专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]FPGA布局方法、装置、电子设备及存储介质-CN202010711217.9在审
  • 蒋涛 - 深圳市紫光同创电子有限公司
  • 2020-07-22 - 2020-11-13 - G06F30/392
  • 本申请公开了一种FPGA布局方法、装置、电子设备及存储介质,FPGA布局方法包括:根据全局布局算法对FPGA进行初始布局,获得初始布局结果;根据初始布局结果,确定FPGA上每个单位区域内的每个已布局单元对应的布局比例;根据每个已布局单元对应的布局比例,确定每个已布局单元的移动优先级,移动优先级与布局比例呈正相关;根据每个已布局单元的移动优先级,移动每个已布局单元,直至每个已布局单元的移动优先级均低于预设优先级。本方法可实现根据各个单位区域内的单元布局情况,确定已布局单元的移动优先级,再根据移动优先级对已布局单元进行调整,从而保证每个已布局单元的布局比例均匀,可避免布线线长增加,进而提升FPGA的时序。
  • fpga布局方法装置电子设备存储介质
  • [发明专利]形成掩模的方法-CN201610081806.7有效
  • 林义雄;郭大鹏;邱奕勋 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2016-02-05 - 2019-07-19 - H01L21/768
  • 本发明提供了一种形成用于制造集成电路的一组掩模的方法,包括:确定原始布局设计中的第一通孔布局图案和电源轨布局图案的存在。第一通孔布局图案和电源轨布局图案彼此重叠。第一通孔布局图案是原始布局设计的第一单元布局的一部分。原始布局设计的第一单元布局和第二单元布局共用电源轨布局图案。该方法还包括更改原始布局设计以成为更改的布局设计并且基于更改的布局设计形成该组掩模。如果原始布局设计中存在第一通孔布局图案和电源轨,则更改原始布局设计包括:利用扩大的通孔布局图案来替换第一通孔布局图案。本发明还提供了利用该方法形成的集成电路。
  • 形成方法
  • [发明专利]用于图片的呈现方法和装置-CN201210468160.X有效
  • 史志奇;赵晓伟;彭波 - 北京奇虎科技有限公司;奇智软件(北京)有限公司
  • 2012-11-19 - 2013-04-03 - G06F17/30
  • 本发明公开了一种用于图片的呈现方法和装置,所述装置包括:尺寸调整单元,适于将各图片单元调整为相同尺寸并以瀑布墙布局方式展示;信息获取单元,适于在接收到对图片单元的放大请求时,获取被请求图片单元的位置信息;放大处理单元,适于基于设定的放大倍数,在当前浏览进程下对被请求图片单元进行放大显示;其中,放大处理单元还适于在当前浏览进程下对被请求图片单元进行放大显示时,将放大显示所占空间处的各图片单元向下移动或隐藏本发明所述方法和装置实现了用户可以在保留原瀑布墙布局且不影响用户当前浏览进程的情况下,使用更大区域来查看图片的细节信息和更多内容,信息展示量增大的同时用户交互成本降低。
  • 用于图片呈现方法装置

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