台、驱动载置台使其上所载置的半导体晶片的半导体器件与探测器接触的载置台驱动机构、容纳载置台和载置台驱动机构的探测器壳体；和晶片装载器，其具备装载器壳体、载置晶片收纳容器的收纳容器载置部、使该收纳容器载置部移动至装载器壳体外的第一位置和在装载器壳体内比第一位置低的第二位置的收纳容器载置部驱动机构、容纳于装载器壳体内且能够在晶片收纳容器与载置台之间搬运半导体晶片的晶片搬运机构
探测装置晶片装载

[发明专利]搬运装置-CN200410069804.3有效
发明人：上田胜彦 -专利权人：株式会社大福
申请日： 2004-07-12 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： B65G1/04 文献下载
摘要：在检出进退自如地设置在输送台上的物品载置台上的物品载置状态的变化时，为了提高检出传感器的电缆的寿命，在输送台上的固定支柱(32b)上设置物品载置状态检出传感器(31)，在物品载置台(15)上设置反射板(若物品载置台(15)上物品载置状态没有发生变化，操作体(34)受物品载置台(15)上载置的容器(3)的推压操作使反射板(33)下降。于是，来自物品载置状态检出传感器(31)的激光(a)照射反射板(33)，物品载置状态检出传感器(31)检出反射板(33)。若物品载置台(15)上物品载置状态发生变化，操作体(34)因赋能被上升操作，使反射板(33)上升。于是，来自物品载置状态检出传感器(31)的激光(a)从反射板(33)移出，物品载置状态检出传感器(31)不能检出反射板(33)。
搬运装置

[发明专利]载置台、检查装置和温度校正方法-CN202080038993.5在审
发明人：山崎祯人;望月纯 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-05-23 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： G01K1/143 文献下载
摘要：本发明提供载置台、检查装置和温度校正方法。载置台是载置被检查基片的载置台，具有多个温度传感器和电极焊盘。多个温度传感器分别测量载置台的多个部位的温度。电极焊盘与温度传感器分别连接，并设置于载置面。
载置台检查装置温度校正方法

[外观设计]喷雾洗净消毒器-CN95304233.2无效
发明人：中尾春树;田卷利惠子 -专利权人：日东工器株式会社
申请日： 1995-04-22 - 公布日： 1996-04-17 - 主分类号： 05-05 文献下载
摘要：喷雾器本体的后视图__喷雾器本体的俯视图__喷雾器本体的仰视图__载置台的仰视图__载置台的俯视图__载置台的后视图__载置台的右视图载置台的主视图__载置台的左视图__喷雾器本体的右视图__喷雾器本体的主视图喷雾器本体的左视图
喷雾洗净消毒器

[发明专利]烧成用载置器-CN200910140021.2有效
发明人：古宫山常夫;堀田启之;中西泰久 -专利权人：日本碍子株式会社;NGK阿德列克株式会社
申请日： 2009-07-14 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： F27D5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种烧成用载置器，解决了：在含有低熔点金属氧化物的部件的烧成时，由低熔点金属氧化物和载置器成分的化学反应引起载置器的结晶项结构由以往的刚玉型晶体结构转变成尖晶石型晶体结构，并由该变化引发的应力产生载置器的弯曲或载置器表层的剥离这样的问题一种烧成用载置器，含有基材(3)和涂层，通过使该涂层预先为尖晶石型晶体结构，可以防止部件烧成时改变涂层的晶体结构。
烧成用载置器

[发明专利]烧成用载置器-CN200910177608.0无效
发明人：古宫山常夫;中西泰久;西尾彰 -专利权人：日本碍子株式会社;NGK阿德列克株式会社
申请日： 2009-09-24 - 公布日： 2010-05-26 - 主分类号： F27D5/00 文献下载
摘要：本发明提供一种的载置器。在含有低熔点金属氧化物的部件烧成时，扩散到氧化锆质载置器的表层的低熔点金属氧化物在烧成温度下诱发产生锆酸盐的化学反应，由该锆酸盐生成而产生的应力，导致载置器的弯曲或断裂、破损这样现象的问题，本发明的载置器可以消除这些问题并能够长时间使用在由氧化锆烧成体构成的基材(2)的表面上，通过预先设置含有锆酸盐的表层(1)，从而防止在部件烧成时载置器的表面上，来自部件的低熔点金属氧化物和氧化锆反应而进行锆酸盐化。
烧成用载置器

