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[发明专利]一种浅槽隔离结构的制备方法及浅槽隔离结构-CN201811340906.2在审
发明人：赵东光 -专利权人：武汉新芯集成电路制造有限公司
申请日： 2018-11-12 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种浅槽隔离结构的制备方法及浅槽隔离结构，包括：步骤S1，提供定义有有源区和浅槽隔离区的一衬底，并于衬底的浅槽隔离区内制备形成凹槽；步骤S2，采用一隔离材料填充每个凹槽形成浅槽隔离预制备结构，并制备一牺牲层覆盖衬底的有源区，且浅槽隔离预制备结构的上表面高于牺牲层的上表面；步骤S3，制备一保护结构覆盖浅槽隔离预制备结构暴露的侧壁；步骤S4，去除牺牲层；步骤S5，对衬底和保护结构暴露的表面进行热氧化工艺，形成覆盖衬底表面的栅氧化层以及保护结构与浅槽隔离预制备结构结合形成的浅槽隔离结构；保证了最终形成的浅槽隔离结构的完整，避免了可能相应产生的漏电情况。
浅槽隔离结构浅槽隔离制备衬底预制保护结构牺牲层上表面源区覆盖半导体技术领域浅槽隔离区热氧化工艺凹槽形成衬底表面隔离材料结构结合栅氧化层漏电暴露侧壁去除填充保证

[发明专利]一种用于自由活塞式往复运动机械的气体静压轴承-CN201410183265.X有效
发明人：孔中科;王波;叶重;王飞;王建中;寇翠翠 -专利权人：中国电子科技集团公司第十六研究所
申请日： 2014-05-04 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： F16C32/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于自由活塞式往复运动机械的气体静压轴承，包括活塞、气缸、排出器、压缩腔和储气槽。活塞外套外圆周外侧沿圆周方向分别设有双排第一节流孔、第一环形浅槽和第一均压浅槽。第一均压浅槽与第一节流孔两侧的第一环形浅槽相连通。第一节流孔通过第一均压浅槽和第一环形浅槽相贯通。活塞内套外圆周外侧沿圆周方向设有双排第二节流孔，内圆周内侧设有第二环形浅槽和第二均压浅槽，第二均压浅槽与第二节流孔两侧的第二环形浅槽相连通。第二节流孔通过第二均压浅槽与第二环形浅槽相贯通。
一种用于自由活塞往复运动机械气体静压轴承

[实用新型]一种改进的浅槽分选机-CN201720247351.1有效
发明人：郭其涛 -专利权人：芬雷选煤工程技术（北京）有限公司
申请日： 2017-03-14 - 公布日： 2018-02-16 - 主分类号： B03B5/30 文献下载
摘要：本实用新型提供一种改进的浅槽分选机，浅槽分选机底部和侧面分别设置带孔的布流板1，底部的布流板开孔对应的下部设置布流漏斗2，内部悬浮液通过浅槽底部和侧面的带孔的布流板给入分选槽体内，浅槽分选机的浅槽底部给入的悬浮液形成上升流，上升流的作用是保持悬浮液稳定、均匀，同时有分散入料的作用；从浅槽分选机的浅槽侧面给入的悬浮液形成水平流，通过水平流布料箱的反击和限制，使水平流均匀的进入浅槽内，水平流的作用是保持浅槽槽体上部悬浮液密度稳定
一种改进分选

[发明专利]浅槽隔离的方法-CN200910047948.1有效
发明人：周建军;张京晶;王军;石锗元 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-03-20 - 公布日： 2010-09-22 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：本发明公开了一种浅槽隔离的方法，包括以下步骤：(1)提供一硅衬底；(2)依次在所述硅衬底上形成氧化物层、氮化物层、光阻层；(3)刻蚀光阻形成图案；(4)刻蚀氮化物层；(5)刻蚀氧化物层；(6)刻蚀硅形成浅槽该浅槽隔离方法，是将剥离步骤置于刻蚀后，可以更加彻底清除光阻，防止光阻残留在产品上，并增加气体吹洗步骤，可以更加彻底地清除刻蚀过程中的剩余的光阻及光阻的副产物，避免了刻蚀后残留的光阻及其产生的副产物沉积在刻蚀图案的边侧或表面
隔离方法

[发明专利]硅浅槽刻蚀工艺-CN200710175213.8有效
发明人：张庆钊 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2007-09-27 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅浅槽刻蚀工艺，包括二氧化硅层开启步、硅槽刻蚀步，在二氧化硅层开启步与硅槽刻蚀步之间还包括硅槽初刻步，硅槽初刻步中所用的工艺气体包括Cl₂气体，还可以适当加入SF<
硅浅槽刻蚀工艺

