专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种用于非平面基材的蚀刻方法和蚀刻装置-CN201210277242.6有效
  • 刘若鹏;金曦;王旭伟 - 深圳光启创新技术有限公司
  • 2012-08-06 - 2012-12-12 - G03F7/00
  • 本发明公开了一种用于非平面基材的蚀刻方法,其包括:提供非平面基材;用感光抗蚀剂覆盖非平面基材中非平面的至少一部分;通过图形转移工具对覆盖在非平面基材中非平面的至少一部分的感光抗蚀剂进行曝光;对进行曝光后的感光抗蚀剂进行显影;使用立体蚀刻方法对进行显影后暴露出来的非平面基材进行蚀刻。本发明还公开了一种用于非平面基材的蚀刻装置。本发明的用于非平面基材的蚀刻方法和蚀刻装置通过在非平面基材中非平面的至少一部分覆盖感光抗蚀剂并对感光抗蚀剂进行曝光和显影,再使用立体蚀刻方法对显影后暴露出来的非平面基材进行蚀刻,能够适应于大尺寸的非平面基材
  • 一种用于平面基材蚀刻方法装置
  • [发明专利]曲面盖板的制备方法及移动终端-CN201910322698.1在审
  • 李静;袁于才 - OPPO广东移动通信有限公司
  • 2019-04-22 - 2020-10-27 - H01M2/10
  • 本申请提供了一种曲面盖板的制备方法、曲面盖板及移动终端,该曲面盖板的制备方法包括如下步骤:提供平面基材;在平面基材的表面制作纹理,得到带纹理的平面基材;在平面基材的带纹理的表面覆盖保护膜,得到带保护膜的平面基材;对带保护膜的平面基材进行热弯成型加工,使带保护膜的平面基材弯曲成所需曲面形状,得到带有纹理的曲面盖板。本申请保护膜可以对纹理起到缓冲作用,避免了平面基材在进行热弯成型加工时,形成于平面基材表面的纹理被压平而影响纹理质量的风险,提升了曲面盖板(例如曲面电池盖板)的美观,优化了用户体验。
  • 曲面盖板制备方法移动终端
  • [实用新型]抗氧化收口条-CN201820235329.X有效
  • 赵崇联;李立君;黄镜澳;张海林 - 永清霍尔茨门业有限公司
  • 2018-02-09 - 2018-10-19 - E04F19/02
  • 本实用新型公开了一种抗氧化收口条,收口条包括第一平面、第二平面、第三平面、第四平面、第五平面、第六平面、第七平面、第八平面、第九平面、第十平面、第十一平面、第十二平面、第十三平面、第十四平面、第十五平面、第十六平面、第十七平面、第十八平面,所述收口条由基材层、CPL层、抗氧粘合层组成,所述CPL层包覆在所述基材层表面,所述抗氧粘合层设在所述基材层和所述CPL层之间;由于采用了上述技术方案,与现有的技术相比,本实用新型通过在收口条的CPL层与基材层之间采用抗氧化粘结剂,抗氧化粘结剂的使用也使得CPL层与基材层可以更牢固的贴合。
  • 收口条基材层抗氧化本实用新型粘合层粘结剂基材层表面包覆贴合
  • [实用新型]一种瓦楞纸板衣柜-CN201420235535.2有效
  • 黄帅军;程胜男 - 北京印刷学院
  • 2014-05-08 - 2014-10-29 - A47B47/06
  • 本实用新型公开了一种瓦楞纸板衣柜,包括衣柜基材,衣柜基材包括第一平面、第二平面与第三平面,的三个平面为一张瓦楞纸折叠而成,其中,第一平面、第三平面均与第二平面面面垂直,且第一平面、第三平面均在第二平面的同一侧,的三个平面均垂直于水平地面;固定储物柜,固定储物柜为一面开口的长方体,其开口平面为上表面,位于衣柜基材的内包围结构中,与衣柜基材固定连接;组合储物柜,组合储物柜为一面开口的长方体,其开口平面为外侧表面,内部有与长方体任一侧面平行或垂直的分隔板,将长方体分割为多个单元,组合储物柜位于衣柜基材的内包围结构中,与衣柜基材固定连接。
  • 一种瓦楞纸板衣柜
  • [发明专利]一种平面化流道真空发生器及其制备方法-CN202310681851.6在审
  • 郭钟华;窦梦宇 - 南京理工大学
  • 2023-06-09 - 2023-08-11 - F04F5/20
  • 本发明公开了一种平面化流道真空发生器,包括平面基材平面基材内开设出空腔形成流道,流道一端贯通平面基材形成供气口,流道另一端贯通平面基材形成排气口,所述流道包括加速段和混合段,加速段和混合段之间设有槽口;平面基材还开设出真空腔,槽口连通真空腔和流道,平面基材上设有真空口和真空腔相连;所述流道的加速段通过缩小截面面积增大流速。本发明还公开了平面化流道真空发生器的制备方法。本发明的平面化流道真空发生器在尺寸上可以实现超薄型真空发生器,便于集成化,在微电子、机器人、自动化等领域有经济高效、易于加工、节省空间、安装便利等优点。
  • 一种平面化真空发生器及其制备方法
  • [发明专利]玻璃基材的延伸方法及装置-CN201210051651.4有效
  • 乙坂哲也 - 信越化学工业株式会社
  • 2012-03-01 - 2012-09-05 - C03B23/047
  • 本发明提供玻璃基材延伸方法及装置,通过辊筒延伸,能够取得弯曲小的玻璃棒。其特征在于,使用至少具有玻璃基材的输送结构、加热炉、和在该加热炉下方的玻璃基材的领取结构的玻璃基材延伸装置,来延伸玻璃基材,制造直径更细的玻璃棒的方法,其中,在所述加热炉内部或热炉附近设置所述玻璃基材的水平面位置测量装置;在所述输送结构上设置玻璃基材平面位置调整装置;所述领取结构上设置三组以上为固定保持所述玻璃棒的水平面内的位置而握持及松开可能的领取辊筒;控制玻璃基材平面位置调整装置,将在延伸过程中的所述玻璃基材的水平面内的位置与预定的目标位置对齐并延伸
  • 玻璃基材延伸方法装置
  • [发明专利]一种偏振分光装置以及制造方法-CN202310393956.1在审
  • 赵泽雄;耿帅 - 苏州伽蓝致远电子科技股份有限公司
  • 2023-04-13 - 2023-08-22 - G02B27/28
  • 本发明公开了一种偏振分光装置,属于光通信领域,包括基材基材由玻璃制成,基材包括两相互平行的第一平面以及第二平面,第一平面局部设有高反膜,第二平面局部设有PBS膜,高反膜与PBS膜交错设置,非偏振光经过基材折射后经过PBS膜,PBS膜透射出第一偏振光并且PBS膜反射第二偏振光,第二偏振光经过高反膜反射从基材折射出,从偏振分光装置射出的第一偏振光与第二偏振光相互平行。本申请基材使用光学玻璃,材料要求低,成本较低;为保证出光平行度,仅需控制基材两抛光面(第一平面以及第二平面)平行度和面形,工艺相对简单,对加工技能要求低。本发明还涉及上述偏振分光装置的制造方法。
  • 一种偏振分光装置以及制造方法

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