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[发明专利]平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法-CN201510263169.0在审
发明人：陈磊;郑东晖;曹慧;周斌斌;朱文华;郑权;万骏;韩志刚 -专利权人：南京理工大学
申请日： 2015-05-21 - 公布日： 2015-11-25 - 主分类号： G01N21/45 文献下载
摘要：本发明公开了一种平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法。步骤为：对第一透射参考平晶工作面和待测平行平晶前表面进行一次干涉测量；在待测平行平晶后面放置反射参考平晶，对第一透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次干涉测量；对第一透射参考平晶工作面和待测平行平晶后表面进行一次干涉测量；对第一透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次空腔干涉测量；用第二透射参考平晶替换第一透射参考平晶，对第二透射参考平晶和第一透射参考平晶工作面进行一次干涉测量；对第二透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次干涉测量；综合测量结果，得到待测平行平晶的光学非均匀性。
平行光学均匀绝对测量方法

[实用新型]大量程千分尺平行调节工装-CN201921713818.2有效
发明人：吴进成 -专利权人：马尔精密量仪（苏州）有限公司
申请日： 2019-10-14 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G01B3/18 文献下载
摘要：该大量程千分尺平行调节工装包括连接杆，连接杆两端粘结有平晶支撑件；平晶支撑件设有平晶容腔，平晶容腔内放置有平行平晶，平行平晶与平晶支撑件通过胶水粘结；平晶支撑件在平行容腔侧壁设有若干螺纹通孔，螺纹通孔中螺接固定有螺钉，通过控制螺钉伸入平行容腔的长度调节两平行平晶端面平行；平晶支撑件于平行平晶厚度方向设有可视窗口。
量程千分尺平行调节工装

[发明专利]在平面度地形图中修正标准平晶平面度的测量方法-CN202111174773.8有效
发明人：张成悌;薛靓;冉庆;汤江文;付天坤;龚柯安;徐德宇;杨桩;蒋丽 -专利权人：中国测试技术研究院机械研究所
申请日： 2021-10-09 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本发明涉及平晶测量领域，具体涉及一种在平面度地形图中修正标准平晶平面度的测量方法，用于在卧式干涉仪中对平晶组进行多点测量，平晶组包括四块以上平晶，每个平晶沿中心点均匀划分为N个待测截面，每个待测截面上选取除中心点外的M个测量点，按以下步骤进行测量：步骤S1，取平晶组中的任意两块平晶分别标记为平晶A和平晶B，将平晶A和平晶B放置于卧式干涉仪上，且工作面相对放置，将平晶A上的N个待测截面中离中心点最远的测量点按顺时针方向进行编号……步骤S6，在平晶组多块块平晶分别取得各截面直线度平均结果和各截面端点的共面度平均值后，将各截面直线度偏差叠加在共面度的相应点上，即可得到每块平晶的多截面平面度偏差。
平面地形图修正标准测量方法

[发明专利]平晶承托装置以及激光干涉检测设备-CN201910372788.1在审
发明人：王全召;韩森;张凌华;张博 -专利权人：苏州慧利仪器有限责任公司
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种平晶承托装置以及包含该平晶承托装置的激光干涉检测设备。本发明的平晶承托装置，被设置在具有参考平晶承载装置的激光干涉检测设备上，并且被安装在参考平晶承载装置的正下方，用于承托待测平晶，其特征在于，包括：安装座，用于固定安装；以及承托部，设置在安装座上，用于放置待测平晶，包含承托座以及设置在该承托座上用于承托待测平晶的承托构件，其中，承托构件具有与待测平晶的端面相贴合的软性的承托平面。
平晶承托装置激光干涉检测承托构件承载装置安装座承托座承托承托平面参考承托部软性贴合

[实用新型]用于光学镜头软装校的通用型平晶-CN201621008430.9有效
发明人：王宏波;于闻;李跃庭;徐安健;赵锐全;杨帆;江会;彭代东;伍纯智;徐程 -专利权人：昆明北方红外技术股份有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：用于光学镜头软装校的通用型平晶，涉及一种平晶，特别是涉及一种用于光学镜头软装校的通用型平晶。光学镜头软装校的通用型平晶，其特征在于该平晶由安装底盘和平晶组件构成，平晶组件通过连接圈与安装底盘固定；其中，安装底盘面上设置三根可调节位置的支撑腿；平晶组件内置一个小口径圆形平晶，并通过两个调节旋钮调整平晶的倾斜角度本实用新型一方面避免了因应对不同口径形状透镜的软装校而需加工大量平晶，节约成本的同时缩短了光学系统装调周期；另一方面提高了平晶的利用率。
用于光学镜头软装校通用型

