专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件耐压结构-CN201510713750.8有效
  • 顾炎;宋华;张森 - 无锡华润上华科技有限公司
  • 2015-10-28 - 2019-09-17 - H01L29/40
  • 本发明涉及一种半导体器件耐压结构,该半导体器件耐压结构包括用于布置高压互联线的高压互联区域,且该高压互联区域下方依次为金属层、介质层、场氧化层、漂移区除有源区之外的区域,该半导体器件耐压结构还包括若干导体、若干绝缘电阻。其中,导体位于绝缘电阻的上方,且导体处于介质层中。所有绝缘电阻均与场氧化层相邻。导体绝缘电阻构成若干电容器,且任一电容器至少能与另一电容器传送能量。
  • 半导体器件耐压结构
  • [发明专利]一种真立体显示装置-CN201610179290.X在审
  • 许家琪 - 许家琪
  • 2016-03-25 - 2017-10-03 - G02B27/22
  • 一种真立体显示装置,包括屏幕、和框架,所述屏幕安装在所述框架上并与服务器连接,所述倾斜地安装在所述屏幕的显示面上,所述屏幕有多层,每层上均安装若干个所述,所述屏幕与所述共同组成一个立体像素矩阵本发明所提供的真立体显示装置,通过将屏幕和搭成立体像素矩阵,实现多层的深度图像,从而能够对距离和位置没有限制的无憾角观看,同时满足可靠性高、寿命长、噪声小的需要。
  • 一种立体显示装置
  • [实用新型]一种真立体显示装置-CN201620237425.9有效
  • 许家琪 - 许家琪
  • 2016-03-25 - 2016-10-12 - G02B27/22
  • 一种真立体显示装置,包括屏幕、和框架,所述屏幕安装在所述框架上并与服务器连接,所述倾斜地安装在所述屏幕的显示面上,所述屏幕有多层,每层上均安装若干个所述,所述屏幕与所述共同组成一个立体像素矩阵本实用新型所提供的真立体显示装置,通过将屏幕和搭成立体像素矩阵,实现多层的深度图像,从而能够对距离和位置没有限制的无憾角观看,同时满足可靠性高、寿命长、噪声小的需要。
  • 一种立体显示装置
  • [发明专利]沟槽栅极沟槽垂直横向MOSFET-CN201480065667.8有效
  • M·丹尼森;S·彭德哈卡尔;G·马图尔 - 德克萨斯仪器股份有限公司
  • 2014-09-26 - 2019-11-22 - H01L27/088
  • 在描述的示例中,半导体器件(100)具有带有深沟槽结构(104)的垂直漏极延伸MOS晶体管(110)以限定垂直漂移区(108)和至少一个垂直漏极接触区(106),所述垂直漏极接触区(106)通过深沟槽结构(104)的至少一个实例与垂直漂移区(108)分开。掺杂剂被植入至垂直漏极接触区(106),并且半导体器件(100)被退火,使得植入的掺杂剂扩散接近深沟槽结构(104)的底部。垂直漏极接触区(106)在介入中间的深沟槽结构(104)的底部处电接触至最近的垂直漂移区(108)。至少一个栅极(114)、主体区(118)和源极区(120)形成在漂移区(108)之上且在半导体器件(100)的衬底(102)的顶部表面处或接近半导体器件(100)的衬底(102)的顶部表面处。深沟槽结构(104)被隔开以形成漂移区(108)的RESURF区域。
  • 沟槽栅极场板半垂直横向mosfet
  • [发明专利]质子交换膜燃料电池双极板多道蛇行流结构-CN200910045410.7有效
  • 麦建明;彭林法;来新民;倪军;林忠钦 - 上海交通大学
  • 2009-01-15 - 2009-06-24 - H01M8/02
  • 本发明涉及一种燃料电池技术领域的质子交换膜燃料电池双极板多道蛇行流结构,包括在单一次冲压中同时形成的两侧流,均为多道蛇行流,在两侧流的气体出入口附近设置高脊和深槽,正面流高脊对应着反面流深槽,反面流高脊对应着正面流深槽,其中:高脊为脊的一部分,其高度小于脊且大于0,布置在气体出入口附近的气体流道之间,相邻流道通过半高脊的上部和膜电极组件之间的空隙连通;深槽为流道的一部分,其深度小于流道且大于0,深槽所在流道通过半深槽和膜电极组件之间的空隙连通。本发明省去了冷却液流,极大简化了金属双极板的结构,使用多道蛇行流,有效避免了排水困难的问题。
  • 质子交换燃料电池极板多道蛇行结构
  • [发明专利]多晶硅限环-CN201310177855.7有效