[发明专利]浅槽隔离的方法-CN02108408.4无效
发明人：黄文信;张国华 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2002-03-29 - 公布日： 2003-10-15 - 主分类号： H01L21/76 文献下载
摘要：本发明提供一种浅槽隔离方法。该方法包括下列步骤：(1)于一衬底表面形成一经构图的掩蔽层，该掩蔽层包含有一缓冲氧化层以及一氮化硅层形成于该缓冲氧化层上；(2)蚀刻未被该掩蔽层覆盖的该衬底，以形成一槽区域；(3)形成一高温氧化膜，覆盖于该槽区域表面以及该掩蔽层表面；(4)沉积一介电层，该介电层填满该槽区域，并覆盖该高温氧化膜；(5)平坦化该介电层，直至暴露出该氮化硅层；以及(6)去除该氮化硅层。
隔离方法

[实用新型]浅生槽种植机-CN201721710609.3有效
发明人：韦桂辉 -专利权人：韦桂辉
申请日： 2017-12-07 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： A01C5/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及农用机械设备技术领域，具体公开了一种浅生槽种植机，包括机架、开槽机构、升降机构和行走机构，以及包括用于控制开槽机构、升降机构和行走机构工作的电控箱，其特征在于：所述机架四端分别设有垂直的定位轨另一端连接带座轴承，传动箱和带座轴承分别通过活动板设有两端的定位轨上，所述的升降机构包括升降电机和丝杆传动组件，丝杆传动组件通过吊臂与两端的活动板连接，所述的行走机构包括设于机架底部的前从动轮和后驱动轮；减轻淮山浅生种植的劳动强度，提高了淮山浅生种植的规范和标准。
开槽机构升降机构行走机构传动箱丝杆传动组件带座轴承定位轨活动板螺旋杆种植机淮山农用机械设备本实用新型后驱动轮开槽电机前从动轮倾斜设置升降电机一端连接垂直的电控箱吊臂种植

[实用新型]抗变形浅槽模具-CN202020675233.2有效
发明人：王俭华 -专利权人：昆山施宝得精密模具有限公司
申请日： 2020-04-28 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： B21D37/10 文献下载
摘要：本实用新型属于模具技术领域，涉及一种抗变形浅槽模具，包括上模板和下模板，所述上模板的中部和所述下模板的中部各设有互相匹配的模压区，所述下模板在其模压区的外围设有一道回形的补强筋，所述上模板在其模压区的外围设有避让所述补强筋的回形槽
变形模具

[实用新型]块煤浅槽分选机-CN202222572978.8有效
发明人：陈军;吴成山;汪成明;朱泽旭 -专利权人：中煤新集能源股份有限公司
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： B03B5/40 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种块煤浅槽分选机，包括分选机机体，分选机机体包括刮板链、刮板链调节轴和刮板链中间轴和改向轮总成；改向轮总成包括调节轴，调节轴上设置有半链轮，半链轮与刮板链相连接；通孔外侧设置有填料箱；填料箱包括填料箱体本实用新型块煤浅槽分选机，将现有技术中普遍采用的固定式刚性卡槽内滑动摩擦改为滚动磨损，降低了摩擦系数，能实现对套筒滚子链的高寿命的长期使用，降低了设备故障出现的频次，延长了套筒滚子链使用寿命，降低了使用成本
块煤分选

[发明专利]一种超低动态阻抗双向TVS及制造方法-CN202110324180.9在审
发明人：吴昊;陆亚斌;王成 -专利权人：傲威半导体无锡有限公司
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： H01L29/861 文献下载
摘要：本发明提出一种超低动态阻抗双向TVS及制造方法，该超低动态阻抗双向TVS包括衬底层及基区层，衬底层为第一导电类型，基区层为第二导电类型，并形成于衬底层上；还包括浅槽结构，浅槽结构形成于基区层中，其深度小于基区层的深度，在浅槽结构两侧形成第一导电类型的有源区，浅槽结构具有复数个，各浅槽结构之间留有间隔，形成梳齿式布局；还包括浅槽填充层，浅槽填充层形成于浅槽结构内部；还包括电极，电极采用表面多层金属化引出。
一种动态阻抗双向 tvs 制造方法

[发明专利]闪存浮动栅极的制造方法-CN03107674.2有效
发明人：谢文贵 -专利权人：华邦电子股份有限公司
申请日： 2003-03-18 - 公布日： 2004-09-29 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：接着，在基底内形成数个浅槽，以均向回蚀缩小氮化硅层并对浅槽的角进行圆角化工艺，再沉积氧化硅材料填满浅槽以形成浅槽隔离结构，其中两两浅槽隔离结构之间定义出主动区。移除衬垫氧化层及氮化硅层，在主动区之上形成穿遂氧化层及第一多晶硅层，并且第一多晶硅层与浅槽隔离结构等高。在第一多晶硅层与浅槽隔离结构之上形成第二多晶硅层，移除部分位于浅槽隔离结构上的第二多晶硅层而定义出浮动栅极。
闪存浮动栅极制造方法

