专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于显示对象的方法和设备-CN201210098082.9有效
  • 韩荣兰;李喜元;崔景梧 - 三星电子株式会社
  • 2012-04-05 - 2017-06-23 - G06F3/041
  • 所述显示设备包括显示单元,显示对象;第一触摸单元,通过第一输入方法用户输入;第二触摸单元,通过第二输入方法用户输入;坐标计算单元,计算第一触摸单元和第二触摸单元测到的坐标值;控制器,响应于用户输入同时被第一触摸单元和第二触摸单元,将第一触摸单元和第二触摸单元测到的坐标值进行比较,并确定所述用户输入是单个触摸输入还是触摸输入,并且根据确定的结果,控制在显示单元上显示对象
  • 用于显示对象方法设备
  • [发明专利]一种消除附加质量影响的模态试验方法-CN201710952273.X有效
  • 赵峰;罗国富;陈鹿民;李一浩;王良文;杜文辽 - 郑州轻工业学院
  • 2017-10-13 - 2019-07-26 - G01M7/02
  • 本发明公开了一种消除附加质量影响的模态试验方法,包括以下步骤:S1,对待结构划分点;S2,采用移动力锤式模态试验,获得待结构的某阶模态频率;S3,获得此阶模态振型节点与点的相对位置关系;S4,更新某一点,将临近节点的点移动至与此阶模态节点重合或微小偏差的结构位置上;S5,将传感器和磁力座放置在更新后的点上,进行移动力锤式模态试验,获得模态频率,消除了附加质量影响;S6,判断S5获得的模态频率是否达到精度,若没达到则以步骤S5点为基础,重复S2‑S5直到获得的模态频率达到要求精度。本发明可有效降低模态试验中接触传感器及磁力座对结构原始模态的影响。
  • 一种消除附加质量影响试验方法
  • [发明专利]避免激光退火边界效应的激光退火方法-CN201010530391.X有效
  • 许凯钧;杜友伦;王从建;许慈轩;王俊智 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2010-10-28 - 2011-11-09 - H01L21/324
  • 本发明包括使用激光光束激光退火具有裸片的晶片的方法、以具有扫描路径、激光射击的扫描模式中的激光光束激光退火背面照明图像器的阵列的方法。每个互补金属氧化物半导体图像器具有感器阵列区和周边电路。此方法借由器阵列区长度和周边电路长度决定激光光束的尺寸,使激光光束覆盖整数个器阵列区,至少一直排激光光束在背面照明图像器的阵列上。进一步决定扫描模式,使激光光束的边界在激光退火期间不会与器阵列区重叠只与周边电路重叠。当制造背面照明互补金属氧化物半导体图像器时决定激光光束尺寸和激光退火扫描模式的方法以避免在图像器的器阵列区内发生对应激光扫描边界效应的暗模式条纹图案。
  • 避免激光退火边界效应方法
  • [发明专利]光学成像模块-CN201811354412.X在审
  • 张永明;赖建勋;刘燿维 - 先进光电科技股份有限公司
  • 2018-11-14 - 2020-02-25 - G02B7/02
  • 电路组件可包含电路基板、影像组件、信号传导组件及镜头框架。影像组件可与电路基板连接。信号传导组件可电性连接于电路基板及影像组件之间。镜头框架可以一体成型方式制成,并盖设于电路基板及影像组件上,且信号传导组件埋设于镜头框架中。透镜组件可包含透镜基座、对焦透镜组及驱动组件。透镜基座可设置于镜头框架上。多个驱动组件可与电路基板电性连接,并驱动对焦透镜组于面的中心法线方向上移动。本发明的光学成像模块可确保成像质量。
  • 光学成像模块

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