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[实用新型]脉冲激光沉积系统-CN201721304052.3有效
发明人：石永敬 -专利权人：重庆科技学院
申请日： 2017-10-11 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本实用新型提供一种脉冲激光沉积系统，该系统包括真空室、衬底承载架、非平衡磁极辅助靶、激光器和光路系统，其中衬底承载架设置在真空室的下侧，非平衡磁极辅助靶设置在真空室内且其面向真空室内侧的一面上设置有至少一对磁极且在该对磁极之间形成有非平衡磁场，在该对磁极之间设置有靶材，激光器产生的激光束通过光路系统聚焦至所述靶材表面，以在靶材上产生烧蚀等离子体，烧蚀等离子体在非平衡磁场的作用下做进一步电离并均匀分布至靶材表面。通过本实用新型，可以有效解决激光沉积薄膜的厚度及成分的均匀性。
磁极脉冲激光沉积系统等离子体本实用新型非平衡磁场靶材表面光路系统激光器承载架非平衡真空室靶材衬底烧蚀室内激光沉积有效解决激光束均匀性电离薄膜聚焦

[发明专利]一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的装置-CN201310113758.1有效
发明人：丁洪斌;吴兴伟;李聪;张辰飞 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2013-04-03 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： G01N5/02 文献下载
摘要：本发明涉及脉冲激光沉积镀膜领域，公开了一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的装置，包括：脉冲沉积(PLD)镀膜系统，激光诱导击穿光谱（LIBS）测量系统，石英晶体微天平（QCM）测量系统。本发明基于脉冲激光沉积镀膜技术、激光诱导击穿光谱技术、石英晶体微天平测膜厚技术，能实时原位在线测量脉冲激光沉积镀膜薄膜化学计量比及各成分质量，且不会对镀膜过程有干扰，并且搭建简单，易于操作；适用于脉冲激光沉积镀膜领域
一种在线测量 pld 薄膜化学计量比及成分质量装置

[实用新型]一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的装置-CN201320161843.0有效
发明人：丁洪斌;吴兴伟;李聪;张辰飞 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2013-04-03 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： G01N5/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及脉冲激光沉积镀膜领域，公开了一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的装置，包括：脉冲沉积(PLD)镀膜系统，激光诱导击穿光谱（LIBS）测量系统，石英晶体微天平（QCM）测量系统。本实用新型基于脉冲激光沉积镀膜技术、激光诱导击穿光谱技术、石英晶体微天平测膜厚技术，能实时原位在线测量脉冲激光沉积镀膜薄膜化学计量比及各成分质量，且不会对镀膜过程有干扰，并且搭建简单，易于操作；适用于脉冲激光沉积镀膜领域
一种在线测量 pld 薄膜化学计量比及成分质量装置

[发明专利]脉冲激光沉积设备的镀膜控制方法、系统及脉冲激光沉积设备-CN201810677440.9在审
发明人：张晓军;罗敏;胡凯;陈志强;方安安;姜鹭;潘恒;王岩;王峻岭 -专利权人：深圳市矩阵多元科技有限公司
申请日： 2018-06-27 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及薄膜材料制造技术领域，公开了一种脉冲激光沉积设备的镀膜控制方法、系统及脉冲激光沉积设备。所述脉冲激光沉积设备的镀膜控制方法，包括：在脉冲激光束进行镀膜时，实时采集真空腔内的辉羽图像；分析实时采集的辉羽图像中的聚焦光斑亮度数据、辉羽形状数据和激光光斑在靶材上的位置数据；将分析出的聚焦光斑亮度数据、辉羽形状数据和激光光斑在靶材上的位置数据与对应预设的标准数据进行匹配；以及根据匹配结果判断脉冲激光沉积设备的镀膜过程是否正常。本发明准确、方便快捷地实现了脉冲激光沉积设备镀膜过程的实时监控控制，提升了脉冲激光沉积设备镀膜的工作效率和稳定性。
脉冲激光沉积设备镀膜控制镀膜过程激光光斑聚焦光斑亮度数据实时采集位置数据形状数据靶材镀膜图像脉冲激光束薄膜材料标准数据工作效率匹配结果实时监控真空腔预设匹配分析制造

