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[发明专利]多弧离子镀膜涂层工艺-CN202210539640.4有效
发明人：刘浩;陈效全 -专利权人：无锡乾泰新材料科技有限公司
申请日： 2022-05-17 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种多弧离子镀膜涂层工艺。其工艺步骤为：步骤1、基材预处理；步骤2、磁控多弧离子镀TiN过渡涂层；步骤3、磁控多弧离子镀TiTaN涂层；步骤4、磁控多弧离子镀TiTaN‑BiScCoCN涂层。采用辉光放电和离子轰击对基材进行刻蚀，提高了涂层与基材的结合强度，同时，使用磁控弧技术对基材进行多弧离子镀TiTaN‑BiScCoCN涂层，二次镀膜采用TaTi靶作为靶材，三次镀膜中使用Co靶材、BiScC与现有技术相比，本发明通过多弧离子镀膜涂层工艺制备的TiTaN‑BiScCoCN涂层具有耐磨性好、耐热盐腐蚀性好以及与基材结合强度好的优点。
离子镀膜涂层工艺

[发明专利]烧结钕铁硼磁体表面多弧离子镀制备多层复合防护涂层及工艺-CN201410242768.X有效
发明人：白雪铠;孙世明;刘泽 -专利权人：北京汇磁粉体材料有限公司
申请日： 2014-06-04 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明属于表面防护涂层技术领域，具体是一种烧结钕铁硼磁体表面多弧离子镀制备多层复合防护涂层及工艺。采用多弧离子镀沉积技术高效地在烧结钕铁硼磁体表面制备过渡层、耐蚀层、表面阻挡与耐磨层复合防护涂层，实现显著改善烧结钕铁硼磁体的耐蚀性，延长使用寿命。其工艺步骤为：(1)磁体表面除油、除锈，清洁表面；(2)真空镀膜室内辉光放电反溅清洁表面；(3)多弧离子镀Ti或者Cr过渡层；(4)多弧离子镀Al或Al合金；(5)多弧离子镀AlN层。采用电弧离子镀膜技术，结合多功能层复合结构涂层体系的设计，该工艺具有沉积效率高，涂层结合力和致密度高，工艺简单，环保无污染，低成本，易于实现批量规模化生产。
烧结钕铁硼磁体表面离子镀制备多层复合防护涂层工艺

[实用新型]一种复合镀钛装置-CN202021863696.8有效
发明人：刘自然;刘慧丹;彭霞霖;陈元;钟日新 -专利权人：肇庆宏旺金属实业有限公司
申请日： 2020-08-31 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种复合镀钛装置，设于镀钛机本体内的镀钛腔内，所述镀钛机本体包括固定部和活动部，所述固定部与所述活动部铰接，形成用于镀钛的镀钛腔，所述镀钛腔的内部上设有若干组多弧离子镀靶和磁控溅射镀靶；所述多弧离子镀靶均匀设置在所述镀钛腔内，且位于所述固定部上的多弧离子镀靶组数少于所述位于所述活动部上的多弧离子镀靶，所述对磁控溅射镀靶均匀设置在镀钛腔内，且所述磁控溅射镀靶位于所述固定部上。本实用新型解决了现有的镀钛装置的镀钛效果差，镀钛效率低的问题。
一种复合装置

[发明专利]一种离子镀技术制备TiAlN涂层的颜色渐变控制方法-CN202010627152.X在审
发明人：张心凤;李灿民;夏正卫 -专利权人：安徽纯源镀膜科技有限公司
申请日： 2020-07-02 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种离子镀技术制备TiAlN涂层的颜色渐变控制方法，该方法中所述离子镀技术选用多弧离子镀设备，在使用所述多弧离子镀设备制备TiAlN涂层时通过调整多弧离子镀设备的靶电流、工件负偏压、占空比、该方法可以在TiAl靶材成分不变的条件下，控制TiAlN涂层进行颜色渐变，同时涂层硬度、耐高温、耐腐蚀性能好，且涂层加工摩擦阻力小，所述TiAlN涂层可以使用在装饰镀和某些工具镀对涂层的性能、颜色的多样性和均匀性要求较高的应用场合
一种离子镀技术制备 tialn 涂层颜色渐变控制方法

[发明专利]光学多弧离子镀方法及其装置-CN201711351721.7在审
发明人：祝海生;孙桂红;陈立;凌云;黄夏;黄国兴 -专利权人：湘潭宏大真空技术股份有限公司
申请日： 2017-12-15 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了光学多弧离子镀方法，包括步骤a)基片传送入真空室；步骤b)在真空室内采用一多弧靶对基片进行光学多弧离子镀；步骤c)基片进行光学多弧离子镀后传送出真空室；所述多弧靶包括阴极和引弧电极，所述阴极的一端与引弧电极的一端绝缘连接，所述阴极为一内部设有磁棒和靶背管的靶材，所述磁棒和靶背管相邻设置，所述磁棒为一嵌有一磁性组件的绝缘棒，所述引弧电极通过一电磁阀控制其与阴极不相连的一端与阴极表面接触和分离。与现有技术相比，本发明提供的光学多弧离子镀方法在阴极中加装了磁性组件，可使金属离化率更高，镀膜刻蚀均匀，基片表面膜层均一性更佳，因此其应用前景十分广阔。
多弧离子镀阴极引弧电极磁棒磁性组件真空室背管电磁阀控制基片表面基片传送绝缘连接相邻设置阴极表面绝缘棒均一性靶材镀膜刻蚀离化膜层嵌有传送金属室内应用

