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[发明专利]掩膜版脱膜去胶方法、制作方法及掩膜版-CN202110326898.1在审
发明人：黄国勇;司继伟;杜武兵 -专利权人：深圳市路维光电股份有限公司
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜版脱膜去胶方法、制作方法及掩膜版，属于掩膜版制作技术领域。掩膜版脱膜去胶方法，包括：对掩膜版半成品进行曝光，使掩膜版半成品上的残留光阻层进行光耦合反应；将进行光耦合反应后的掩膜版半成品与显影液进行反应，去除掩膜版半成品上的残留光阻层。本申请的掩膜版脱膜去胶方法，对掩膜版半成品进行曝光，使掩膜版半成品易于与显影液反应，摒弃了用H2SO4与H2O2混合进行脱膜的方法，不会对掩膜版造成损伤，延长了掩膜版的使用寿命，并且人员操作安全；不需使用自动清洗机进行费时费力的清洗，工序耗时短
掩膜版脱膜去胶方法制作方法掩膜版

[发明专利]有机发光显示器基板电极的图形化方法-CN200610148153.6有效
发明人：张积梅;周刚 -专利权人：上海广电电子股份有限公司
申请日： 2006-12-28 - 公布日： 2008-07-02 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：一种有机发光显示器基板电极的图形化方法，涉及有机发光显示器技术领域；本发明解决了刻蚀时透明导电氧化物电极刻断的技术问题；该方法步骤如下：首先制作包含透明导电氧化物电极图形及金属电极图形的第一掩膜版；在带有金属的透明导电氧化物电极玻璃上途敷正性光刻胶；用第一掩膜版作为掩膜，进行曝光；显影、烘烤；对金属进行蚀刻；对透明导电氧化物电极进行蚀刻；脱膜；其次制作包含覆盖金属电极区域的图形的第二掩膜版；在基板上途敷正性光刻胶；用第二掩膜版作为掩膜，进行曝光；显影、烘烤；对金属进行蚀刻；脱膜。
有机发光显示器电极图形方法

[发明专利]掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法-CN201610354130.4有效
发明人：张小华;刘少华;刘振宇;闫冬;崔富毅 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2016-05-25 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：一种掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法。该掩膜版管理系统包括：掩膜版投入模块，其被配置来提供至少一个掩膜版组，每个所述掩膜版组包括一个卡匣和放置在所述卡匣内的多个掩膜版；掩膜版检测和处理模块，其被配置来检测所述掩膜版组中的多个掩膜版，并根据检测结果对需要处理的掩膜版进行对应的掩膜版处理；掩膜版分类模块，其被配置来将经过处理并合格的掩膜版重新调整到所述掩膜版所属的掩膜版组的卡匣中。该掩膜版管理系统以及掩膜版使用方法可进行精细化的管控，有利于提高生产效率。
掩膜版管理系统以及使用方法

[实用新型]一种双层掩膜版组件和蒸镀装置-CN201720578925.3有效
发明人：赵蓉;金龙 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-05-23 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提供一种双层掩膜版组件和蒸镀装置，涉及显示技术领域，用于使第一掩膜版和第二掩膜版之间可以紧密贴合。该组件包括第一掩膜版、第一掩膜版框架、第二掩膜版和第二掩膜版框架；其中，第一掩膜版固定在所述第一掩膜版框架上，在第一掩膜框架固定第一掩膜版的表面上、且未被第一掩膜版覆盖的区域内设置有第一卡接部；第二掩膜版固定在第二掩膜版框架上，在第二掩膜框架固定第二掩膜版的表面上、且未被第二掩膜版覆盖的区域内设置有第二卡接部；第一掩膜框架固定第一掩膜版的表面与第二掩膜框架固定第二掩膜版的表面相对设置，且第一卡接部与第二卡接部卡合，以便第一掩膜版和第二掩膜版相贴合本实用新型用于掩膜版组件的制造。
一种双层掩膜版组件装置

[实用新型]掩膜框架，掩膜框架和掩膜版组件-CN201721221479.7有效
发明人：李雪萍;黄立为;杨凡;辛燕霞 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-09-21 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜框架，掩膜框架和掩膜版组件。所述掩膜框架用于与掩膜版焊接的位置具有凹陷部，所述凹陷部用于在所述掩膜框架和掩膜版焊接时堆放焊接熔融物。掩膜框架和掩膜版组件，包括掩膜框架和掩膜版；所述掩膜框架用于与掩膜版焊接的位置具有凹陷部，所述凹陷部用于在所述掩膜框架和掩膜版焊接时堆放焊接熔融物；所述掩膜版与所述掩膜框架紧贴，且所述掩膜版的焊接位置与所述掩膜版框架的凹陷部至少部分重合；在所述掩膜版的焊接位置处焊接，所述焊接熔融物形成的焊点位于所述凹陷部及所述掩膜版焊接形成的孔内，且所述掩膜版和所述掩膜版焊接在一起。本实用新型解决了现有的掩膜框架无法控制焊接熔融物流动方向的技术问题。
框架掩膜版组件