[实用新型]一种磁控和脉冲激光共沉积装置-CN200920101609.2有效
发明人：刘保亭;李晓红;赵庆勋;郭庆林;王英龙 -专利权人：河北大学
申请日： 2009-02-23 - 公布日： 2009-12-09 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型提供一种磁控和脉冲激光共沉积装置，其特征在于：在一个真空腔体中设置有磁控溅射靶材和脉冲激光沉积靶材和一个共用的样品台，样品台上固定沉积基片，真空腔体上开设石英窗，真空腔体外设置有用于脉冲激光沉积的激光器；磁控溅射靶材的调位机构；脉冲激光沉积靶材的转动控制机构和样品台的转动控制机构。本实用新型可以在同一套物理气相沉积系统中同时进行磁控溅射和脉冲激光沉积，充分发挥磁控溅射和脉冲激光沉积各自的优势，利用磁控溅射生长纳米薄膜结构，且在其生长的过程中利用脉冲激光沉积共溅射出一些零维或一维的纳米结构
一种脉冲激光沉积装置

[实用新型]脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统-CN201821036025.7有效
发明人：代瑞娜;张晓军;胡凯;陈志强;方安安;姜鹭;潘恒;王岩;王峻岭 -专利权人：深圳市矩阵多元科技有限公司
申请日： 2018-07-02 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本实用新型涉及薄膜材料加工技术领域，公开了一种脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统。所述脉冲激光沉积设备的水冷循环装置，包括设置在脉冲激光沉积设备外壳上的第一水冷管以及水冷机，所述第一水冷管的端口与所述水冷机的第一端口密封连接，所述水冷机用于向所述第一水冷管循环输出水冷液。本实用新型的技术方案，使脉冲激光沉积设备的外壳及真空仓可持续降温，避免了薄膜被杂质污染和被氧化，提升了脉冲激光沉积设备薄膜制备的质量、重复性和稳定性。
脉冲激光沉积设备水冷循环装置水冷管水冷机脉冲激光沉积系统本实用新型加工技术领域薄膜材料薄膜制备端口密封杂质污染真空仓水冷薄膜输出

[发明专利]一种脉冲激光沉积系统-CN201110006928.7无效
发明人：胡居广;刁雄辉;林晓东;李启文;钟健;施苇;刘毅;龙井华 -专利权人：深圳大学
申请日： 2011-01-13 - 公布日： 2011-05-11 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明适用于激光技术领域，提供了一种脉冲激光沉积系统，所述脉冲激光沉积系统包括用于产生脉冲激光的激光器、使所述脉冲激光投射于靶材的振镜、将所述脉冲激光聚焦于所述靶材的聚焦镜、驱动所述振镜振动的振镜转轴、驱动所述靶材旋转的靶材转轴以及驱动基片旋转的基片转轴，所述振镜倾斜设置于所述振镜转轴，所述振镜转轴与投射于所述振镜的脉冲激光束共线，称为同轴振镜；所述靶材转轴和基片转轴不共线。本发明采用同轴振镜扫描，各脉冲激光于振镜上的入射角相同，反射率不变，经振镜反射后的能量一致；振镜振动过程中各脉冲激光于靶材上的光斑大小相同，因而产生羽辉的成份、能量及其角度分布一致，沉积薄膜的均匀性佳。
一种脉冲激光沉积系统

[实用新型]激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置-CN201220171657.0有效
发明人：杨海峰;刘磊;郝敬斌;朱华 -专利权人：中国矿业大学
申请日： 2012-04-23 - 公布日： 2012-12-05 - 主分类号： C25D5/00 文献下载
摘要：一种激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置，包括脉冲激光光刻系统和电化学沉积装置，激光光刻系统由脉冲激光模块、光路传输模块和三维移动模块依次顺序连接；脉冲激光模块由脉冲激光器和控制器组成。采用脉冲激光光刻技术对预先旋涂了光刻胶的金属材料表面进行光刻，然后浸入显影液中除去曝光的光刻胶，继而采用电化学沉积技术对材料表面进行复合镀层的可控电沉积，最后再清除未被曝光的光刻胶，在金属材料表面得到带有规则微观织构的表面复合镀层结合激光光刻加工技术与电化学沉积技术，实现材料表面减摩抗磨性能的最大化。
激光光刻辅助电化学沉积制备微织构装置