[实用新型]一种超低动态阻抗双向TVS-CN202120615227.2有效
发明人：吴昊;陆亚斌;王成 -专利权人：傲威半导体无锡有限公司
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： H01L29/861 文献下载
摘要：本实用新型提出一种超低动态阻抗双向TVS，该超低动态阻抗双向TVS包括衬底层及基区层，衬底层为第一导电类型，基区层为第二导电类型，并形成于衬底层上；还包括浅槽结构，浅槽结构形成于基区层中，其深度小于基区层的深度，在浅槽结构两侧形成第一导电类型的有源区，浅槽结构具有复数个，各浅槽结构之间留有间隔，形成梳齿式布局；还包括浅槽填充层，浅槽填充层形成于浅槽结构内部；还包括电极，电极采用表面多层金属化引出。
一种动态阻抗双向 tvs

[实用新型]内胀紧夹头-CN201620297457.8有效
发明人：周树益;凌光北 -专利权人：浙江聚利电动工具有限公司
申请日： 2016-04-12 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： B23B31/40 文献下载
摘要：本实用新型公开了内胀紧夹头，由一体结构的夹紧部、定位部和法兰部组成，其特征在于：夹紧部具有圆锥内孔和夹紧外圆，圆锥内孔设有环形浅槽和轴向浅槽，环形浅槽在圆锥内孔的轴向方向设有多条，轴向浅槽在圆锥内孔的圆周方向设有多条，轴向浅槽垂直于环形浅槽，轴向浅槽将环形浅槽连通并延伸至夹紧部的外端面，夹紧外圆由连续弧形凸起的顶部所形成，夹紧部沿圆周方向开设三条纵向切断槽，纵向切断槽的长度小于夹紧部的整个长度，纵向切断槽的始端位于夹紧部的外端面
内胀紧夹头

[实用新型]一种地铁用橡胶垫板-CN201420538019.7有效
发明人：李诚钰;张少兵;刘俊峰;袁大卫;周算术 -专利权人：李诚钰
申请日： 2014-09-18 - 公布日： 2015-03-11 - 主分类号： E01B9/68 文献下载
摘要：一种地铁用橡胶垫板，包括由混炼胶制得橡胶垫板本体，橡胶垫板本体的第一板面设置成槽型，第一板面上设置有排列状布置的第一浅槽，第一浅槽沿第一板面的板宽范围开设且在沿第一板面的板长方向间隔设置，橡胶垫板本体的第二板面上设置有排列状布置的第二浅槽，第一、二浅槽的槽长方向一致且第一、二浅槽呈间隔交错布置；第一板面设置成槽型的槽深与第一浅槽的槽深一致；第一、二浅槽的槽深均为3mm，第一浅槽的槽宽为4.8mm，第二浅槽的槽宽为5mm，第一浅槽之间的间距为13.5mm，第二浅槽之间的间距为11.25mm。
一种地铁橡胶垫板

[实用新型]一种平行焊缝机封盖夹具-CN201920610047.8有效
发明人：刘兴;贺肄娜;张洁 -专利权人：西安国是电子科技有限公司
申请日： 2019-04-29 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： B23K37/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种平行焊缝机封盖夹具，包括支撑台,支撑台上设置有凹槽,凹槽包括连通的浅槽和深槽,浅槽与滚轮电极轴线平行的侧壁向深槽的方向延伸设置有压板,深槽内滑动设置滑动板,滑动板远离浅槽端向浅槽的方向延伸设置挡板,压板与挡板位于同一水平高度,滑动板上连接有拉动滑动板向浅槽方向压紧的拉紧件,该平行焊缝机封盖夹具使用时，将滑动板滑移到深槽远离浅槽的一端,将待封装件放置到浅槽内，将滑动板滑移到深槽接近浅槽的一端,此时，拉紧件使滑动板抵接浅槽接近深槽一端，压板和挡板的下表面抵接待封装件平行滚轮电极轴线的两侧边沿的上表面，滚轮电极滚过待封装件对待封装件完成焊接，解决了待封装件在焊接过程中发生翘起。
浅槽深槽封装件滑动板挡板压板夹具方向延伸滚轮电极滑动板滑平行焊缝机封盖拉紧件本实用新型电极轴线焊接过程滑动设置平行滚轮同一水平轴线平行浅槽端上表面下表面支撑台侧壁抵接翘起压紧焊接连通支撑