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[发明专利]电容式薄膜真空计检测电路、真空计及真空度检测方法-CN202111495832.1有效
发明人：王松杰;汤一;王杰;宋冬谊;高乐;韩雪飞;廖兴才;林立男;张永斌 -专利权人：北京晨晶电子有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种电容式薄膜真空计检测电路、真空计及真空度检测方法，本发明提供的电容式薄膜真空计检测电路、真空计及真空度检测方法，通过独立且反相的载波信号分别对薄膜电容的内环电容信号和外环电容信号进行调制，对调制后的内环电容信号和外环电容信号进行求和得到电容差值信号，进而换算得到真空度检测结果，由于调制后的内环电容信号和外环电容信号通过求和的方式即可获得电容差值，对电路中器件的性能要求较低，能够保证真空度检测结果线性度更高且更加稳定可靠
电容薄膜真空计检测电路真空方法

[发明专利]电容式隔膜真空计和真空装置-CN200910266354.X有效
发明人：宫下治三 -专利权人：佳能安内华股份有限公司
申请日： 2009-12-24 - 公布日： 2010-07-14 - 主分类号： G01L9/12 文献下载
摘要：一种电容式隔膜真空计，其包括被配置成检测所述电容式隔膜真空计的倾斜角的倾斜角传感器。在电容膈膜计以第一倾斜角(+90°)、第二倾斜角(0°)、第三倾斜角(-90°)安装在真空装置上时，所得到的电容和电压的相关性事先存储在存储单元中。压力测量值然后基于由倾斜角传感器所检测到的所述倾斜角信息被校正，并且电容-压力特性数据在第一、第二和第三倾斜角时被实际测量，并且存储在电容式隔膜真空计中。
电容隔膜真空计真空装置

[发明专利]电容式隔膜真空计及干刻蚀设备腔体压力测试系统-CN201810368641.0在审
发明人：丁俊 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2018-04-23 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： G01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种电容式隔膜真空计及干刻蚀设备腔体压力测试系统。该电容式隔膜真空计包括：相邻的第一腔室和第二腔室、设于所述第一腔室和第二腔室之间的压力隔膜、设于所述第一腔室中的测量电极、设于所述第一腔室中并与测量电极间隔设置的参考电极以及设于所述第二腔室中的过滤网；所述第二腔体用于通入干刻蚀设备腔体的气体；所述过滤网用于吸附干刻蚀设备腔体的制程副产物以及腔体污染物，防止制程副产物以及腔体污染物附着在压力隔膜上，导致压力隔膜发生永久变形或破损，提高电容式隔膜真空计的测试精度，延长电容式隔膜真空计的使用寿命，保证干刻蚀设备腔体的真空压力值稳定，提高刻蚀率均一性。
干刻蚀设备隔膜真空计电容式腔体第一腔室第二腔室压力隔膜测量电极测试系统腔体压力副产物过滤网制程污染物附着参考电极第二腔体间隔设置使用寿命永久变形真空压力均一性刻蚀率吸附破损污染物测试保证

[发明专利]一种电容薄膜真空计及其制备方法-CN202310819607.1在审
发明人：林玉哲;陶继方;陈公贤 -专利权人：山东大学
申请日： 2023-07-06 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G01L21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种电容薄膜真空计及其制备方法，该真空计包括上壳体、下壳体和位于两者之间的感压膜片，所述感压膜片和下壳体为金属材质，感压膜片和下壳体焊接在一起形成了检测腔，所述下壳体底部焊接有连接管，通过连接管连接检测腔和待测真空腔体；所述上壳体由绝缘材料制成，所述上壳体粘接于感压膜片或下壳体上，所述上壳体与感压膜片之间形成参考腔；所述上壳体的顶部内壁镀有固定电极，所述固定电极通过引出电极将电容变化信号引出至参考腔外部，所述上壳体上设置抽气口和吸气剂，所述参考腔为真空状态。本发明所公开的电容薄膜真空计在保证电容式薄膜真空计耐腐蚀、高精度的特性下，使电容式薄膜真空计的结构以及制备方法大为简化。
一种电容薄膜真空计及其制备方法

[实用新型]一种绝压型金属薄膜电容式真空计-CN202222995432.3有效
发明人：刘巍;梁长记;魏振 -专利权人：核工业理化工程研究院
申请日： 2022-11-10 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： G01L21/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种绝压型金属薄膜电容式真空计，包括壳体以及安装在所述壳体内部的金属薄膜和绝缘陶瓷；所述绝缘陶瓷上设置有外电容和内电容；所述外电容和内电容的电容信号分别一组通过穿墙组件导出所述壳体；所述穿墙组件包括与所述外电容或内电容相接触的导电弹簧、一端与所述导电弹簧接触，另一端穿过所述壳体的电容引出针和填充在所述壳体与电容引出针缝隙内的玻璃组合物。上述绝压型金属薄膜电容式真空计，选用具有超强密封性能的穿墙组件，在可靠引出电容信号的同时，能够保证其参考腔内的真空度长期保持稳定，从而避免现有真空计明显的“零点漂移”问题。
一种绝压型金属薄膜电容真空计

