专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]带有加热器的基板支撑组件-CN201420117178.X有效
  • 古田学;约翰·M·怀特;罗宾·L·蒂纳;苏海勒·安瓦尔;崔寿永 - 应用材料公司
  • 2014-03-14 - 2014-12-03 - H01L21/67
  • 本实用新型涉及带有加热器的基板支撑组件。本实用新型的实施方式提供一种提供均匀的温度分布的基板加热器。在一个实施方式基板支撑组件包括基板支撑基座和加热组件,其中所述基板支撑基座具有基板支撑表面。所述加热组件设置在所述基板支撑基座,紧邻所述基板支撑表面。所述加热组件被配置成用于在所述加热组件的拐角处提供均匀的热量分布。在另一实施方式基板支撑组件包括基板支撑基座和加热组件,其中所述基板支撑基座具有基板支撑表面。所述加热组件设置在所述基板支撑基座,并且包括内部加热区域和外部加热区域。
  • 带有加热器支撑组件
  • [发明专利]多层板-CN202210825395.3在审
  • 李弘荣 - 佳胜科技股份有限公司
  • 2022-07-13 - 2023-10-03 - H05K1/03
  • 积层板各包括液晶高分子基板及金属层。液晶高分子基板各具有一熔点。当液晶高分子基板的数量为奇数,其包括位于最中间的第一基板,第一基板的第一熔点在这些熔点中为最低的,这些熔点向远离第一基板的方向递增。当这些液晶高分子基板的数量为偶数,其包括位于最中间的第二及第三基板,第二基板的第二熔点或第三基板的第三熔点在液晶高分子基板的这些熔点中为最低的,第二熔点与第三熔点实质上相同,这些熔点向远离第二及第三基板的方向递增对积层板进行热压形成多层板时,由于熔点不同,各层液晶高分子基板变形的程度相近,从而使多层板具有良好平整度且良率高,故具有良好的电性表现。
  • 多层
  • [发明专利]使用旋转夹盘内置的光源的基板处理装置-CN202110088328.3在审
  • 李在圣 - 无尽电子有限公司
  • 2021-01-22 - 2021-07-30 - H01L21/67
  • 本发明涉及使用旋转夹盘内置的光源的基板处理装置。该基板处理装置包括:旋转夹盘,其在支撑基板的同时旋转;加热模块,其旋转夹盘内置并通过光辐射方法对通过旋转夹盘支撑并旋转的基板的下表面进行均匀的加热;透光板,其耦合至旋转夹盘并允许旋转夹盘内置的加热模块朝向基板发射的光从其中通过;以及控制模块,其控制加热模块辐照到基板的下表面上的光量以控制基板的温度。根据本发明,提供了能够精确地调节并保持要在半导体工艺处理的基板的温度的使用旋转夹盘内置的光源的基板处理装置。
  • 使用旋转夹盘中内置光源处理装置
  • [发明专利]基板路由与产量建模-CN201880067583.6有效
  • 什亚姆·桑德·伊曼尼 - 应用材料公司
  • 2018-09-12 - 2023-08-18 - H01L21/67
  • 本公开内容的实施方式大致关于用于在整合式基板处理系统调度基板处理程序的方法、系统和非暂时性计算机可读取介质。客户端装置将处理程序分配给待处理的一批基板的每个基板。客户端装置针对整合式基板处理系统的每个处理腔室将处理腔室分配给处理程序的每个处理。客户端装置为该批基板生成处理模型。处理模型定义每个处理腔室每个基板的开始时间。客户端装置基于处理模型为该批半导体基板生成时间表。客户端装置根据时间表处理该批基板
  • 路由产量建模
  • [实用新型]夹持翻转装置-CN200920274203.4无效
  • 杨明生;刘惠森;范继良;雷振宇;王曼媛;王勇 - 东莞宏威数码机械有限公司
  • 2009-12-01 - 2010-09-22 - H01L21/687
  • 本实用新型提供了一种夹持翻转装置,所述夹持翻转装置包括夹持驱动机构、翻转驱动机构及基板夹持机构,所述夹持驱动机构和所述翻转驱动机构分别与所述基板夹持机构连接,所述基板夹持机构具有夹紧和松开基板的结构,所述夹持驱动机构用于驱动所述基板夹持机构对放置于所述基板夹持机构基板进行夹紧和松开操作,所述翻转驱动机构用于驱动所述基板夹持机构翻转运动,从而使放置于所述基板夹持机构基板翻转运动。因此,所述夹持翻转装置可实现对基板的全方位的夹持、传送和翻转,并在基板的翻转过程能够保持基板的稳定,且结构简单、对基板的保护性能好。
  • 夹持翻转装置
  • [实用新型]晶体阵列贴片基板-CN202121410684.4有效
  • 丁言国;武志龙;许方杰;叶崇志 - 上海新漫晶体材料科技有限公司
  • 2021-06-24 - 2021-12-03 - H05K1/02
  • 本实用新型涉及一种晶体阵列贴片基板,在基板的任意三个边角处分别设置定位孔,在各个定位孔设置基板相机识别参照物,基板相机识别参照物用于协助基板相机确定基板位置,通过设置基板材质为金属基板,解决了现有技术FPC或者PCB基板因柔然性而不适于晶体阵列贴片的问题,通过在基板上开凿定位孔,在定位孔设置基板相机识别参照物,来协助基板相机确定基板位置,提高了精度和效率,从而使传统上用于LED等电子产品贴装的贴片机能够应用于晶体阵列加工领域中
