专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种单晶剂及面单晶的制备方法-CN202111520915.1有效
  • 李一鸣;吴冰;张震华 - 绍兴拓邦电子科技有限公司
  • 2021-12-14 - 2022-02-25 - C09K13/06
  • 本发明公开了一种单晶剂及面单晶的制备方法;属于单晶技术领域;本发明中单晶剂包括碱液和添加剂;添加剂包括改性聚乙烯醇;改性聚乙烯醇由甘西鼠尾草酸甲改性聚乙烯醇。本发明的制备方法包括步骤:S1:将单晶硅片进行预处理;S2:将预处理后的单晶硅片置于单晶剂中进行;S3:将后的单晶硅片清洗、干燥,得到面单晶得的单晶剂具有优良稳定性以及能够降低泡沫性能,将其用于单晶处理,得到的面单晶具有面均匀、尺寸细小的形貌结构,同时具有较低的反射率。
  • 一种单晶硅制绒剂制备方法
  • [发明专利]一种单晶添加剂以及单晶工艺-CN201010618903.8有效
  • 陆海斌;石劲超 - 百力达太阳能股份有限公司
  • 2010-12-31 - 2011-07-06 - C30B33/10
  • 本发明涉及一种单晶添加剂以及单晶工艺。所述的单晶添加剂,由润湿剂和消泡剂组成,其特征在于,所述的润湿剂为非离子型表面活性剂。所述的单晶工艺为:将去离子水加热到70-80℃,加入氢氧化钠或氢氧化钾,得到单晶腐蚀液,其中,氢氧化钠或氢氧化钾的质量百分比浓度为1%~2%;将所述的单晶添加剂加入单晶腐蚀液中得到混合溶液,其中,单晶添加剂的体积百分比浓度为0.3%-2%;将预清洗后的原始硅片放入上述混合溶液中600s-1200s进行。本发明使得质量有很大提高、成本大大降低、工艺操作更简单,从而实现自动配液。
  • 一种单晶硅添加剂以及工艺
  • [发明专利]一种用于单晶液及方法-CN202210725214.X有效
  • 颜志勇;胡英;王晓馨;于利超;易洪雷;张葵花;姚勇波;李喆 - 嘉兴学院
  • 2022-06-23 - 2023-08-29 - C09K13/02
  • 本发明公开了一种用于单晶液及方法,属于单晶液技术领域。所述液由如下质量百分比含量的组份组成:碱性物质1‑3%,添加剂0.3‑2.5%,低共熔溶剂5‑30%,余量为水。所述液可用于任何尺寸单晶硅片的。本发明还公开了一种用于单晶方法,先将单晶硅片置于自制的预处理液中清洗,然后再置于上述液中温度为50‑85℃,时间为80‑250s。本发明解决了时间长、面不均匀和液寿命短的问题,具有液稳定性好、后单晶硅片反射率低等优点。
  • 一种用于单晶硅制绒液方法

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