专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果1991296个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]反应定位结构及反应-CN201310750318.7在审
  • 郭峰 - 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
  • 2013-12-31 - 2015-07-01 - H01L21/67
  • 本发明提供了一种反应定位结构及反应,其反应定位结构便于反应的上盖和反应腔进行定位安装,包括定位销和弹簧,反应腔上设置有第一定位孔,上盖上设置有第二定位孔,定位销设置有用于限位弹簧的轴肩,弹簧套装在定位销的一端的外侧,并安装在反应腔的第一定位孔内,待上盖的第二定位孔与定位销的另一端对齐后,弹簧压缩,定位销的另一端插入第二定位孔定位。其反应包括上述反应定位结构。本发明的反应定位结构及反应,结构设计简单合理,通过弹簧和定位销的配合结构,增加定位销的高度,提高了上盖与反应腔装配的准确性及效率。
  • 反应定位结构
  • [发明专利]反应-CN201610239112.1在审
  • 常大磊 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2016-04-18 - 2017-10-31 - H01L21/67
  • 本发明提供一种反应,包括基座、基座升降机构、机械压环和支撑件,其中,基座用于承载晶片。基座升降机构用于驱动基座上升至工艺位置或者下降至装卸位置。机械压环用于在基座位于工艺位置时将晶片固定在基座上。遮挡环用于遮挡压环和定位环暴露在反应中的表面。本发明提供的反应,其不仅可以避免机械压环的温度过高,还可以降低机械压环与基座之间的位置偏差,从而可以使晶片受力均匀,降低了碎片或卡滞的风险。
  • 反应
  • [发明专利]反应-CN201410655635.5有效
  • 聂淼 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2014-11-18 - 2019-01-18 - H01L21/67
  • 本发明提供一种反应,其包括腔侧壁和设置在腔侧壁顶部的气体分配板,腔侧壁的上表面与气体分配板的下表面相互间隔,且在二者之间设置有密封圈,该密封圈采用线接触的方式分别与腔侧壁的上表面和气体分配板的下表面相接触本发明提供的反应,其可以减小气体分配板和腔侧壁之间的热传递,从而可以提高气体分配板和腔侧壁的温控精度。
  • 反应
  • [发明专利]反应-CN201410717031.9有效
  • 袁福顺 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2014-12-01 - 2019-02-19 - H01L21/67
  • 本发明提供一种反应,包括基座和旋转机构,基座设置在反应腔室内,用以承载被加工工件;旋转机构通过旋转轴与基座连接,用以驱动基座围绕旋转轴旋转;旋转机构包括:端面跳动检测装置,其设置在基座上方,用于检测其分别与在基座上端面的同一圆周上的各个检测点之间的高度差值本发明提供的反应,其旋转机构可以消除基座的端面跳动公差,从而可以提高基座上端面的水平度,以使其满足机械手成功取放片的要求。
  • 反应
  • [发明专利]反应-CN201710218945.4有效
  • 黄亚辉;李一成;刘建 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2017-04-05 - 2020-04-28 - H01J37/32
  • 本发明提供一种反应,其包括腔体、调整支架、介质窗、上保护环和下保护环,其中,在调整支架的上表面与介质窗的下表面之间具有第一间隙,且在第一间隙中设置有第一密封圈;在调整支架的下表面与腔体的上表面之间具有第二间隙本发明提供的反应,其不仅可以降低产生金属污染的风险,而且可以避免密封圈直接暴露在等离子体环境中。
  • 反应
  • [发明专利]反应-CN201710117649.5有效
  • 聂淼;韦刚;郭士选 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2017-03-01 - 2022-01-07 - H01L21/67
  • 本发明提供一种反应,其包括接地的腔体,在腔体内设置有下电极和内衬组件,内衬组件包括衬环,衬环包括筒体和环形部,筒体的上端与腔体连接,并通过腔体接地;环形部水平设置在筒体的下端,且环绕在所述下电极的周围本发明提供的反应,其可以有效地将经过该筛孔的等离子体在筛孔表面泯灭,从而可以避免射频泄漏。
  • 反应
  • [发明专利]反应-CN201610545524.8有效
  • 张伟涛 - 北京北方华创微电子装备有限公司
  • 2016-07-12 - 2020-02-14 - H01L21/67
  • 本发明提供一种反应,包括传片口、基座、压环、内门和压环升降机构,其中,传片口设置在反应的侧壁上,基座设置在反应腔室内,用以承载晶片;压环用于通过压住晶片将其固定在基座上。本发明提供的反应,其可以解决设备结构复杂、制造成本高、腔泄漏风险高以及因副产物颗粒积累造成内门运动故障的问题。
  • 反应
  • [发明专利]反应-CN200710120361.X有效
  • 张庆钊 - 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
  • 2007-08-16 - 2009-02-18 - H01L21/00
  • 本发明公开了一种反应,包括侧壁,侧壁上设有进气通道,进气通道可以直接设于侧壁的上部,也可以在侧壁的上部设进气环,进气环上设有进气通道,进气通道包括供气孔、匀气槽和多个进气孔,工艺气体可依次通过供气孔、匀气槽和多个进气孔进入反应的内部,进行加工工艺。可以有效的改进进气方式,使气体在腔中分布更加均匀,有效的提高了刻蚀后晶片表面图形的均匀一致性,优化了机台刻蚀性能。
  • 反应
  • [发明专利]反应-CN200710121288.8有效
  • 赵梦欣 - 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
  • 2007-09-03 - 2009-03-11 - H01L21/00
  • 本发明公开了一种反应,包括内衬,内衬的侧壁设有接触法兰,接触法兰与反应的内壁紧密接触。反应的内壁设有台阶,接触法兰固定在台阶上。通过内衬下部的接触法兰在真空条件下与反应壁连接,继而增大内衬在真空条件下的导热率,使内衬具有热稳定性,减少了内衬中在射频电源循环开及关时产生的温度波动,有利于刻蚀的稳定进行。
  • 反应

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top