专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种三相三柱非铁心-CN200720076283.3无效
  • 林添福;张作军 - 大同(上海)有限公司
  • 2007-11-16 - 2008-09-10 - H01F27/24
  • 本实用新型涉及变压器制造中的非铁心技术,是一种三相三柱非铁心,它含有非铁心、非薄带切断接合口、树脂胶涂层、绝缘材料,支撑铁板、上下夹件、吊耳和底座等;非铁心由一个外铁心、两个内铁心构成,非铁心端面和内层用树脂胶粘合有山形支撑铁板,粘合了支撑铁板的铁心外面用上下夹件紧箍,在上夹件上设有吊耳,下夹件上安装有底座。本实用新型的非铁心因为有支撑铁板而能不依赖线圈而得到支撑,因使用了夹持组件而使铁心紧箍成一个整体,便于竖立、吊装,改善了铁心与线圈组装,降低了外加应力,改善了铁心的损耗及噪音,提升了非质变压器的质量,使大容量非铁心变压器的制造成为可行。
  • 一种三相三柱非晶质铁心
  • [发明专利]一种圆的剥离方法及剥离装置-CN202010860508.4在审
  • 王宏建;赵卫;何自坚;陈湘文;朱建海 - 松山湖材料实验室
  • 2020-08-24 - 2020-11-24 - H01L21/02
  • 本申请提供一种圆的剥离方法及剥离装置,涉及激光加工技术领域。其包括:先在锭的目标聚焦面上形成多个间隔分布的第一改层,然后在目标聚焦面上形成第二改层,第二改层的数量为一个或多个,第二改层与第一改层交替布置且互相连接以共同形成连续的第三改层,第三改层沿目标聚焦面贯穿锭;以第三改层作为剥离界面,将作为目标圆的部分自锭剥离,获得圆。上述方法相比于现有的通过激光束一次性直接形成连续的第三改层方式,可有效减小因激光束连续作用而导致的局部区域热量集中,大幅降低激光加工过程中产生的不利热影响,提高圆的剥离质量。
  • 一种剥离方法装置
  • [发明专利]一种铀矿的浮选方法-CN202010333112.4有效
  • 刘志超;李广 - 核工业北京化工冶金研究院
  • 2020-04-24 - 2022-08-19 - B03D1/018
  • 本发明属于选矿技术领域,具体涉及一种铀矿的浮选方法。将矿石破碎磨细,将矿浆浓度调至矿石质量分数占10%~40%,转移至浮选槽中;用硫酸将矿浆pH值调至5.5~6.5;在矿浆中加入水玻璃搅拌;在矿浆中加入氯化铁,硫酸铜,搅拌,使铀矿与Fe3+和Cu2+充分接触结合;在矿浆内加入苯甲羟肟酸,油酸钠,搅拌,加入2号油,搅拌,充气浮选铀矿,得到粗选精矿和粗选尾矿;在得到的粗选尾矿中加入氯化铁
  • 一种铀矿浮选方法
  • [发明专利]一种基于非晶态碳膜的加速度传感器芯片-CN201610606289.0在审
  • 赵玉龙;马鑫;张琪;胡腾江;王鹏 - 西安交通大学
  • 2016-07-28 - 2017-01-04 - G01P15/12
  • 一种基于非晶态碳膜的加速度传感器芯片,包括硅敏感结构,硅敏感结构的背面与硼玻璃键合,硅敏感结构包括质量块以及与质量块相连的悬臂梁,在硅敏感结构上采用物理气相沉积或化学气相沉积方法镀有四个非碳膜电阻,其中第一非晶态碳膜电阻位于硅敏感结构的悬臂梁上,并靠近边框一端;第二、第三、第四非晶态碳膜电阻位于硅敏感结构的边框处,四个非碳膜电阻连接成惠斯通半桥检测电路,并通过金属导线和焊盘连接,由于本发明采用的非晶态碳膜电阻具有低摩擦系数
  • 一种基于晶态加速度传感器芯片
  • [发明专利]切削工具-CN202080088441.5有效
  • 户田达也;古桥拓也;丰田亮二 - 日本特殊陶业株式会社
  • 2020-10-28 - 2022-12-27 - C04B35/584
  • 切削工具(1)是由氮化硅烧结体(2)形成的,所述氮化硅烧结体(2)包含:基质相(3)、硬质相(4)、及存在有玻璃相(11)和相(12)的界相(10)。氮化硅烧结体(2)含有以氧化物换算计为5.0wt%以上且15.0wt%以下的钇,且含有作为硬质相(4)的氮化钛5.0wt%以上且25.0wt%以下。X射线衍射峰中,在氮化硅烧结体(2)的内部区域中,在2θ为25°至35°的范围内示出光晕图案。在氮化硅烧结体(2)的表面区域中,最大峰强度B相对于最大峰强度A之比即B/A满足下述式(1)的关系,在氮化硅烧结体(2)的内部区域中,最大峰强度B相对于最大峰强度A之比即B/A满足下述式(2)的关系
  • 切削工具

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