专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]萃取装置-CN99224988.0无效
  • 吴士杰 - 吴士杰
  • 1999-09-03 - 2000-08-30 - B01D11/00
  • 该萃取装置包括萃取液贮槽、管路、超临界状态发生器和萃取器。其要点是用超临界状态发生器取代现有的萃取装置中的高压泵。超临界状态发生器由圆柱形发生器壳体和加热水套构成,加热水套套装在圆柱形发生器壳体上。超临界状态发生器通过管路分别与萃取液贮槽和萃取器连接。本实用新型由于去掉了高压泵,大幅度降低了产品的生产成本,且使用方便。
  • 萃取装置
  • [发明专利]色谱仪-CN201810155318.5有效
  • 服部考成 - 株式会社岛津制作所
  • 2018-02-23 - 2021-10-08 - G01N30/02
  • 在色谱仪(1)中,在将色谱柱内的液体置换成超临界状态的二氧化碳时,通过流量控制部(432)控制第1泵的动作,以恒定压力供给超临界状态的二氧化碳。因此,在将色谱柱内的液体置换成超临界状态的二氧化碳时,能够抑制对色谱柱施加过量的压力。另外,流量控制部(432)控制第1泵(3)的动作,以使得其后当超临界状态的二氧化碳的流量达到规定的流量时,以恒定流量供给超临界状态的二氧化碳。因此,能够使在色谱仪(1)中用于供给超临界状态的二氧化碳的动作自动化,能够提高用户的操作性。
  • 色谱仪
  • [发明专利]半导体装置-CN200380109304.1无效
  • 近藤英一;V·韦津;久保谦一;暮石芳宪;太田与洋 - 东京毅力科创株式会社;近藤英一
  • 2003-12-26 - 2006-03-08 - C23C18/04
  • 本发明的课题是,在形成了Cu扩散防止膜的微细图案上形成Cu膜的情况下,通过使用超临界状态介质的清洗方法,对被处理基板上的该Cu扩散防止膜表面进行清洗,再使用超临界状态的介质进行Cu膜的成膜,使得Cu膜与微细图案的密合性良好本发明使用基板处理方法解决了上述课题,该方法其特征在于,包括:将包含超临界状态介质的第一处理介质供给被处理基板,对被处理基板表面上包含金属的膜进行清洗的第一工序;和将包含上述超临界状态介质的第二处理介质供给上述被处理基板
  • 半导体装置
  • [发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202180021242.7在审
  • 山口侑二 - 株式会社斯库林集团
  • 2021-01-13 - 2022-12-06 - H01L21/304
  • 超临界干燥处理中,一边防止因气液界面的产生而引起的基板的污染,一边通过处理流体以较高的置换效率置换附着于基板的液体。为了该目的,本发明的基板处理方法具备如下步骤:第一步骤(步骤S104),对收容基板的腔室内导入气相的处理流体;第二步骤(步骤S105),使腔室内的处理流体自气相不经由液相而变化为超临界状态;第三步骤(步骤S106),使腔室内的处理流体自超临界状态变化为液相;第四步骤(步骤S107),使腔室内的处理流体自液相变化为超临界状态;及第五步骤(步骤S108),使腔室内的处理流体自超临界状态不经由液相而变化为气相并自腔室排出
  • 处理方法装置

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