[发明专利]一种电容式薄膜真空计的感应膜片焊后张紧力控制方法-CN202111284298.X有效
发明人：侯少毅;胡强;卫红;胡琅;刘乔 -专利权人：季华实验室
申请日： 2021-11-01 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G01L21/00 文献下载
摘要：本申请属于机械加工技术领域，公开了一种电容式薄膜真空计的感应膜片焊后张紧力控制方法，包括以下步骤：把感应膜片焊接在电容式薄膜真空计的圆筒状的腔体的下端；腔体的材料的屈服强度比感应膜片的材料的屈服强度低；在腔体的内壁施加压力后卸载压力，使施加压力时腔体的腔壁的内侧部分、腔体的腔壁的外侧部分和感应膜片分别处于塑性变形状态、弹性变形状态和弹性张紧状态，从而使卸载压力后的感应膜片上具有所需的张紧力；该电容式薄膜真空计的感应膜片焊后张紧力控制方法有利于实现对感应膜片焊接后的张紧力的精准控制
一种电容薄膜真空计感应膜片焊后张紧力控制方法

[发明专利]一种电容式薄膜真空计的薄膜焊接方法-CN202210492279.4有效
发明人：刘乔;郭可升;侯少毅;王凤双;卫红;胡强;肖永能 -专利权人：季华实验室
申请日： 2022-05-07 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： B23K31/02 文献下载
摘要：本发明涉及测量仪器技术领域，具体公开了一种电容式薄膜真空计的薄膜焊接方法，该方法包括以下步骤：按照预设温度加热中心膜片，预设温度根据中心膜片的张紧力要求及材质特性进行设定；组合电容式薄膜真空计的下腔体、中心膜片及上腔体以形成组合体；静置冷却组合体；该方法利用中心膜片的热胀冷缩的特性对加热后的中心膜片进行焊接，使得静置冷却后的组合体中的中心膜片具有满足张紧力要求的张紧力，免去了张紧设备的张紧处理，使得中心膜片满足电容式薄膜真空计的加工质量要求
一种电容薄膜真空计焊接方法

[发明专利]电容式薄膜真空计检测装置、真空计及检测方法-CN202210556319.7在审
发明人：王松杰;廖兴才;林立男;汤一;闫冉;王杰;宋冬谊;唐嫒尧;高乐 -专利权人：北京晨晶精仪电子有限公司
申请日： 2022-05-20 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G01L27/00 文献下载
摘要：本发明提供一种电容式薄膜真空计检测装置、真空计及检测方法，该装置包括：载波生成单元、信号采集单元、第一定时器和处理单元；载波生成单元用于根据配置的数字信号生成载波信号，并将载波信号传输至真空计的电极；信号采集单元用于采集真空计的调制信号，并对调制信号进行模数转换后传输至处理单元；其中，调制信号是将真空计的电极的输出信号调制到载波信号得到的；第一定时器用于触发载波生成单元和信号采集单元同步进行信号的传输；处理单元用于对模数转换后的调制信号进行信号处理，得到真空计的气压检测结果。本发明采用数字驱动的方式获取真空计的气压检测结果，有效保证了检测装置的线性度，且信号处理过程更为简单，无需复杂的电路。
电容薄膜真空计检测装置方法

[发明专利]MEMS薄膜真空计及其制备方法-CN202210244071.0有效
发明人：王广猛;史晓晶;柳俊文 -专利权人：南京元感微电子有限公司
申请日： 2022-03-14 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： B81B7/02 文献下载
摘要：本发明提出一种MEMS薄膜真空计及其制备方法，包括叠置的第一衬底、第二衬底、第三衬底；第一密闭腔体和第二密闭腔体，间隔封闭于所述第一衬底及第三衬底之间；第一电极，对应于所述第一衬底位于所述第一密闭腔体之上的区域在同一个晶圆上集成了MEMS电容式薄膜真空计与压阻式薄膜真空计，工艺简便，在保证两种真空计灵敏度和线性度的前提下，有效提升了MEMS薄膜真空计的量程。
mems 薄膜真空计及其制备方法

[实用新型]一种控制型隔膜真空泵联动系统-CN202320681914.3有效
发明人：黄端民;雷经新;陈学刚;王杏国;陈小波 -专利权人：登弗真空设备（上海）有限公司
申请日： 2023-03-30 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： F04B37/14 文献下载
摘要：本申请提供了一种控制型隔膜真空泵联动系统，涉及真空设备技术领域，包括隔膜真空泵和玻璃瓶以及真空控制器。所述玻璃瓶上部一侧上自带有软管A；所述真空控制器包括主体和其前侧装配的触摸屏，以及分别安装在其顶部且依次连通的PTFE电磁阀、PTFE放气阀和耐腐蚀电容式薄膜真空计，所述PTFE电磁阀和所述耐腐蚀电容式薄膜真空计的相离侧分别设有出气通道和进气通道，所述出气通道与所述隔膜真空泵的抽气口之间连通有软管B，所述进气通道与所述软管A接通，装配后的所述真空控制器用以控制所述隔膜真空泵对所述玻璃瓶进行内部真空抽取。由于采用了真空控制器，有效提升了隔膜真空泵抽取真空的效果。
一种控制隔膜真空泵联动系统