[发明专利]P型半导体氧化锌薄膜,其制备方法,和使用透明基片的脉冲激光沉积方法-CN201010212424.6无效
发明人：刘冰;胡振东;车勇;上原譲 -专利权人： IMRA美国公司
申请日： 2007-03-13 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：披露了用于生成所述薄膜的脉冲激光沉积方法。还披露了使用透明基片的脉冲激光沉积方法，它包括脉冲激光源，在脉冲激光波长下透明的基片，以及多靶系统。脉冲激光的光程是这样设置的，使得脉冲激光从基片的背面入射，穿过基片，然后聚焦在靶上。通过向着靶平移基片，这种几何设置能够利用烧蚀羽流的根部沉积小结构，它在通过三维绝热膨胀加宽羽流的角宽度前，可以沿靶表面法线存在于一维过渡阶段。这可以提供小的沉积结构尺寸，该尺寸可以类似于激光焦斑的尺寸，并且提供一种用于直接沉积图案化材料的新方法。
半导体氧化锌薄膜制备方法使用透明脉冲激光沉积

[发明专利]P型半导体氧化锌薄膜,其制备方法,和使用透明基片的脉冲激光沉积方法-CN200710086483.1无效
发明人：刘冰;胡振东;车勇;上原譲 -专利权人： IMRA美国公司
申请日： 2007-03-13 - 公布日： 2007-10-24 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：披露了用于生成所述薄膜的脉冲激光沉积方法。还披露了使用透明基片的脉冲激光沉积方法，它包括脉冲激光源，在脉冲激光波长下透明的基片，以及多靶系统。脉冲激光的光程是这样设置的，使得脉冲激光从基片的背面入射，穿过基片，然后聚焦在靶上。通过向着靶平移基片，这种几何设置能够利用烧蚀羽流的根部沉积小结构，它在通过三维绝热膨胀加宽羽流的角宽度前，可以沿靶表面法线存在于一维过渡阶段。这可以提供小的沉积结构尺寸，该尺寸可以类似于激光焦斑的尺寸，并且提供一种用于直接沉积图案化材料的新方法。
半导体氧化锌薄膜制备方法使用透明脉冲激光沉积

[实用新型]一种脉冲激光沉积系统-CN201120009949.X无效
发明人：胡居广;刁雄辉;林晓东;李启文;钟健;施苇;刘毅;龙井华 -专利权人：深圳大学
申请日： 2011-01-13 - 公布日： 2011-11-30 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本实用新型适用于激光技术领域，提供了一种脉冲激光沉积系统，所述脉冲激光沉积系统包括用于产生脉冲激光的激光器、使所述脉冲激光投射于靶材的振镜、将所述脉冲激光聚焦于所述靶材的聚焦镜、驱动所述振镜振动的振镜转轴、驱动所述靶材旋转的靶材转轴以及驱动基片旋转的基片转轴，所述振镜倾斜设置于所述振镜转轴，所述振镜转轴与投射于所述振镜的脉冲激光束共线，称为同轴振镜；所述靶材转轴和基片转轴不共线。本实用新型采用同轴振镜扫描，各脉冲激光于振镜上的入射角相同，反射率不变，经振镜反射后的能量一致；振镜振动过程中各脉冲激光于靶材上的光斑大小相同，因而产生羽辉的成份、能量及其角度分布一致，沉积薄膜的均匀性佳
一种脉冲激光沉积系统

