专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]稳定热敏电阻加工工艺-CN201711132467.1有效
  • 倪蕴之;朱永乐;黄坤 - 昆山苏杭电路板有限公司
  • 2017-11-15 - 2019-03-05 - H01C7/00
  • 本发明公开了一种高稳定热敏电阻加工工艺,先在热敏电阻材料上制作内层,然后激光锣槽一侧部分后压合半固化片和铜箔,将锣槽用树脂填满,再激光锣槽另一侧部分后压合半固化片和铜箔,将锣槽用树脂填满,从而将热敏电阻全面包覆其内该高稳定热敏电阻加工工艺采用激光和机械切槽孔,重复压合填胶的方式获得热敏电阻,使热敏电阻四周被树脂包围,具有很高的可靠性和稳定,既能解决热敏电阻板遇热遇大电流电阻随之增大,又能待热量和电流恢复后电阻恢复正常的特性
  • 稳定性热敏电阻加工工艺
  • [发明专利]改善物理溅射工艺稳定的方法-CN200710093841.1无效
  • 王海军;方精训;谢煊;季芝慧 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2007-05-30 - 2008-12-03 - C23C14/34
  • 本发明公开了一种改善物理溅射工艺稳定的方法,在去水蒸气化腔之后通过运送腔连接多个溅射腔,进行溅射工艺的芯片在所述去水蒸气化腔内进行去水蒸气工艺,之后进入所述运送腔,所述运送腔按照先进先出的原则依次将所述运送腔中的晶片运送至空闲的溅射腔中,之后由溅射腔对晶片进行溅射工艺;去水蒸气工艺时间为A,从去水蒸气工艺结束到运送至溅射腔的时间为B,溅射工艺的时间为C,从溅射工艺结束到运送至冷却腔的时间为D,所述溅射腔的数量为n,则需要满足n×(A+本发明避免了晶片进入溅射腔之前等待时间过长而造成晶片不能满足工艺要求而导致报废的情况的发生,大大提高了晶片生产的合格率,降低了生产的成本。
  • 改善物理溅射工艺稳定性方法
  • [发明专利]稳定机架-CN201610698398.X在审
  • 张鹏;范正伟;谢知奇 - 马弗橡塑(镇江)有限公司
  • 2016-08-19 - 2016-11-16 - F16M11/22
  • 本发明公开了一种高稳定机架,包括对称分布的一对支撑架;所述支撑架由一高立板与一与该高立板平行设置的低立板组成,并设有一连接所述高立板与所述低立板的底板;所述支撑架上方固定有平台,该平台同时与所述低立板的上端面以及高立板的侧面固定连接本发明提出了一种高稳定机架,用于机台的安装固定,通过设计高立板和低立板以及底板构成稳定支撑架,同时通过连接板和支撑板之间的相互配合,形成对角稳定和三角稳定,相对于现有技术,大大增加了稳定,且结构简单
  • 稳定性机架
  • [发明专利]稳定井盖-CN201710170466.X在审
  • 孟中良 - 无锡市卡德姆机械科技有限公司
  • 2017-03-21 - 2017-06-20 - E02D29/14
  • 本发明公开了一种高稳定井盖,包括井盖座和井盖体,所述井盖座为一环形框架座体,所述井盖体对应盖合到所述井盖座上,所述井盖体底部一端安装有安装座,所述井盖体通过安装座固定到所述井盖座上,所述井盖体底部另一端设置有液压杆装置通过上述方式,本发明能够提高井盖的稳定,井盖体与井盖座之间连接有液压杆装置来保证平稳度,井盖座环形端面上还安装有多个弹簧减震器来起到减震作用。
  • 稳定性井盖
  • [发明专利]稳定供气系统-CN201510924921.1有效
  • 张宏伟;梁志;叶海军 - 东莞市基一核材有限公司
  • 2015-12-11 - 2018-10-16 - A62B7/10
  • 本发明涉及特种作业供气领域,具体涉及一种稳定供气系统,包括依次相连的进气管、呼吸分离器、至少一个出气管和防护服;呼吸分离器包括壳体、进气孔、至少一个出气孔、设置于壳体内部的空气过滤装置和气体流量分配装置使用方便、能提供持续稳定的气体流量、避免外界有毒有害气体进入防护服内部而被作业人员吸入,有效降低安全隐患。
  • 稳定性供气系统

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