专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种ZnO基薄膜及其制备方法-CN201110166520.6有效
  • 潘峰;王钰言;曾飞;陈光 - 清华大学
  • 2011-06-20 - 2012-02-22 - H01F10/32
  • 本发明公开了一种ZnO基薄膜及其制备方法。该ZnO基薄膜,包括基片、位于基片上的薄膜和反薄膜;其中,构成薄膜的材料为Zn1-xTMxO,所述Zn1-xTMxO中,x为0.2%-10.0%,优选3%-5%,TM为过渡金属元素;构成反薄膜的材料选自过渡金属氧化物中的至少一种本发明通过在ZnO基薄膜上沉积一薄层反薄膜或在反薄膜上沉积一层薄膜来提高ZnO基薄膜的室温铁磁性,利用室温铁磁性TM:ZnO薄膜和反薄膜的界面近邻效应,使双层膜结构的室温饱和平均原子磁矩(μB/Co)相对单层薄膜结构的平均原子磁矩明显增大。
  • 一种zno基稀磁薄膜及其制备方法
  • [发明专利]掺杂金刚石半导体及其制备方法-CN201810786224.8有效
  • 赵洪阳;马志斌;程振祥;王欢;蔡康 - 武汉工程大学
  • 2018-07-17 - 2020-05-22 - C23C16/27
  • 本发明涉及一种掺杂金刚石半导体及其制备方法,它以乙酰丙酮作为源,无水乙醇作为碳源,通过无水乙醇将乙酰丙酮引入微波等离子体化学气相沉积装置中,在基底上生长掺杂金刚石,实现将元素引入金刚石中本发明首次以乙酰丙酮作为源,通过挥发的无水乙醇将其引入,采用微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石半导体,并成功生长出在室温下具有磁效应的金刚石。并且发现,随着源用量的增加,金刚石的磁性强度呈现一种上升的现象。针对其的研究有利于最大程度地探究掺杂金刚石的半导体特性,同时也有利于探索金刚石磁性掺杂的更多可能性。
  • 掺杂金刚石半导体及其制备方法
  • [发明专利]ZnO基半导体薄膜及其制备方法-CN201310044088.2有效
  • 林元华;张玉骏;罗屹东;南策文 - 清华大学
  • 2013-02-04 - 2013-05-01 - C23C14/08
  • 本发明公开了一种ZnO基半导体薄膜及其制备方法。方法一以分析纯的金属硝酸盐为原材料,通过水溶液共沉淀法得到掺杂的ZnO粉体,然后采用固相法烧结得到陶瓷靶材,再通过脉冲激光沉积法(PLD)制备成掺杂的半导体ZnO薄膜,或者同样以分析纯的金属硝酸盐为原材料,通过溶胶凝胶法,经过配制溶胶——甩胶——热处理的工艺流程,制备成掺杂的ZnO基半导体薄膜。Co或Mn的ZnO基薄膜中共掺入Cd可以使带隙减小,薄膜的室温饱和磁化强度增大,而共Mg可以使带隙增大,薄膜室温饱和磁化强度减小。
  • zno基稀磁半导体薄膜及其制备方法

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