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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]基板研磨装置-CN201821330473.8有效
发明人：崔东圭;林钟逸;赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-08-17 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：公开一种基板研磨装置。根据一个实施例的基板研磨装置包括：基板支撑单元，其支撑基板；以及研磨单元，其研磨所述基板，在所述基板的研磨过程中，所述基板支撑单元或研磨单元可以进行移动，以便使得所述基板的研磨部位发生变化。
基板研磨装置研磨基板基板支撑单元研磨单元支撑基板移动

[实用新型]基板研磨装置-CN201821329845.5有效
发明人：李根雨;朴成贤 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-08-17 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：公开一种基板研磨装置和基板研磨系统。根据一个实施例的基板研磨装置可包括：研磨单元，其对基板的被研磨面进行研磨；以及辅助研磨单元，其用于对所述基板的边缘区域进行研磨。
基板研磨装置研磨单元研磨边缘区域基板研磨对基板研磨面基板

[实用新型]基板研磨装置-CN201820960579.X有效
发明人：崔东圭;林钟逸;赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-06-21 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：公开一种基板研磨装置，其可以研磨大面积的基板。基板研磨装置包括：基板移送部，其以使得基板的被研磨面朝向上部的状态移送所述基板；以及研磨模块，其设置于所述基板的上部，在与所述基板表面接触的状态下，研磨垫进行旋转及线性移动，从而对所述基板进行研磨。
基板基板研磨装置研磨基板移送部基板表面线性移动研磨垫研磨面

[实用新型]基板研磨装置-CN201821185874.9有效
发明人：林钟逸;赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：公开一种基板研磨装置。基板研磨装置包括：基板移送部，其以使得基板的被研磨面朝向上部的状态连续移送多个基板；研磨模块，其设置于所述基板移送部的上部，并设置有用于研磨所述基板的研磨垫；以及基板支撑部，其设置于所述基板移送部的下部，在隔着所述基板移送部的状态下，在所述基板的背面支撑所述基板。
基板移送部基板基板研磨装置研磨基板支撑部多个基板研磨垫研磨面背面支撑

[发明专利]基板研磨装置-CN202010030914.8在审
发明人：金明圭;沈载原;郑京勋;金盛来;李康源;韩定锡 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-01-13 - 公布日： 2020-07-21 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明涉及防止基板传送部的传送带受损的基板研磨装置，包括：基板传送部，传送基板；以及基板研磨部，包括配置在所述基板传送部上的研磨板和配置在所述研磨板的下部面上的研磨垫，基于所述基板相对于所述研磨板的相对位置，控制朝向所述基板的所述研磨板的倾斜。
研磨装置

[发明专利]基板研磨装置-CN202210172001.9在审
发明人：申盛皓;尹勤植;郑熙澈;金泰贤;李康在;裵珍秀;金仙秀 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2022-02-24 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：根据一个实施例的基板研磨装置，可包括：基板载体，其夹住基板并使基板移动；研磨垫，其与基板的被研磨面相接触，并对基板的被研磨面进行研磨；以及喷射部，其包括向基板载体喷射流体的喷射部件。
研磨装置

[实用新型]基板研磨装置-CN202122890192.6有效
发明人：禹相政 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2021-11-19 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：公开了一种基板研磨装置。根据一个实施例的对包含金属薄膜层的基板进行研磨的基板研磨装置，可包括：研磨垫，其表面与基板相接触，用于对基板进行研磨；光检测部，其包括光源和收光部，其中，光源将光照射到与基板相对向的研磨垫的背面，收光部对从研磨垫的背面反射的光进行接收；以及监控部，其通过对光检测部接收的光的强度变化进行分析来分析基板是否到达研磨终点。
研磨装置

[实用新型]基板研磨装置-CN201220729833.8有效
发明人：单雅杰;郭宏雁;刘汝涛;马童国 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-12-26 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基板研磨装置，包括工作台，固定于所述工作台上的磨边单元和磨角单元；可与基板相对固定的机台，所述机台可带动基板在所述工作台上运动且经过磨边单元对基板进行磨边，经过磨角单元对基板进行磨角本实用新型提供的基板研磨装置，将对基板进行磨边的磨边单元和对基板进行磨角的磨角单元分开，在对基板进行研磨时，可以实现同时对不同的基板分别进行磨边和磨角。这样，每张基板需要等待的时间是磨边时间和磨角时间中较长的一个。与现有技术相比，在相同的时间内，本实用新型的基板研磨装置完成更多基板的研磨，提高了生产效率。
研磨装置

[发明专利]基板研磨装置-CN201710906162.5有效
发明人：篠崎弘行 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明提供一种能够监控修整器磨削研磨垫的力的基板研磨装置。根据本发明的一方式，提供一种基板研磨装置，具备：旋转台，该旋转台设置有基板研磨用的研磨垫；修整器，该修整器在所述研磨垫上移动并磨削所述研磨垫；修整器驱动组件，该修整器驱动组件将所述修整器按压于所述研磨垫并且使所述修整器旋转
研磨装置