[发明专利]一种新型WCrSiN梯度涂层及其制备方法-CN202011250640.X在审
发明人：杨俊峰;杨红艳;杨瑞芳;张临超;谢卓明;王坤;刘瑞;王先平;吴学邦;方前锋 -专利权人：中国科学院合肥物质科学研究院;中国核动力研究设计院
申请日： 2020-11-11 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型WCrSiN梯度涂层及其制备方法，涉及表面涂层技术领域，包括依次沉积在基体表面的多弧离子镀涂层和磁控溅射涂层，其中，多弧离子镀涂层包括依次沉积在基体表面的WCr涂层、WCrN涂层、WCrSiN本发明先采用多弧离子镀技术制备打底涂层，再利用磁控溅射技术制备表层涂层，将多弧离子镀和磁控溅射结合起来，充分发挥了这两种方法的优势，所得薄膜涂层与基体之间的结合强度高，薄膜涂层表面均匀且致密度高。
一种新型 wcrsin 梯度涂层及其制备方法

[实用新型]钛铝涂层用多弧离子镀膜机-CN02277924.8无效
发明人： -专利权人：
申请日： 2002-12-20 - 公布日： 2003-11-26 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种钛铝镀层用多弧离子镀膜机，它主要由多弧离子镀膜炉炉壁上均匀安装多个钛铝镀层蒸发源与多个纯钛离子轰击、予镀蒸发源构成，本实用新型的优点是钛铝涂层与工件基体结合牢固，保证了钛铝镀膜涂层性能良好。且钛铝涂层多弧离子镀膜机的钛铝镀层蒸发源与纯钛离子轰击予镀蒸发源分布合理，加工工效高。
涂层用多弧离子镀膜

[发明专利]一种多弧离子镀阴极装置-CN201910349838.4在审
发明人：崔岸;黄显晴;刘天赐;杨伟丽;徐晓倩;孙文龙;郝裕兴 -专利权人：吉林大学
申请日： 2019-04-28 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种多弧离子镀阴极装置，包括用于安装多弧离子镀阴极装置的真空腔体装置和多弧阴极电源，多弧阴极体通过多弧阴极底座安装于真空腔体装置内；多弧阴极体与辅助阳极板通过绝缘支撑柱固定连接；凹型矩形靶固定在多弧阴极体上；电磁铁设置有多个；多弧阴极底座的两端安装绝缘密封电极，多弧阴极底座一端安装引弧装置；绝缘密封电极分别与多个电磁铁连接；控制系统调节多个电磁铁线圈的电流幅值。本发明提供了一种多弧离子镀阴极装置，通过计算机对磁场进行智能控制，使镀膜更加均匀致密，提高镀膜层均匀性和镀膜效率。
多弧离子镀阴极装置阴极底座阴极体电磁铁真空腔体装置绝缘密封电极电磁铁线圈绝缘支撑柱镀膜效率均匀致密控制系统阴极电源引弧装置智能控制镀膜层矩形靶均匀性阳极板凹型镀膜磁场计算机

[实用新型]一种灯丝强化多弧离子镀高熵合金靶结构装置-CN202220203905.9有效
发明人：许建平;陈晶 -专利权人：黑龙江工程学院;黑龙江省海振科技有限公司
申请日： 2022-01-23 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种灯丝强化多弧离子镀高熵合金靶结构装置。本实用新型针对已有多弧离子镀沉积高熵合金涂层时多元素成分调控问题。本实用新型包括拼接靶、靶压套、灯丝、上灯丝柱、下灯丝柱等，拼接靶由多个扇形结构无缝组合而成，靶表面区域引入灯丝发生大量热电子增强多弧离子镀放电，提高不同元素靶区域的弧斑运动速率，调控高熵合金涂层成分。
一种灯丝强化离子镀合金结构装置

