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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种能消除LCD蚀刻纹的膜层-CN202210081014.5在审
发明人：王俊杰;姚伏恒;周卫华;范德顺;肖正华 -专利权人：湖南飞优特电子科技有限公司
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明公开一种能消除LCD蚀刻纹的膜层，包括偏光片膜层、基板玻璃层、ITO膜层、高折射率PI膜层、常规PI膜层、液晶膜层和边框，所述偏光片膜层的底面贴合有基板玻璃层，并且基板玻璃层的底面贴合有高折射率PI膜层，所述高折射率PI膜层的底面贴合有常规PI膜层，所述常规PI膜层的底面贴合有液晶膜层。本发明通过设置的偏光片膜层、基板玻璃层、ITO膜层、高折射率PI膜层、常规PI膜层、液晶膜层和边框，可以达到贴合高折射率的SiO2膜层相同的消影效果，且成本较低，成本约为SiO2膜层的十分之一，更易批量化
一种消除 lcd 蚀刻

[发明专利]分离膜材料及制备方法及应用-CN202210627190.4有效
发明人：吕剑阳 -专利权人：天津海龙津阳材料科技有限公司
申请日： 2022-06-06 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： B01D71/30 文献下载
摘要：本发明属于膜分离技术领域，涉及一种分离膜材料及制备方法及应用。针对聚偏氟乙烯膜力学性能较差和聚氯乙烯膜脆性问题，本发明提出将聚氯乙烯材料与聚偏氟乙烯材料共混，并加入水溶性一元胺，制备高抗污染性和高力学强度的多孔膜。本发明提出将聚氯乙烯/聚偏氟乙烯共混膜作为基膜，按照常规的界面聚合反应方法，涂覆常规界面聚合反应的水相溶液，再接触常规界面聚合反应的油相溶液，制备反渗透或纳滤复合膜，进而，将该基膜先与多元胺水溶液反应，形成复合膜的中间层，再按照常规的界面聚合反应方法，涂覆常规界面聚合反应的水相溶液，再接触常规界面聚合反应的油相溶液，从而制备反渗透或纳滤复合膜。
分离材料制备方法应用

[实用新型]一种通量大阻力小的抗变形3D柔芯平板膜-CN202121897546.3有效
发明人：周强;周侃宇 -专利权人：江苏沛尔膜业股份有限公司
申请日： 2021-08-13 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： B01D61/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种通量大阻力小的抗变形3D柔芯平板膜，包括平板常规过滤底膜，所述平板常规过滤底膜的上端固定连接有强过滤韧性柔芯，所述强过滤韧性柔芯的上端固定连接有抗变形耐腐蚀前膜，所述平板常规过滤底膜的四周开设有边角定位微槽，所述平板常规过滤底膜的两端开设有横向边定位微槽。本实用新型所述的一种通量大阻力小的抗变形3D柔芯平板膜，设有强过滤韧性柔芯与抗变形耐腐蚀前膜，通过增加强过滤韧性柔芯，便于增加平板膜膜芯的柔韧性，提升平板膜的过滤性，通过增加抗变形耐腐蚀前膜，能够有效抗腐蚀、抗形变，提高平板膜外部耐腐蚀属性，避免过滤生产时损坏过滤膜完整性。
一种通量阻力变形平板

[发明专利]一种带窗口的标签的生产工艺-CN201910329644.8有效
发明人：孟斌 -专利权人：捷卡（厦门）工业科技有限公司
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： B41M1/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种带窗口的标签的生产工艺，其通过对标签上的窗口区域进行保护膜的出血印刷，使得保护膜边缘的区域均覆盖在印刷好的常规区域上，而保护膜的可剥胶与常规区域的油墨之间无附着力；并且，窗口区域上的保护膜是属于印刷受力均衡稳定、容易被揭下的一整块，所以，在将保护膜从标签上揭下过程，印刷好的常规区域上的保护膜因为与印刷好的常规区域之间无附着力，所以容易被揭下；而窗口区域上的保护膜印刷受力均衡稳定，所以容易被整块揭下；所以通过本发明的生产工艺生产的标签，在揭下保护膜的过程中，不会存在保护膜残留，清理不便的缺陷。
一种窗口标签生产工艺

[实用新型]以微污染水体为水源的再生水处理装置-CN201120242413.2有效
发明人：唐传祥;禹芝文;游建军;杜成琼;曾丁松;黄志红 -专利权人：中国水电顾问集团中南勘测设计研究院;云南国水环保科技有限公司
申请日： 2011-07-11 - 公布日： 2012-02-22 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种以微污染水体为水源的再生水处理装置，包括常规水处理单元，在常规水处理单元的前部分增设生物预处理单元，并在常规水处理单元的后部分增设深度处理膜单元；所述生物预处理单元由厌氧池(3)、缺氧水解酸化池(4)、生物接触氧化池(5)依次连接组成；所述深度处理膜单元为膜生物反应器(9)。在常规净水单元前增设生物预处理单元，是用以去除各种有机物，增加生活饮用水和工业用水的安全可靠性。而在常规净水单元之后增设深度处理膜单元，主要是起保安和把关作用，从而保证出水水质。
污染水体水源再生水处理装置