  • 苏少爽 - 江西创成半导体有限责任公司
  • 2013-05-10 - 2014-11-12 - H01L29/04
  • 一种多晶硅限环,在制作高压器件限环终端时采用绝缘多晶硅掺杂替代传统的单晶硅掺杂以改善高压器件的耐压特性。该多晶硅限环特点在于:制作高压器件限环终端时采用了绝缘多晶硅掺杂。该多晶硅限环的实现要点包括:1)采用绝缘多晶硅制作高压器件限环的终端结构;2)制作高压器件限环中绝缘多晶硅掺杂的元素及其浓度,所述掺杂的元素包括:为使耐压特性改善在多晶硅中掺加氧、氮、磷等;3)制作高压器件限环终端时采用了绝缘多晶硅的制作工艺流程,所述绝缘多晶硅的制作工艺流程包括刻蚀、多晶硅淀积、及后续的保护层。
  • 多晶硅场限环
  • [实用新型]一种明暗场兼容光源及检测装置-CN202223290056.4有效
  • 周杰 - 广东奥普特科技股份有限公司
  • 2022-12-08 - 2023-05-09 - G03B15/02
  • 本实用新型公开了一种明暗场兼容光源及检测装置,明暗场兼容光源,其特征在于,包括发光单元和反单元,反单元的一侧设置有明光斑工位,反单元的另一侧设置有暗场光斑工位;发光单元发出的光线射入反单元,反单元包括射向明光斑工位的明光轴和射向暗场光斑工位的暗场光轴;明光轴与竖直方向的夹角小于暗场光轴与竖直方向的夹角。通过上述设置,使得发光单元发出的一部分光线能以高角度形成明光斑,另一部分光线能以低角度形成暗场光斑;由此,本实用新型的明暗场兼容光源,能够同时发出暗场光斑与明光斑,并且仅需使用一个发光单元,节省了物料成本
  • 一种明暗兼容光源检测装置
  • [实用新型]一种同轴视觉打标装置-CN201920729049.9有效
  • 肖成柱;洪汉明;邓其 - 深圳市睿达科技有限公司
  • 2019-05-20 - 2020-03-31 - B23K26/362
  • 本实用新型公开了一种同轴视觉打标装置,包括用于照射打标工件的光源、振镜、位于振镜下方的镜、透镜片、CCD模组和连接壳体;光源固定安装在连接壳体的下方,振镜和镜均固定安装在连接壳体上;透镜片和CCD模组均固定安装在连接壳体内,且透镜片与连接壳体成角度,CCD模组朝向透镜片;光源、振镜、镜均同轴,镜朝向透镜片;位于振镜上方的外部激光器发射激光依次经过振镜、镜、透镜片照射到打标工件上;打标工件上反射的光经过半反透镜片入射到CCD模组。
  • 一种同轴视觉装置
  • [发明专利]一种基于偏振型反镜的光显示装置-CN202210955574.9在审
  • 吕国强;诸黎明;庞煜剑;冯奇斌;王梓 - 合肥工业大学
  • 2022-08-10 - 2022-11-01 - G02B30/00
  • 本发明涉及一种基于偏振型反镜的光显示装置,属于三维显示技术领域。包括偏振型反镜、第一光调制阵列、第二光调制阵列和计算机;偏振型反镜呈45度角位于第一光调制阵列和第二光调制阵列之间,叠加两个光调制阵列的光线。第一光调制阵列由第一直显层、三个偏振片、两个液晶层形成S偏振光;第二光调制阵列由第二直显层、另三个偏振片、另两个液晶层形成P偏振光。光优化操作是:计算机将光图像迭代分解得到六幅图案,其中两幅图像代表第一直显层和第二直显层的发光强度,另外四幅图像代四个液晶层上像素的透过率值,将六幅图像分别传送至两个显层和四个液晶层,通过协同工作再现原输入的光图像
  • 一种基于偏振型半透半反镜显示装置
  • [实用新型]一种多波段共轴自准直校准光路结构-CN201520948659.X有效
  • 蔡珂珺;刘效东;高雪军;李刚;陈巍;郭明 - 江苏北方湖光光电有限公司
  • 2015-11-24 - 2016-04-20 - G02B27/30
  • 本实用新型涉及一种多波段共轴自准直校准光路结构,主反射镜、次反射镜、镜、分光镜、透镜、白光分划、白光光源和探测器组成白光光路结构,白光分划位于物镜焦平面,白光光源均匀照射到白光分划上,通过半反透镜、分光镜、镜、次反射镜和主反射镜成自准直像,自准直像的中心和探测器的中心调校一致;主反射镜、次反射镜、镜、分光镜、红外分划和热源组成红外光路结构,热源均匀照射到红外分划上,通过分光镜、镜、次反射镜和主反射镜成自准直像,红外分划上的分划中心与白光分划上的分划中心调校一致。
  • 一种波段校准结构

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