[发明专利]一种双极电容式真空计及其对应的测量电路-CN201910711945.7在审
发明人：付继辉 -专利权人：上海振太仪表有限公司
申请日： 2019-08-02 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： G01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及真空计计量领域，尤其涉及一种双极电容式真空计及其对应的测量电路，其包括壳体、膜片、固定基板和固定电极；膜片固定安装在壳体内，膜片将壳体内分割成两部分，一侧为真空腔，另一侧为检测腔；固定基板固定安装在真空腔内，固定基板上安装有固定电极，当膜片受力发生形变时，固定电极上的电容会发生变化，通过检测电容变化即可得到检测腔内的压力大小；固定电极包括环形电极和圆形电极，圆形电极位于环形电极内，且圆形电极和环形电极之间有间隔，将固定电极分为环形电极和圆形电极，能够有效地提高真空计的精度；测量电路对环形电极和圆形电极上的电容变化进行检测和处理后输出一个正弦波，测量正弦波的大小即可得到压力的大小。
固定电极环形电极圆形电极测量电路固定基板膜片电容式真空计检测腔真空计真空腔正弦波双极体内电容变化计量领域检测电容膜片受力有效地电容形变壳体测量输出分割检测

[实用新型]一种双极电容式真空计及其对应的测量电路-CN201921249302.7有效
发明人：付继辉 -专利权人：上海振太仪表有限公司
申请日： 2019-08-02 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： G01L21/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及真空计计量领域，尤其涉及一种双极电容式真空计及其对应的测量电路，其包括壳体、膜片、固定基板和固定电极；膜片固定安装在壳体内，膜片将壳体内分割成两部分，一侧为真空腔，另一侧为检测腔；固定基板固定安装在真空腔内，固定基板上安装有固定电极，当膜片受力发生形变时，固定电极上的电容会发生变化，通过检测电容变化即可得到检测腔内的压力大小；固定电极包括环形电极和圆形电极，圆形电极位于环形电极内，且圆形电极和环形电极之间有间隔，将固定电极分为环形电极和圆形电极，能够有效地提高真空计的精度；测量电路对环形电极和圆形电极上的电容变化进行检测和处理后输出一个正弦波，测量正弦波的大小即可得到压力的大小。
一种电容真空计及其对应测量电路

[发明专利]一种小型化差动式双电容式薄膜真空传感器-CN201710596119.3有效
发明人：王凡;陈宝成;刘宝伟;王洪岩;孙志成;孙帅;崔光浩;宁金明;李日东;宗义仲 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十九研究所
申请日： 2017-07-20 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： G01L21/00 文献下载
摘要：一种小型化差动式双电容式薄膜真空传感器，它涉及电容式真空传感器领域。本发明为了解决现有的真空计存在体积过大、重量过重，且无法满足火星等深空探测活动中的真空测量需求，且电容薄膜真空计的小型化会使仪器本身的线性、重复性和稳定性均受到影响，在保证测量准确度的同时难以保证深空探测需求的载荷小型化问题本发明用于完成真空压力的测量。
一种小型化差动电容薄膜真空传感器

[发明专利]一种电容式真空压力传感器-CN202210251301.6有效
发明人：侯少毅;胡强;刘乔;卫红;王凤双;黄星星;毕诗博 -专利权人：季华实验室
申请日： 2022-03-15 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H01L29/84 文献下载
摘要：本申请属于压力传感器技术领域，公开了一种电容式真空压力传感器，包括具有容置腔的壳体，还包括感压膜片及固定电极，感压膜片与固定电极均为圆筒形状，感压膜片设置在容置腔内，感压膜片的两端分别连接容置腔的顶部和底部，感压膜片将容置腔分为测量腔及参考腔，固定电极设置在参考腔内，固定电极与感压膜片组成可变电容器。本申请的电容式真空压力传感器将感压膜片和固定电极均设计为圆筒形状，与现有技术中同等体积的电容薄膜真空计相比，基础电容值得到增大，有效提高了电容式真空压力传感器的灵敏度和精度，降低了电容信号的处理难度。
一种电容真空压力传感器

[发明专利]一种绝压接触式MEMS电容薄膜真空计-CN202011453071.9在审
发明人：李刚;成永军;何申伟;孙雯君;习振华;裴晓强;张瑞芳;杨利;高洁 -专利权人：兰州空间技术物理研究所
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： G01L9/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种绝压接触式MEMS电容薄膜真空计，采用接触式结构能够使真空计的测量曲线，即真空度‑电容曲线具有分段线性的特点，解决了感压薄膜大挠度变形非线性的问题，提升了真空计的测量性能；同时，接触式结构可以防止感压薄膜在高压力作用下受到破坏，提高真空规的测量范围。
一种接触 mems 电容薄膜真空计

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