[发明专利]强磁场辅助脉冲激光沉积系统-CN201410033519.X有效
发明人：戴建明;张科军;邹键;刘亲壮;盛志高;朱雪斌;吴文彬;孙玉平 -专利权人：中国科学院合肥物质科学研究院
申请日： 2014-01-23 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种强磁场辅助脉冲激光沉积系统，包括脉冲激光器、脉冲激光沉积柱状真空室，脉冲激光沉积柱状真空室包括带水冷却的双层夹套柱状腔，双层夹套柱状腔置入超导磁体的镗孔内；双层夹套柱状腔的一侧法兰盘装有基片加热台或激光加热台及其转动机构，双层夹套柱状腔的另一侧法兰盘装有靶组件及其移动/转动机构，基片加热台或者激光加热台和靶组件处于超导磁体的强磁场中部；脉冲激光沉积柱状真空室整体设于滑动导轨上，一侧法兰盘上还安装有密闭的激光导入腔和真空密封的视频装置导入腔本发明制造成本低、结构合理、装配与操作简便、工作稳定可靠，可用于强磁场下的脉冲激光沉积薄膜原位生长和后退火热处理，实现对材料微结构和物性的调控作用。
磁场辅助脉冲激光沉积系统

[发明专利]外延铁基超导薄膜制备方法及制备的外延铁基超导薄膜-CN200910082471.0有效
发明人：曹立新;李位勇;韩烨;张帅;许波;赵柏儒 -专利权人：中国科学院物理研究所
申请日： 2009-04-20 - 公布日： 2010-10-20 - 主分类号： H01L39/24 文献下载
摘要：本发明提供一种外延铁基超导薄膜的制备方法，其包括以下步骤：a)制备外延铁基超导薄膜所需的靶材，将所述靶材放入脉冲激光沉积系统的真空腔体中，其中所述靶材是FeSex或FeSe(1-y)Tey靶材，其中0.80≤x≤1.0，0＜y≤1.0；b)准备基片，将所述基片固定在基片台上，将所述基片台放入脉冲激光沉积系统的真空腔体中；c)加热所述基片台进而加热所述基片；d)利用脉冲激光沉积方法在所述基片上用脉冲激光沉积方法生长薄膜
外延超导薄膜制备方法

[发明专利]一种激光增材装置及其增材制造的方法-CN201811140619.7有效
发明人：任旭东;童照鹏;周王凡;陈兰;焦加飞 -专利权人：江苏大学
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： B22F3/105 文献下载
摘要：本发明提供了一种激光增材的装置，包括旋转光束激光系统、高频短脉冲激光系统和辅助电流系统；所述旋转光束激光系统输出旋转的连续激光，所述连续激光用于将材丝熔化沉积在基材表面；所述高频短脉冲激光系统输出高频短脉冲激光，所述高频短脉冲激光用于向熔池中输入脉冲激光束；所述辅助电流系统用于使材丝与熔池构成电流回路，用于使熔池内部直接产生强电磁力。所述旋转光束激光系统包括连续激光发生器、第一高精度机械手臂和连续激光器激光头；所述高频短脉冲激光系统包括高频短脉冲激光发生器、高频短脉冲激光头和第二高精度机械手臂。
一种激光装置及其制造方法

[实用新型]表面结构化复合涂层制备装置-CN201020200277.6无效
发明人：杨海峰;王延庆;韩正铜;王庆良;李宝林 -专利权人：中国矿业大学
申请日： 2010-05-18 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：一种表面结构化复合涂层制备装置，适用于表面结构化复合涂层制备，是一种紫外脉冲激光多功能表面处理系统装置，它包括紫外脉冲激光多功能表面处理系统装置，紫外脉冲激光多功能表面处理系统装置包括脉冲激光模块、精密扫描模块和环境调控模块，脉冲激光模块、精密扫描模块和环境调控模块顺序连接。采用一个激光光源可同时实现材料表面的结构化处理和复合涂层的沉积，结构简单、易于控制，单次扫描即可，无需对制备的样品进行复杂的后处理工艺；应用范围广、紫外脉冲激光具有光子能量大、波长短的特点，可以对任何材料进行精密的表面结构化处理，同时可以诱导多种气体的化学反应，高效的进行复合涂层沉积。
表面结构复合涂层制备装置

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