[实用新型]脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统有效

专利信息
申请号: 201821036025.7 申请日: 2018-07-02
公开(公告)号: CN208632633U 公开(公告)日: 2019-03-22
发明(设计)人: 代瑞娜;张晓军;胡凯;陈志强;方安安;姜鹭;潘恒;王岩;王峻岭 申请(专利权)人: 深圳市矩阵多元科技有限公司
主分类号: C23C14/28 分类号: C23C14/28;C23C14/54;C23C14/56
代理公司: 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙) 44319 代理人: 余薇
地址: 518000 广东省深圳市南山区西*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及薄膜材料加工技术领域,公开了一种脉冲激光沉积设备的水冷循环装置及脉冲激光沉积系统。所述脉冲激光沉积设备的水冷循环装置,包括设置在脉冲激光沉积设备外壳上的第一水冷管以及水冷机,所述第一水冷管的端口与所述水冷机的第一端口密封连接,所述水冷机用于向所述第一水冷管循环输出水冷液。本实用新型的技术方案,使脉冲激光沉积设备的外壳及真空仓可持续降温,避免了薄膜被杂质污染和被氧化,提升了脉冲激光沉积设备薄膜制备的质量、重复性和稳定性。
搜索关键词: 脉冲激光沉积设备 水冷循环装置 水冷管 水冷机 脉冲激光沉积系统 本实用新型 加工技术领域 薄膜材料 薄膜制备 端口密封 杂质污染 真空仓 水冷 薄膜 输出
【主权项】:
1.一种脉冲激光沉积设备的水冷循环装置,其特征在于,包括设置在脉冲激光沉积设备外壳上的第一水冷管以及水冷机,所述第一水冷管的端口与所述水冷机的第一端口密封连接,所述水冷机用于向所述第一水冷管循环输出水冷液。
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