[发明专利]导电WPC纤维膜的制备方法-CN201810637358.3在审
发明人：徐红华;何雪飞;王欣;丁瑞;谢明明;关琛 -专利权人：东北农业大学
申请日： 2018-06-20 - 公布日： 2018-11-02 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有导电性能的WPC纤维膜的制备方法。混入明胶和甘油，其中WPC纳米纤维与明胶比例为1:0.6(w/w)，与甘油比例为1：0.5(w/w)，在90℃水浴热处理30min，静止、淋膜，制备WPC纤维膜。其导电性是相同条件下WPC常规膜导电性的1.73倍，拉伸强度是WPC常规膜的1.78倍；断裂伸长率是WPC常规膜的1.64倍；阻油性是常规WPC膜的2倍。
常规膜纤维膜制备导电性明胶甘油乳清浓缩蛋白断裂伸长率热处理导电性能纳米纤维水浴加热油性上清液导电混入拉伸淋膜水浴静止冷却

[实用新型]一种带降应力膜层结构的树脂眼镜片-CN201921359439.8有效
发明人：黄昱勇;汤峰 -专利权人：丹阳市精通眼镜技术创新服务中心有限公司
申请日： 2019-08-21 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： G02B1/14 文献下载
摘要：一种带降应力膜层结构的树脂眼镜片，由基片、加硬层、光学膜组成，所述的基片为树脂镜片，所述的加硬层处于基片外表面，所述的光学膜处于加硬层外表面，所述的光学膜由加硬层匹配光学膜层、常规光学膜层、降应力膜层组成，加硬层匹配光学膜层处于加硬层外表面，常规光学膜层处于加硬层匹配光学膜层外表面，降应力膜层处于常规光学膜层外表面。通过在现有树脂镜片及普通镀膜的基础上增加至少一层降应力膜层结构，提高与加硬层的匹配性，有效降低膜层的应力，从而实现从机理上改善树脂镜片的耐高温性能。
一种应力结构树脂眼镜片

[发明专利]以微污染水体为水源的再生水处理装置和方法-CN201110192674.2有效
发明人：唐传祥;禹芝文;游建军;杜成琼;曾丁松;黄志红 -专利权人：中国水电顾问集团中南勘测设计研究院;云南国水环保科技有限公司
申请日： 2011-07-11 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种以微污染水体为水源的再生水处理装置和方法，该装置包括常规水处理单元，在常规水处理单元的前部分增设生物预处理单元，并在常规水处理单元的后部分增设深度处理膜单元；所述生物预处理单元由厌氧池(3)、缺氧水解酸化池(4)、生物接触氧化池(5)依次连接组成；所述深度处理膜单元为膜生物反应器(9)。在常规净水单元前增设生物预处理单元的方法，可以去除各种有机物，增加生活饮用水和工业用水的安全可靠性。而在常规净水单元之后增设深度处理膜单元的方法，主要是起保安和把关作用，从而保证出水水质。
污染水体水源再生水处理装置方法

[实用新型]装饰性膜制品以及电子设备-CN201721897703.4有效
发明人：姜明均;安殷实 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2017-12-29 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： B44C5/04 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种装饰性膜制品以及电子设备，其中所述装饰性膜制品包括印刷在聚合物多层膜叠堆上的着色层。本实用新型的装饰性膜制品比常规金属溅射PET膜提供更好的颜色均匀性。另外，装饰性膜制品比常规金属溅射PET膜更容易制造并可提供更高的产量。
装饰性膜本实用新型常规金属电子设备溅射颜色均匀性聚合物多层膜着色层叠堆印刷制造

[发明专利]一种可热封聚酯复合膜及其制备方法-CN200910089441.2有效
发明人：罗欣;翟丽鹏;韩朝阳;杜明;迟克栋;盛平厚 -专利权人：中国石油化工股份有限公司;中国纺织科学研究院;中国石化仪征化纤股份有限公司
申请日： 2009-07-17 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： B32B27/36 文献下载
摘要：本发明涉及一种可热封聚酯复合膜，所述的复合膜由至少一层可热封共聚酯和至少一层薄膜级常规聚酯共同熔融挤出而成，至少一层所述的可热封共聚酯设置在复合膜的表层；其中优选为所述的复合膜由1～2层可热封共聚酯和1～2层薄膜级常规聚酯共同熔融挤出而成，可热封共聚酯设置在复合膜的表层；更优选为所述的复合膜由1层可热封共聚酯1层薄膜级常规聚酯共同熔融挤出而成。
一种可热封聚酯复合及其制备方法

