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- [发明专利]耐刻蚀KrF光刻胶及制备方法-CN202111650156.0在审
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陈韦帆;黄巍;徐亮;季昌彬
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苏州瑞红电子化学品有限公司
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2021-12-30
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2022-03-25
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G03F7/004
- 本申请涉及光刻胶的领域,具体公开了一种耐刻蚀KrF光刻胶及制备方法。耐刻蚀KrF光刻胶,包括成膜树脂,所述成膜树脂包括羟基苯乙烯‑苯乙烯‑丙烯酸叔丁酯‑丙烯酸铝四元共聚物。耐刻蚀KrF光刻胶的制备方法,包括:取成膜树脂溶于光刻胶溶剂中;取光致酸产生剂、有机碱加入溶有所述成膜树脂的光刻胶溶剂中,混合均匀,得到光刻胶粗品;将所述光刻胶粗品通过聚四氟乙烯膜过滤,而得到光刻胶成品本申请所得光刻胶表现出良好的光刻精度和理想的耐刻蚀性。本申请通过含金属铝的丙烯酸化合物和羟基苯乙烯、苯乙烯、丙烯酸叔丁酯的共聚和协同配合,利用金属铝的保护作用,能够有效地提高成膜树脂的耐刻蚀能力。
- 刻蚀krf光刻制备方法
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