专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]掩膜的刻蚀方法、刻蚀装置及间介质的刻蚀方法-CN201110391678.3有效
  • 凯文皮尔斯 - 中微半导体设备(上海)有限公司
  • 2011-11-30 - 2012-07-04 - H01L21/033
  • 一种掩膜的刻蚀方法,该掩膜至少包括中间掩膜与有机物掩膜;该掩膜采用等离子体干法刻蚀,刻蚀过程中施加等离子射频激励电压以产生等离子体;所述掩膜的刻蚀包括步骤:首先以图形化的光刻胶为掩膜刻蚀下方的中间掩膜,形成图形化的中间掩膜;接着施加脉冲式偏置射频电压并以图形化的中间掩膜为掩膜刻蚀下方的有机物掩膜,形成图形化的有机物掩膜;其中等离子射频激励电压的频率高于所述脉冲式偏置射频电压的频率。本发明还提供了掩膜的刻蚀装置及间介质的刻蚀方法。采用本发明提供的技术方案,实现条件简单且成本低。
  • 掩膜层刻蚀方法装置介质
  • [发明专利]一种扇出型方片级半导体三维芯片封装工艺-CN201410351841.7在审
  • 陈峰 - 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
  • 2014-07-22 - 2014-10-15 - H01L21/50
  • 本发明提供了一种扇出型方片级半导体三维芯片封装工艺,有效保证了加工尺寸最大化,提升了产能、降低了制作成本,抵消了由于材料之间性能差异造成的翘曲、涨缩等问题,降低了工艺制作的难度,步骤:承载片上制作对准标记;承载片上覆盖临时键合材料;在承载片上贴装芯片;涂覆第一类绝缘树脂覆盖芯片;第一类绝缘树脂上开窗露出焊盘;光刻胶显露出的图形区中形成电镀线路;保留电镀线路和电镀线路底部的种子;第一类绝缘树脂覆盖电镀线路,在第一类绝缘树脂上贴装芯片;第一类绝缘树脂覆盖芯片形成焊盘;形成电镀线路;形成多层芯片堆积结构;在第二类绝缘树脂上形成焊盘;芯片的上面增加保护,在焊盘上形成焊球;分割成多层堆积的芯片。
  • 一种扇出型方片级半导体三维芯片封装工艺

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