[发明专利]一种提高平边产品晶棒线切割入刀稳定性的方法-CN202010564568.1有效
发明人：陈奎;贺贤汉;吉远军 -专利权人：上海中欣晶圆半导体科技有限公司
申请日： 2020-06-19 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B28D5/04 文献下载
摘要：本发明的公开了一种提高平边产品晶棒线切割入刀稳定性的方法，将两根待切割的平边产品晶棒根据面方位要求旋转，待旋转至达到面方位要求的角度后，将待切割的平边产品晶棒固定在工件板上；测定两根平边产品晶棒的旋转角度；当旋转角度大于等于阈值时，设定为有旋转角度的平边产品晶棒；当旋转角度小于阈值时，设定为无旋转角度的平边产品晶棒；对于有旋转角度的平边产品晶棒，将2根树脂条靠近平边产品晶棒底部入刀口处两侧粘接，此处底部入刀口处为平边产品晶棒的平边与弧边之间的交接点；对于无旋转角度的平边产品晶棒，将2根树脂条靠近平边产品晶棒的平边两侧粘接；使钢线在切入晶棒切割过程中能够稳定入刀。
一种提高产品晶棒线切割稳定性方法

[发明专利]一种平面平晶检定装置及检定方法-CN202210311984.X有效
发明人：张志庭;郑剑峰;刘晓峰;黄晓川;李黎明;刘苗;谢贤梅 -专利权人：深圳众庭联合科技有限公司
申请日： 2022-03-28 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种平面平晶检定装置及检定方法，包括被测平晶，被测平晶的底部设置有标准平晶，被测平晶的顶部设置有准直物镜，准直物镜的左上方设置有挡板，挡板上开设有小孔，挡板的侧面设置有光纤激光，挡板的右侧设置有第一反射镜，准直物镜的正上方设置有第二反射镜，光纤激光的激光前方设置有分光镜，分光镜的右侧设置有CCD相机；本发明通过采用了平面等厚干涉的方法，通过相机采集被测平晶与标准平晶的干涉图样，以及采用自行搭建的平面度算法，完成被测平晶的检定，同时可并行检定多个被测平晶的平面度，提高检定效率。
一种平面检定装置方法

[发明专利]用于测量平晶绝对面形的立式激光干涉测量设备及方法-CN201910372078.9有效
发明人：韩森;李雪园;庄锦程;张凌华;刘薇 -专利权人：苏州慧利仪器有限责任公司
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于测量平晶绝对面形的立式激光干涉测量设备以及测量方法，采用三平面互检的方式对三个平晶的工作面的绝对面形进行测量，包括：设备主体，包含激光发射器、滤波器、分光镜、准直透镜、成像物镜、图像探测器以及处理部；参考平晶承载装置，位于准直透镜的正下方并且与该准直透镜同光轴设置，用于承载作为参考平晶的平晶；以及平晶旋转承载装置，位于参考平晶承载装置的正下方并且与该参考平晶承载装置同光轴设置，用于承载作为待测平晶的平晶，其中，平晶旋转承载装置具有固定盘、旋转承载部以及限定部，限定部用于在旋转盘切换至第一位置时将旋转盘限定在第一位置以及在旋转盘切换至第二位置时将旋转盘限定在第二位置。
用于测量绝对立式激光干涉设备方法

[发明专利]基于重力变形和折射率非均匀性补偿的大口径立式绝对检验方法-CN202111051232.6有效
发明人：陈磊;王云涛;马海颖;张正宇;陈佳;郑东晖;胡晨辉;马致遥;黄晨;张喆;李若琨;胡志豪 -专利权人：南京理工大学
申请日： 2021-09-08 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于重力变形和折射率非均匀性补偿的大口径立式绝对检验方法，包括：设置3个大口径光学平晶，初始状态时平晶Ⅰ的工作面为A，平晶Ⅱ的上表面为B而下表面为C，平晶Ⅲ的工作面为D，平晶Ⅰ作为参考镜、平晶Ⅱ作为中介平晶、平晶Ⅲ作为测试镜；进行六次测量；利用有限元方法得到平晶Ⅱ的重力变形量，利用上述的部分测量组合得到平晶Ⅱ的折射率非均匀性，补偿两种因素在测量中的影响；利用旋转对称函数性质求得面形的旋转对称项本发明补偿了大口径光学平晶重力变形和折射率非均匀性对测量的影响，而且能够保证各自面形在所有频率的信息。
基于重力变形折射率均匀补偿口径立式绝对检验方法