  • 晶体阵列贴片基板
  • [发明专利]元件安装线的可追溯性信息管理系统及可追溯性信息管理方法-CN201480076609.5有效
  • 森田幸寿 - 株式会社富士
  • 2014-03-05 - 2019-06-25 - H05K13/00
  • 在电路基板(11)上粘贴有对基板ID进行编码化并记录而得到的基板ID代码标签(22)。元件安装线的可追溯性信息管理系统具备从电路基板基板ID代码标签(22)读取基板ID的代码读取单元(相机(21))、供给临时基板ID代码标签(24)的代码标签供料器(23)、在基板ID的读取失败时将临时基板ID代码标签(24)向电路基板(11)粘贴的代码标签粘贴单元,对各电路基板(11)与读取的基板ID或临时的基板ID建立关联地将可追溯性信息登记在数据库(32)而进行管理。作业者在从元件安装线搬出的电路基板(11)取出粘贴有临时基板ID代码标签(24)的电路基板(11),通过条形码读码器等读取基板ID和临时的基板ID,将登记在数据库(32)的该电路基板(11)的可追溯性信息的ID从临时的基板ID改写成基板ID。
  • 元件安装追溯信息管理系统方法
  • [发明专利]框、天线组件和电子设备-CN201710802983.4有效
  • 杨璟;陈乾强 - OPPO广东移动通信有限公司
  • 2017-09-06 - 2023-10-13 - H04M1/02
  • 本申请实施例公开了一种框、天线组件和电子设备,其中,框包括第一基板、第二基板和边框,第一基板分别与第二基板、边框固定连接,第一基板设置有贯穿第一基板的第一通孔,第一基板采用镁合金材料制成;第二基板和边框一体成型,第二基板设置有收纳槽和贯穿第二基板的第二通孔,第二通孔位于收纳槽位置,第二通孔和第一通孔连通。由此,本申请实施例框在设置收纳槽收纳天线的同时,可以确保边框的连续性,增加框的强度。
  • 天线组件电子设备
  • [实用新型]框、天线组件和电子设备-CN201721144816.7有效
  • 杨璟;陈乾强 - 广东欧珀移动通信有限公司
  • 2017-09-06 - 2018-04-17 - H04M1/02
  • 本申请实施例公开了一种框、天线组件和电子设备,其中,框包括第一基板、第二基板和边框,第一基板分别与第二基板、边框固定连接,第一基板设置有贯穿第一基板的第一通孔,第一基板采用镁合金材料制成;第二基板和边框一体成型,第二基板设置有收纳槽和贯穿第二基板的第二通孔,第二通孔位于收纳槽位置,第二通孔和第一通孔连通。由此,本申请实施例框在设置收纳槽收纳天线的同时,可以确保边框的连续性,增加框的强度。
  • 天线组件电子设备
  • [发明专利]薄膜沉积设备和薄膜沉积系统-CN201080067349.7无效
  • 姜敞晧;权铉九;玄在根 - SNU精密股份有限公司
  • 2010-06-14 - 2013-05-08 - C23C14/24
  • 本发明公开了一种薄膜沉积设备,该薄膜沉积设备使得基板和沉积掩膜的布置/对准时间的处理等待时间最短。为此,所述薄膜沉积设备包括:室,该室具有反应空间;第一基板保持件和第二基板保持件,在所述室,在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间设置有用于接收基板的空间;沉积源,该沉积源设置在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件之间,以向所述第一基板保持件和所述第二基板保持件供应沉积材料;以及固定单元,当所述基板被接收在所述第一基板保持件和所述第二基板保持件时,该固定单元将所述第一基板保持件和所述第二基板保持件放置在所述室的预定位置因而,能够实现基板和掩膜的稳定对准。
  • 薄膜沉积设备系统
  • [发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202080010595.2在审
  • 塙洋祐 - 株式会社斯库林集团
  • 2020-01-24 - 2021-09-07 - H01L21/304
  • 本发明的基板处理方法具备基板保持工序、带电工序、及蚀刻液供给工序。在基板保持工序,通过基板保持部保持基板。在带电工序,使基板绕通过该基板的中央部的旋转轴线旋转,将纯水与添加气体以能使该基板的第1主面的整面带正电的第1混合浓度混合所得的第1混合液供给至该基板,以使该基板带电。在蚀刻液供给工序,在带电工序之后或与带电工序并行,使该基板绕旋转轴线旋转,对该基板的第1主面供给蚀刻液。
  • 处理方法装置

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