[发明专利]一种磁悬浮系统的滑膜控制方法-CN201910165589.3在审
发明人：张静;刘佳兴 -专利权人：哈尔滨理工大学
申请日： 2019-03-05 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： G05B17/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁悬浮系统的滑膜控制方法，涉及磁悬浮技术领域，包含以下步骤：A、磁悬浮系统的建模；B、获取误差信号，并根据误差信号定义滑膜面，通过对滑膜面的一阶求导，求得滑膜控制律，运用Lyapunov函数验证常规滑膜控制的存在性与可达性，通过仿真得到系统特性曲线；本发明磁悬浮系统的滑膜控制方法对常规滑膜控制容易产生抖振的问题，采用添加边界层方法，即使用连续光滑的饱和函数代替切换函数，滑膜面的设计过程中添加积分控制环节，使其变成积分滑膜面，并在控制律中添加指数趋近律。通过仿真与常规滑膜控制对比，验证改进后削弱抖振的有效性。
滑膜磁悬浮系统误差信号控制律抖振验证磁悬浮技术饱和函数积分控制设计过程系统特性一阶求导边界层可达性建模光滑削弱改进环节

[发明专利]一种蓝宝石等离子刻蚀负载效应的图形修饰方法及系统-CN201810693573.5有效
发明人：许南发;席庆男;王晓慧;郭文平 -专利权人：山东元旭光电股份有限公司
申请日： 2018-06-29 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，提供一种蓝宝石等离子刻蚀负载效应的图形修饰方法及系统，方法包括：对选取的常规形状的掩膜进行ICP刻蚀，建立ICP掩膜图形工艺调整规则；根据建立的ICP掩膜图形工艺调整规则以及目标图形掩膜的参数要求，计算常规形状的掩膜与所述目标图形掩膜之间的补偿参数；根据计算得到的所述补偿参数，以选取的常规形状的掩膜为基础，设计生成符合目标图形的掩膜，从而实现对掩膜刻蚀后，掩膜的形状符合预先设置的目标图形形状，提高散射效果
一种蓝宝石等离子刻蚀负载效应图形修饰方法系统

[发明专利]电致发光元件以及采用它的发光器件-CN201210357228.7有效
发明人：濑尾哲史;山崎宽子 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2003-08-11 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：一种比常规EL元件更厚且驱动电压更低的无须掺入受主或施主的EL元件。其中，含有能够提供电致发光的有机化合物的电致发光膜103、浮置电极104、电子输运支持层105、以及阴极102，被依次重叠在阳极101上。电致发光膜103的膜厚度约为常规膜厚度量级（约为100nm量级），且电子输运支持层105也可以具有约为电致发光膜103的膜厚度量级。借助于将空穴阻挡材料引入到电子输运支持层中，此EL元件能够在比常规EL元件更低的电压下被驱动。
电致发光元件以及采用发光器件

[发明专利]电致发光元件以及采用它的发光器件-CN03127839.6有效
发明人：濑尾哲史;山崎宽子 -专利权人：株式会社半导体能源研究所
申请日： 2003-08-11 - 公布日： 2004-02-11 - 主分类号： H05B33/14 文献下载
摘要：一种比常规EL元件更厚且驱动电压更低的无须掺入受主或施主的EL元件。其中，含有能够提供电致发光的有机化合物的电致发光膜103、浮置电极104、电子输运支持层105、以及阴极102，被依次重叠在阳极101上。电致发光膜103的膜厚度约为常规膜厚度量级(约为100nm量级)，且电子输运支持层105也可以具有约为电致发光膜103的膜厚度量级。借助于将空穴阻挡材料引入到电子输运支持层中，此EL元件能够在比常规EL元件更低的电压下被驱动。
电致发光元件以及采用发光器件

[实用新型]一种用于半导体掩膜版磨边的装置-CN202222167324.7有效
发明人：周荣梵;林超;林伟 -专利权人：成都路维光电有限公司
申请日： 2022-08-17 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B24B9/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于半导体掩膜版磨边的装置，包括连接组件和打磨机构，连接组件包括连接机构、底座和机架，机架连接于底座上，连接机构一端连接于机架上部，另一端连接打磨机构；打磨机构包括机架本体、砂带和掩膜版装载治具，掩膜版装载治具上部设置有用于嵌入固定非常规尺寸半导体掩膜版的固定卡槽，其下部设置有通槽并固定于机架本体上方的两侧，而砂带设置于机架本体的表面并穿设于掩膜版装载治具下部的通槽，砂带通过连接机构驱动进行往复运动对固定在固定卡槽中的非常规尺寸半导体掩膜版磨边，不仅实现非常规尺寸半导体掩膜版的磨边，而且有效降低了非常规尺寸半导体掩膜版生产报废的风险，从而提高了设备稼动率。
一种用于半导体掩膜版磨边装置

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