[实用新型]晶圆平边校准装置及应用其的光刻机-CN201821537645.9有效
发明人：张成安;魏纯;肖乐 -专利权人：深圳市矽电半导体设备有限公司
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及晶圆校准技术领域，更具体地说，它涉及一种晶圆平边校准装置及应用其的光刻机，晶圆平边校准装置的技术方案要点是：一种晶圆平边校准装置，其包括机架，所述机架上设有承载台、检测机构以及第一驱动机构；所述第一驱动机构用于驱动所述承载台转动；所述承载台用于承载晶圆，以受驱动带动晶圆一起转动；所述检测机构用于对承载台上晶圆的平边位置进行检测，且在检测到晶圆的平边位置时向所述第一驱动机构发送旋转停止信号，以将晶圆的平边校准到预设位置。本实用新型的晶圆平边校准装置可以对晶圆的平边进行校准，其结构相对较简单，实施起来较方便。
晶圆校准装置平边第一驱动机构承载台本实用新型平边位置光刻机圆平边校准种晶转动技术方案要点承载驱动校准技术旋转停止预设位置检测应用发送

[发明专利]用于测量平晶绝对面形的激光干涉校准测量设备及方法-CN201910372059.6有效
发明人：韩森;张凌华;李雪园;刘薇;庄锦程 -专利权人：苏州慧利仪器有限责任公司
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于测量平晶绝对面形的立式激光干涉测量设备以及方法。本发明的立式激光干涉测量设备包括：设备主体，具有准直透镜；参考平晶承载装置；平晶旋转承载装置，与参考平晶承载装置同光轴设置，用于作为在水平式测量状态时的待测平晶承载装置；以及平晶承托装置，替代平晶旋转承载装置，用于作为在立式测量状态时的待测平晶承载装置，其中，平晶旋转承载装置具有固定盘、旋转承载部以及限定部，限定部用于在旋转盘切换至第一位置时将旋转盘限定在第一位置以及在旋转盘切换至第二位置时将旋转盘限定在第二位置，平晶承托装置具有安装座以及承托部，承托部设置在安装座上，包含承托构件，承托构件具有软性的承托平面。
用于测量绝对激光干涉校准设备方法

[实用新型]一种灌小尺寸LCD灌晶机调平机构-CN201822187654.6有效
发明人：郑广辉 -专利权人：江西华尔升科技有限公司
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-08-09 - 主分类号： G02F1/1341 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种灌小尺寸LCD灌晶机调平机构，其特征在于，包括：第一调平机构和第二调平机构，所述第一调平机构设置于所述灌晶机的底部，用于对所述灌晶机整体进行调平；所述第二调平机构设置于所述灌晶机内部的每个液晶盘上，用于对每个液晶盘进行调平。本实用新型的灌小尺寸LCD灌晶机调平机构，包括第一调平机构和第二调平机构，因此可以实现对灌晶机快速、准确地调节水平。
调平机构灌晶机本实用新型液晶盘调平

[实用新型]一种灌小尺寸LCD灌晶机调平机构-CN202120804650.7有效
发明人：吴统军;赵子义 -专利权人：四川乐仕达电子科技有限公司
申请日： 2021-04-19 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： G02F1/1341 文献下载
摘要：本实用新型涉及液晶灌晶调平领域，公开了一种灌小尺寸LCD灌晶机调平机构，包括调平池，调平池内盛装有悬浮液，悬浮液表面浮设有灌晶平台，灌晶平台顶面开有容置槽，容置槽槽底设为平面，且容置槽槽底所在平面与悬浮液表面平行其能够快速有效地调平灌晶平台，调平精度高，有效提升灌晶质量。
一种尺寸 lcd 灌晶机调平机构

[实用新型]一种平晶夹具-CN202021695162.9有效
发明人：田小东;汪哲 -专利权人：上海禾荷科技有限公司
申请日： 2020-08-14 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及机械夹具技术领域，本实用新型涉及一种平晶夹具。平晶夹具包括支架；所述支架上分别设置有多个夹持部和固定件，所述夹持部用于夹持平晶，所述固定件用于固定平晶。本实用新型的平晶夹具结构不仅可以同时安装多个平晶，同时测量不同的待测物，提升生产效率，而且夹具整体结构简单，易操作。
一种夹具

[发明专利]晶圆校准装置及应用其的光刻机-CN201811098449.0有效
发明人：张成安;魏纯;肖乐 -专利权人：矽电半导体设备（深圳）股份有限公司
申请日： 2018-09-20 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆校准技术领域，更具体地说，它涉及一种晶圆校准装置及应用其的光刻机，其技术方案要点是：一种晶圆校准装置，其包括机架，所述机架上设有承载台、晶圆中心校准装置和晶圆平边校准装置；所述承载台，用于承载晶圆；所述晶圆中心校准装置，用于对承载台上晶圆的中心进行校准；所述晶圆平边校准装置，用于对承载台上晶圆的平边进行校准。根据本发明提供的技术方案，晶圆中心校准装置可以对承载台上晶圆的中心进行校准,晶圆平边校准装置可以对承载台上晶圆的平边进行校准,晶圆中心校准装置和晶圆平边校准装置两者配合,可以实现对晶圆的中心和平边均进行校准,可满足晶圆的准确定位和高效生产。
校准装置应用光刻

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