[发明专利]一种多弧离子镀膜过程中减少大液滴的方法-CN201911126498.5在审
发明人：刘辉婵;刘召飞 -专利权人：河北召飞科技服务有限公司
申请日： 2019-11-18 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种多弧离子镀膜过程中减少大液滴的方法，涉及多弧离子镀技术领域，包括超声波清洗，其特征在于：所述把被镀工件放入超声波清洗池中超洗去油去污渍，所述工件放入烘干机中烘干去除水分，所述工件放入多弧离子镀膜机中离子清洗该多弧离子镀膜过程中减少大液滴的方法，能够通过将被镀工件放入超声波清洗池中超洗去油去污渍，再将工件工件放入烘干机中烘干去除水分，最后将工件放入多弧离子镀膜机中离子清洗，镀层时需要充入的氮气为800SCCM，充入的氩气为300SCCM，且开20秒关60秒，所述偏压为150V，偏压占空比40％，偏流40A‑60A，使用四组150A弧组。
一种离子镀膜过程减少大液滴方法

[实用新型]一种电子束强化多户离子镀靶结构装置-CN202220180137.X有效
发明人：许建平;陈晶;李青川 -专利权人：黑龙江工程学院;黑龙江省海振科技有限公司
申请日： 2022-01-21 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种电子束强化多户离子镀靶结构装置。本实用新型针对已有多弧离子镀存在大颗粒缺陷的问题。本实用新型包括空心阴极、水冷阳极、靶、法兰盘等，空心阴极、水冷阳极、靶可拆卸绝缘密封固定安装在法兰盘上，空心阴极作为电子源，在多弧离子镀的靶附近区域引入电子束并对大颗粒有效地充电，改善涂层大颗粒缺陷。
一种电子束强化离子镀结构装置

[发明专利]磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法-CN200810011607.4无效
发明人：戴今古;张世伟;徐成海;郭赛南 -专利权人：玉环县金源比特科技发展有限公司
申请日： 2008-05-29 - 公布日： 2008-11-19 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法，其特征在于该方法利用磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜机，采取磁控溅射镀镍与多弧离子镀镀铬的复合式真空镀膜方法，包括预处理、装炉与离子轰击、镀制镍膜层、镀制铬膜层、出炉与后处理和停机六个步骤，在铜基底上镀制镍铬复合膜，能够实现被镀工件一次装炉完成镀制镍、铬两种膜层。本发明方法镀制的产品满足铜制水暖件防腐耐磨涂层的要求，可以替代传统的水电镀，消除由此带来的环境污染问题。本发明可以实现批量化、高效率、无环境污染的生产加工。
磁控溅射离子镀复合真空镀膜方法

[发明专利]一种适用于高频电刀的疏水性硬质涂层及其制备方法-CN202010996873.8有效
发明人：马洋;陈超;康强 -专利权人：宁波云涂科技有限公司
申请日： 2020-09-21 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明的制备方法，包括：(1)以高频电刀为基体，采用多弧离子镀溅射Cr靶，在所述基体上沉积Cr层；(2)采用多弧离子镀溅射Cr靶、TiAl靶，溅射离子与溅射腔体内的N2多弧离子镀和磁控溅射复合设备进行涂层沉积，能够充分发挥两种两种物理气相沉积方法的优势：多弧离子镀制备涂层沉积速率快，结合力强；磁控溅射可制备非金属涂层，涂层致密均匀。
一种适用于高频疏水硬质涂层及其制备方法

[发明专利]一种用于电弧激发的磁性密封旋转装置-CN202210593151.7在审
发明人：李长栋;魏承亚;高峰 -专利权人：山东沐东真空科技有限公司
申请日： 2022-05-27 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明涉及多弧离子镀技术领域，具体地说就是一种用于电弧激发的磁性密封旋转装置。一种用于电弧激发的磁性密封旋转装置，包括多弧离子镀装置主体、磁流体密封装置和旋转引弧装置，所述旋转引弧装置与多弧离子镀装置主体通过磁流体密封装置密封转动连接。通过旋转气缸带动引弧部分转动，使引弧杆在转动过程中不断与靶弧源接触，激发电弧放电，能够减少引弧部分与磁流体密封装置之间的相对移动，减少对磁流体密封装置的损坏，延长设备的使用寿命，提高镀膜效率。
一种用于电弧激发磁性密封旋转装置

[实用新型]一种多弧离子镀阴极装置-CN201920596788.5有效
发明人：崔岸;黄显晴;刘天赐;杨伟丽;徐晓倩;孙文龙;郝裕兴 -专利权人：吉林大学
申请日： 2019-04-28 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多弧离子镀阴极装置，包括用于安装多弧离子镀阴极装置的真空腔体装置和多弧阴极电源，多弧阴极体通过多弧阴极底座安装于真空腔体装置内；多弧阴极体与辅助阳极板通过绝缘支撑柱固定连接；凹型矩形靶固定在多弧阴极体上；电磁铁设置有多个，且均匀排布于多弧阴极体底座上；多弧阴极底座的两端安装绝缘密封电极，多弧阴极底座一端安装引弧装置；绝缘密封电极分别与多个电磁铁连接；控制系统调节多个电磁铁线圈的电流幅值。本实用新型提供了一种多弧离子镀阴极装置，通过计算机对磁场进行智能控制，使镀膜更加均匀致密，提高镀膜层均匀性和镀膜效率。
一种离子镀阴极装置

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