专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]用于形成对焦图案的同轴图案结构-CN201721149430.5有效
  • 周明勇;欧阳杨;邹建军 - 深圳市纳诺测量技术有限公司
  • 2017-09-08 - 2018-04-20 - G01B11/00
  • 本实用新型的用于形成对焦图案的同轴图案结构,技术目的是提供一种在简化结构的同时提升光源亮度,进而提高了影像测量仪的测量性能的用于形成对焦图案的同轴图案结构。包括有一磁力座,所述磁力座上连接有弹簧的一端,所述弹簧的另一端连接有电磁体,所述电磁体连接有一滑动座,所述滑动座连接有一滑动杆,在所述滑动杆上设有凸透镜,所述凸透镜的上方设有图案片,所述图案片的上方设有照射光源本实用新型并且将原同轴的亮度和图案的亮度提升100%,从而减少光源强度造成的瓶颈。适用于测量设备中应用。
  • 用于形成对焦图案同轴结构
  • [发明专利]自由发光图案的导结构-CN201310462188.7在审
  • 萧隆智;蔡佩蓉 - 大億交通工业制造股份有限公司
  • 2013-09-30 - 2015-04-15 - G02B6/00
  • 本发明提供一种自由发光图案的导结构,尤指一种可自由构图的立体发光结构,其包含:一导本体,其中心设有一入光面,该入光面相对应构成一第一反光面及第二反光面,将极大多数的全反射收敛在第一与第二反光面间,且该第一反光面设有至少一出结构;所述入光面依发光源表面形状而配合成平面或内凹的面,达到全面收的效果;所述出结构由第一反光面凸起、凹陷或粗化表面形成,将导本体间全反射导出形成发光图形;凭借的,本发明可凭借入光面将发散光聚集在有效导轨迹中,第一及第二反光面将直射全数导入导轨迹中而倍增有效导量,供出结构充分应用,达到最少发光源,最小光通量,能产生渐渐均匀的高发光任意图形。
  • 自由发光图案结构
  • [发明专利]阵列式结构图案投射装置-CN202010347065.9在审
  • 蔡朝旭;廖宏荣;张颖岳;陈武立 - 迪鹏光电科技股份有限公司
  • 2020-04-28 - 2020-07-28 - G02B27/42
  • 本发明提出一种阵列式结构图案投射装置,是包含一绕射光学组、一绕射光学组件、一光源组、一基板、至少一光源晶片、至少一发点组、至少一发点、一绕射图案、一屏幕,其中,通过光源晶片上设置至少一发点组,发光点组上更设置有至少一发点,并将至少一光源晶片设置于基板上组成光源组,将绕射光学组件紧密排列组成绕射光学组,通过光源组发出的光线照射通过绕射光学组并于屏幕上呈现出绕射图案;特别要说的是,发光点组的数量与绕射光学组件在设置时的数量相同
  • 阵列结构图案投射装置
  • [发明专利]脉宽调制结构编码图案方法-CN201310283157.5有效
  • 林斌;张万祯 - 苏州江奥光电科技有限公司
  • 2013-07-08 - 2013-10-09 - H04N5/235
  • 本发明公开了一种脉宽调制结构编码图案方法,包括以下步骤,1)将三级脉宽调制波形分解为两组二级脉宽调制波形;2)由两组二级脉宽调制波形生成两幅二级脉宽调制结构编码图案;3)对两幅二级脉宽调制结构编码图案按照相同的投影与曝光成像参数顺序投影和曝光成像,获得两幅二级脉宽调制曝光图像;4)对两幅二级脉宽调制曝光图像进行灰度值相加合成,获得三级脉宽调制编码结构图案照明效果的复合图像。该方法仅使用两个灰度级的结构编码图案结构投影成像时不需要进行复杂的投影非线性校正,也不需要精确的投影与曝光成像同步控制,并且能够投影获得与三级脉宽调制结构编码图案方法照明效果相同的场景图像。
  • 脉宽调制结构编码图案方法
  • [实用新型]结构投射器及图像采集系统-CN202220755751.4有效
  • 赵冀阳;张舒畅 - 墨奇科技(北京)有限公司;北京至简墨奇科技有限公司
  • 2022-03-31 - 2022-11-08 - G03B21/20