[发明专利]掩膜版-CN201911290041.8在审
发明人：曹杰 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2020-04-07 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版，其包括至少一组掩膜版组，掩膜版组包括第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和至少一个中间子掩膜版；第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版和中间子掩膜版的长相同，存在至少两组不同的倍数，使得中间子掩膜版的宽与之相乘后，与第一边缘子掩膜版的宽和第二边缘子掩膜版的宽相加之和，分别与两个不同尺寸的显示面板的长度相同；中间子掩膜版的长所对应的两条边上均设置有半掩膜区，第一边缘子掩膜版、第二边缘子掩膜版的长所对应的一条边上设置有半掩膜区，半掩膜区的尺寸相同。本发明将掩膜版设置为多个小尺寸的子掩膜版，通过子掩膜版平移，实现大尺寸显示面板的图案化，缓解了现有技术存在制作高成本大尺寸掩膜版的问题。
掩膜版

[发明专利]掩膜版的处理系统-CN201811321294.2有效
发明人：陈林 -专利权人：成都中电熊猫显示科技有限公司
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版的处理系统，该系统包括：紫外线垂直配向UV2A露光装置、掩膜版检查装置、处理装置；掩膜版检查装置分别与UV2A露光装置、处理装置连接；UV2A露光装置，用于获取待选掩膜版；掩膜版检查装置，用于对待选掩膜版进行检查，获取多个目标掩膜版；处理装置，获取每个目标掩膜版的划痕检查结果，并根据每个目标掩膜版的划痕检查结果，对每个目标掩膜版进行处理。本发明提供的掩膜版的处理系统能够主动获取具有划痕的多个目标掩膜版，并根据目标掩膜版的划痕检查结果对掩膜版进行处理，提高了处理效率。
掩膜版处理系统

[发明专利]一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件-CN201910244878.2有效
发明人：郑勇;杜帅;丁文彪 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件，涉及掩膜版领域，能够解决掩膜版在焊接时因激光能量不易控制而造成的焊接不良；该掩膜版包括掩膜图案区以及位于掩膜图案区四周的非掩膜图案区；掩膜图案区包括至少一个有效掩膜区；有效掩膜区中包括：多个蒸镀孔，以及位于蒸镀孔和蒸镀孔之间的遮挡条；掩膜版在非掩膜图案区内设置有焊接区；掩膜版在非掩膜图案区内至少在焊接区的厚度，大于掩膜版在有效掩膜区的遮挡条的厚度。
一种掩膜版及其制作方法组件

[发明专利]光掩膜版的射频识别管理系统及方法-CN201910227024.3在审
发明人：游聪敏;高丁山 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2019-03-22 - 公布日： 2020-10-20 - 主分类号： G06K7/14 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩膜版的射频识别管理系统及方法，所述系统包括：光掩膜版，在其上设置有光掩膜版信息标记；光掩膜版传送盒，在其上设置有光掩膜版传送盒信息标记；信息读取装置，用于读取光掩膜版信息标记的信息和光掩膜版传送盒信息标记的信息；以及处理装置，用于比较所述光掩膜版信息标记所对应的型号和光掩膜版传送盒信息标记所对应的型号是否相同；若相同，则对所述光掩膜版继续执行后续操作，若不相同，则所述光掩膜版不能执行所述后续操作。上述系统可以在出货前、上机时和制程加工程序中对光掩膜版的型号进行验证，从而提高光掩膜版的存取效率，避免光掩膜版型号错误带来的各种问题。
光掩膜版射频识别管理系统方法

[发明专利]一种超细磨料颗粒有序排布方法-CN202210743410.X有效
发明人：李兴勇;吴建立;高巍巍 -专利权人：泰科材料技术（广州）有限公司
申请日： 2022-06-28 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B24D18/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种超细磨料颗粒有序排布方法，包括如下步骤：砂轮基体预处理、掩膜版制备、砂轮基体贴膜、暗箱曝光、掩膜显影、分段上砂、脱膜前砂轮基体整体加厚、脱膜和脱膜后加厚。本发明超细磨料颗粒可直接、快速地镀于砂轮基体上预定的掩膜位置，进行有序排布，因而形成磨屑的排屑通道，有利于冷却液进入磨削界面，散热效果大幅提升，而且提高了排屑能力和工件加工质量。
一种磨料颗粒有序排布方法