[实用新型]光学元件载置器-CN02241201.8无效
发明人： -专利权人：
申请日： 2002-06-28 - 公布日： 2003-07-23 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：一种光学元件载置器，其用于光学滤片测量装置中，以放置光学元件，光学元件载置器包含一基座、一第一限制件以及一第二限制件。第二限制件的第一侧面的相对侧面与其第二侧面之间形成有一渐靠近通孔的斜侧面，使第二限制件的斜侧面与第一限制件的斜侧面形成一朝通孔限缩的漏斗状，且第一限制件的第二侧面以及第二限制件的第二侧面与挡部形成一用以容置该光学元件的容置空间
光学元件载置器

[发明专利]烧成用载置器-CN201780049644.1在审
发明人：渡边敬一郎;松叶浩臣 -专利权人：日本碍子株式会社;NGK阿德列克株式会社
申请日： 2017-09-04 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： F27D3/12 文献下载
摘要：一种烧成用载置器，为陶瓷制的，且具备表面层、中间层和背面层。中间层具有蜂窝结构，其密度低于表面层和背面层的密度。另外，表面层为平板状，厚度为50μm～2000μm。
表面层烧成用载置器背面层中间层蜂窝结构开口气孔平板状陶瓷制

[发明专利]基板处理装置、温度测定单元及半导体器件的制造方法-CN201780015489.1有效
发明人：油谷幸则;桧山真 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2017-01-25 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：提供一种基板处理装置，具备：基板载置部，其具有载置面且在该载置面上载置基板；加热部，其对载置于载置面的基板进行加热；和能够弹性的温度传感器，其顶端构成温度检测部，温度传感器从载置面之下延伸至载置面之上，顶端从载置面突出。另外，提供一种半导体器件的制造方法，具备：将基板载置于基板载置部的载置面并使突出到载置面上的温度传感器的顶端与基板背面接触、以顶端与载置面相比被下压到下方的方式使温度传感器弹性变形的工序；对基板进行加热的工序；和使用温度传感器对基板的温度进行测定的工序。
处理装置温度测定单元半导体器件制造方法

[发明专利]成膜装置和温度控制方法-CN201910912532.5有效
发明人：野泽秀二;山口达也 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：一种成膜装置，通过蒸镀聚合在被处理基板形成聚合物的膜，所述成膜装置具备载置台、载置台加热器、顶板加热器、控制装置。载置台设置于收容被处理基板的处理容器内，用于载置被处理基板。载置台加热器设置于载置台内，对被载置于载置台上的被处理基板进行加热。顶板加热器设置于与载置台相向的处理容器的顶板。控制装置对载置台加热器和顶板加热器的温度进行控制。另外，控制装置通过以第一温度单位控制载置台加热器的温度来以第一温度单位控制被处理基板的温度。另外，控制装置通过以第二温度单位控制顶板加热器的温度来通过经由顶板放射的辐射热以比第一温度单位更精细的温度单位控制被处理基板的温度。
装置温度控制方法

[发明专利]原稿扫描装置-CN02126908.4有效
发明人：吉田克信 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2002-07-25 - 公布日： 2003-03-05 - 主分类号： G06K9/20 文献下载
摘要：一种原稿扫描装置，它具有载置原稿的载置板；扫描单元，它相对于前述载置板移动，并扫描该原稿；分隔器构件，它在前述载置板上滑动磨擦，并限制前述载置板与前述扫描单元的间隔；前述分隔器构件沿前述扫描单元的移动方向以线接触方式接触于前述载置板
原稿扫描装置

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