  • 本实用新型提供一种结构投射器及图像采集系统。结构投射器包括光源、图案产生单元和会聚透镜,图案产生单元设置在光源的前方,光源用于将图案产生单元上的图案投影到投射平面上,以在投射平面形成重建结构图案和拼接结构图案,会聚透镜设置在图案产生单元和投射平面之间的传输路径上;重建结构图案和拼接结构图案不同,重建结构图案中的重建结构单元和拼接结构图案中的拼接结构单元之间不存在边界重叠。根据本实用新型实施例的结构投射器和图像采集系统有助于拼接获得精度更高的整体数据。
  • 结构投射图像采集系统
  • [发明专利]基于VCSEL阵列光源的深度相机-CN201710359556.3有效
  • 肖振中;许星 - 深圳奥比中光科技有限公司
  • 2017-05-19 - 2020-04-17 - G06T7/586
  • 本发明提供一种基于VCSEL阵列光源的深度相机,包括:结构投影模组,包括VCSEL阵列光源,用于向空间中发射结构图案;所述结构图案包括稀疏结构图案、密集结构图案中的一种或组合;采集模组,用于采集由目标反射的所述结构图案;处理器,用于根据所述结构图案计算深度图像。可以通过VCSEL阵列光源向空间中发出包括稀疏结构图案、密集结构图案中的一种或组合的结构图案,通过采集所诉结构图案并对其进行匹配计算,可以获得高精度以及高帧率的深度图像,从而使深度相机有更广泛的应用
  • 基于vcsel阵列光源深度相机
  • [发明专利]针对高反物体表面的三维重建方法、系统、设备及介质-CN202310699428.9在审
  • 郑道勤;齐文博;陈璐 - 重庆中科摇橹船信息科技有限公司
  • 2023-06-14 - 2023-09-29 - G06T17/00
  • 本发明提供了一种针对高反物体表面的三维重建方法,包括两台相机和一个光栅投射器组成的扫描系统,还包括:S1、分别设计格雷码图案和六步相移条纹图案,采用光栅投射器向被测物体投射预置的格雷码图案和六步相移条纹图案;S2、通过两台相机在不同亮度下的和不同的曝光时间下拍摄被测物体,两台相机分别获取被物体表面的第一结构图案和第二结构图案,并分别对第一结构图案和第二结构图案进行格雷码解码和相移解码;S3、对第一结构图案采用第一融合策略的加权融合,得到第三结构图案,对第二结构图案采用第二融合策略的加权融合,得到第四结构图案;S4、将第三结构图案和第四结构图案采用点云拼接,重建高反物体的三维信息。
  • 针对物体表面三维重建方法系统设备介质
  • [发明专利]多台结构模组深度重建系统-CN202111060632.3在审
  • 黄龙祥;汪博;朱力;吕方璐 - 深圳市光鉴科技有限公司
  • 2021-09-10 - 2023-03-14 - H04N13/128
  • 本发明提供了一种多台结构模组深度重建系统,包括:控制模块和至少两台结构模组:结构模组,用于向同一目标投射结构,采集结构形成的结构图案,根据结构图案进行深度重建生成深度图像;控制模块,用于当深度图像重建失败时,获取结构图案,判断结构图案中光斑的密度是否大于预设置的密度阈值,且当密度大于预设置的密度阈值时,对每一结构模组的光束投射接收时序分别增加或减少一随机调节时间,随机调节时间为曝光时间的自然数倍,根据更新后的投射接收时序控制至少两台结构模组向同一目标投射结构图案,以使结构图案进行深度重建生成深度图像。本发明能够通过不改动硬件结构的条件下达到解决模组投射器串扰的问题。
  • 结构模组深度重建系统
  • [发明专利]一种测量方法以及测量系统-CN202111322085.1在审
  • 张小龙 - 华为技术有限公司
  • 2021-11-09 - 2023-05-12 - G01B11/25
  • 本发明实施例公开了一种测量方法以及测量系统,用于提高区分结构图案的准确性,以提高测量待测物体的三维信息的准确性。所述方法包括:测量装置获取测量图像,所述测量图像为对待测物体进行拍摄以形成,所述测量图像包括N个结构图案以及M个标识图案,所述M为大于或等于1的正整数,所述N为大于或等于2的正整数;所述测量装置在所述测量图像中识别出所述N个结构图案以及所述M个标识图案;所述测量装置根据所述M个标识图案区分所述N个结构图案中的每一个结构图案;所述测量装置根据已区分的所述N个结构图案获取所述待测物体的三维信息。
  • 一种测量方法以及测量系统

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