[发明专利]基板研磨系统及基板研磨方法-CN202180045042.5在审
发明人：孙智勋 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2021-06-11 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开了一种基板研磨系统及基板研磨方法。根据一个实施例的基板研磨系统，包括多个研磨装置，其依次对基板进行研磨，并且各个研磨装置包括：研磨平板，其对基板进行研磨；数据收集部，其收集在基板的研磨过程中产生的信号；数据分析部，其对收集的信号进行分析，并检测基板的厚度；研磨终点检测部，其通过已检测的基板的厚度来决定基板的研磨终点，多个研磨装置共享相互间的数据，并且以基板的研磨顺序为基准，从一个研磨装置获得的数据可反映在下一个研磨装置的基板厚度检测过程中
研磨系统方法

[发明专利]基板研磨装置及基板研磨方法-CN200310101489.3无效
发明人：西尾干夫 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 1996-04-08 - 公布日： 2004-05-12 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种基板研磨装置和基板研磨方法。基板研磨装置包括：可旋转的刚性定盘、通过使液态树脂硬化的办法在定盘的表面形成的研磨用树脂膜，以及在保持被研磨基板的同时把所保持的被研磨基板推压到上述研磨用树脂膜上的基板保持装置。使用本发明的基板研磨装置和方法可以极其均匀地研磨大直径的基板的表面，正确地判断研磨垫盘的更换时间。
研磨装置方法

[发明专利]半导体基板及其表面研磨方法-CN201811261184.1有效
发明人：李荣军 -专利权人：东莞新科技术研究开发有限公司
申请日： 2018-10-26 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体基板及其表面研磨方法，其中，所述半导体基板表面研磨方法包括：在半导体基板的正面设置一层保护层；将所述半导体基板放置在研磨装置中，并用研磨液和第一研磨粉对所述半导体基板的背面进行研磨；对所述半导体基板进行洁净处理；将所述半导体基板放置在所述研磨装置中，并用研磨液和第二研磨粉对所述半导体基板的背面进行研磨；对所述半导体基板进行洁净处理；去除所述半导体基板上的所述保护层，将所述半导体基板放置在所述研磨装置中，并用研磨液和第三研磨粉对所述半导体基板的正面进行研磨。本发明能够提高半导体基板表面的研磨精度。
半导体及其表面研磨方法

[发明专利]基板清洗装置以及基板研磨装置-CN202211555298.3在审
发明人：马场枝里奈;深谷孝一;武渕健一;斎藤贤一郎 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明提供一种基板清洗装置及基板研磨装置，效率良好地去除在研磨处理后的基板、膜片以及固定环上附着的颗粒。基板清洗装置被设于包括研磨平台及顶环的基板研磨装置，对研磨后的基板的表面进行清洗，研磨平台具有进行基板研磨的研磨面，顶环一边利用固定环来围绕基板的外周部，一边利用膜片来保持基板。顶环于在研磨平台的上方进行基板研磨的研磨位置、与在研磨平台的侧方进行基板的交接的交接位置之间移动自如。基板清洗装置是对应于研磨位置以及交接位置之间的清洗位置而设，且包括：第一喷射单元，包含对位于清洗位置的基板、膜片以及固定环喷射清洗液的多个清洗喷嘴；以及第二喷射单元，包含对位于清洗位置的基板喷射冲洗液的基板冲洗喷嘴
清洗装置以及研磨

[实用新型]一种基板研磨装置-CN201720648854.X有效
发明人：李根雨;朴成贤 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2017-06-06 - 公布日： 2018-05-04 - 主分类号： B24B21/10 文献下载
摘要：本实用新型提出一种基板研磨装置，在利用带型研磨垫的基板研磨装置中，配备垫整修器，来提供研磨液并整修研磨垫。该基板研磨装置包括一对驱动滚轴；研磨垫，被围在所述驱动滚轴进行旋转；基板载体，安装有基板；以及垫整修器；配置在所述研磨垫的上部，在进行所述基板的研磨时，向所述研磨垫提供研磨液，且在进行所述研磨垫的整修时，整修所述研磨垫。
一种研磨装置

[发明专利]基板研磨装置以及研磨方法-CN201811317803.4有效
发明人：中西正行;小寺健治 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明的一个目的在于，在用于研磨四边形的基板的基板研磨装置中，提高研磨的均匀性。本申请的一实施方式提供一种用于四边形的基板的基板研磨装置，具有：平台；安装于平台，用于支承基板的基板支承机构；用于安装研磨垫，并且研磨头机构与平台相对的研磨头机构；用于对研磨头机构进行轨道驱动的轨道驱动机构；基板支承机构具有：底板；设于底板的板流路；基板研磨装置，该基板研磨装置与板流路连接，并且基板支承室分别对基板独立地施加铅垂方向的力，施加于基板的铅垂方向的力与基板支承室的内部压力对应。
研磨装置以及方法

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