[发明专利]一种掩膜版、曝光设备和曝光方法-CN202211203997.1在审
发明人：杨堂;叶超;魏小丹;何宝生;刘沛;邓祖文 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种掩膜版、曝光设备和曝光方法。该掩膜版包括：有多个子掩膜图形组的第一掩膜子版和有多个透光区的第二掩膜子版。第二掩膜子版设置在第一掩膜子版的一侧，且能够相对第一掩膜子版移动。移动对位结构与第二掩膜子版连接，用于根据接收到的对位信号，控制第二掩膜子版移动，以使得在不同的曝光过程中透光区分别对应不同的子掩膜图形组。本申请实施例可以将多种掩膜版图形集成在一张掩膜版中，减少掩膜版使用数量，降低生产成本，同时减少生产时掩膜版的移动风险及其造成的产品工艺不良。
一种掩膜版曝光设备方法

[发明专利]贴膜机-CN201510014250.5有效
发明人：张建国;夏静远 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2015-01-12 - 公布日： 2015-04-29 - 主分类号： B32B37/10 文献下载
摘要：本发明属于贴膜设备领域，尤其涉及一种贴膜机，旨在解决现有贴膜机中掩膜版定位机构与掩膜版夹具难以适应不同尺寸规格的掩膜版的技术问题。将用于安装蒙版的蒙版夹具安装在平台上，框架上沿X轴方向滑动安装两个竖直臂同时沿Z轴方向滑动安装两个水平臂，竖直臂与水平臂可夹紧掩膜版，蒙版与掩膜版相面对设置，第一动力组件将安装有蒙版与掩膜版的夹具组件推向压边组件保证相对两边上的压制效果，两个压杆间距可调，适应不同尺寸规格的掩膜版，克服了在对不同尺寸规格的掩膜版进行贴付蒙版时需要更换对应的掩膜版定位机构与掩膜版夹具的麻烦，节省了制作多套掩膜版定位机构与掩膜版夹具的成本。
贴膜机

[发明专利]掩膜版张网框架及掩膜版张网工艺-CN201810639566.7在审
发明人：孙朴;吕守华;王震 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2018-06-20 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： G03F1/64 文献下载
摘要：本发明公开一种掩膜版张网框架及掩膜版张网工艺，掩膜版张网框架包括框体和多根支撑筋。框体为具有开口的闭合框式结构，框体具有顶面。其中，支撑筋固定于框体的顶面，且支撑筋跨设于框体的开口。其中，掩膜版张网于掩膜版张网框架时，掩膜版边缘焊接于框体的顶面，掩膜版的位于开口的部分由支撑筋支撑。本发明通过在采用“支撑筋固定在框体顶面并筋跨设于框体开口”的设计，使得“掩膜版张网于掩膜版张网框架时，掩膜版边缘焊接在框体的顶面，且掩膜版的位于开口的部分由支撑筋支撑”。据此，本发明提出的掩膜版张网框架能够使掩膜版张网后，由支撑筋提供充分的支撑效果，并使掩膜版获得较佳的平坦度。
掩膜版张网支撑筋框体顶面开口掩膜版边缘跨设焊接支撑闭合框式框体顶面框体开口平坦度

[实用新型]一种掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件-CN202321275788.8有效
发明人：叶小稳 -专利权人：合肥清溢光电有限公司
申请日： 2023-05-24 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型公开了掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件，掩膜版支撑结构包括安装部和支撑部，支撑部与安装部固接且包括若干相离的支撑齿，支撑齿上向上的齿面为支撑面，支撑面呈倾斜状设置，被支撑的掩膜版边沿搭接在支撑面上，支撑面由掩膜版边沿向掩膜版中间位置向下倾斜；掩膜版支撑结构结构简单，支撑能力好，支撑时，与掩膜版的接触为线接触，有效的降低了掩膜版的接触面积，尽量避免在对掩膜版支撑时造成掩膜版污染；同时，若在清洗设备中对掩膜版进行中支撑时，与掩膜版接触面积小，游侠的避免水印产生，同时也降低了掩膜版上清洗死角。
一种掩膜版支撑结构清洗组件

[实用新型]一种有机电致发光显示器蒸镀用掩膜版组-CN201220169863.8有效
发明人：赵建明 -专利权人：彩虹(佛山)平板显示有限公司
申请日： 2012-04-19 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种有机电致发光显示器蒸镀用掩膜版组，包括第一边部掩膜版、第二边部掩膜版和若干中心部位掩膜版；所述若干中心部位掩膜版设置于第一边部掩膜版和第二边部掩膜版之间。本实用新型一种有机电致发光显示器蒸镀用掩膜版组，将整张掩膜版分割为边部掩膜版和若干中心部位掩膜版，便于有目的进行局部更换；本实用新型结构简单，制作难度没有增加，能有效降低掩膜版消耗量，从而有效控制了掩膜版费用的支出
一种有机电致发光显示器蒸镀用掩膜版组

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