|
钻瓜专利网为您找到相关结果 4385594个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]形成掩模的方法-CN201610081806.7有效
-
林义雄;郭大鹏;邱奕勋
-
台湾积体电路制造股份有限公司
-
2016-02-05
-
2019-07-19
-
H01L21/768
- 本发明提供了一种形成用于制造集成电路的一组掩模的方法,包括:确定原始布局设计中的第一通孔布局图案和电源轨布局图案的存在。第一通孔布局图案和电源轨布局图案彼此重叠。第一通孔布局图案是原始布局设计的第一单元布局的一部分。原始布局设计的第一单元布局和第二单元布局共用电源轨布局图案。该方法还包括更改原始布局设计以成为更改的布局设计并且基于更改的布局设计形成该组掩模。如果原始布局设计中存在第一通孔布局图案和电源轨,则更改原始布局设计包括:利用扩大的通孔布局图案来替换第一通孔布局图案。本发明还提供了利用该方法形成的集成电路。
- 形成方法
|