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[发明专利]一种储能站火灾残留物成分分离辅助设备-CN202211562744.3在审
发明人：翁孙贤;刘强;江世雄;陈国伟;陈扩松;李熙;王重卿;龚建新;郑宇;涂承谦;吴文庚;车艳红;程慧青;项胤兴;陈垚;邱梓峰;肖荣洋;魏源;陈鸿;林松 -专利权人：国网福建省电力有限公司;国网福建省电力有限公司电力科学研究院
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： B65D77/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种储能站火灾残留物成分分离辅助设备，箱盖上设置有立柱，立柱侧壁可拆卸安装有凝固剂药箱、膨胀剂药箱和若干提取盒；提取盒用于容纳火灾残留物；提取盒内侧壁安装有凝固剂活动喷头和膨胀剂活动喷头；将火灾残留物置于提取盒内，之后通过凝固剂喷头对残留物表面喷洒凝固剂，使得易碎的残留物表面形成一层坚固的外壳，此外壳对其内的残留物进行保护；之后膨胀剂喷托对提取盒内腔喷射膨胀剂，膨胀剂填充提取盒内部剩余空间，通过膨胀物使得残留物相对固定在提取盒内，从而避免运输过程中的震动造成残留物的变形、粉碎等情况发生；使得残留物运输到实验室时保持原有的结构。
一种储能站火灾残留物成分分离辅助设备

[发明专利]回收环己酮肟的方法-CN200810096328.2无效
发明人：横田雅志;桑原宽治 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2008-03-28 - 公布日： 2008-10-01 - 主分类号： C07C251/38 文献下载
摘要：通过加热蒸发液体环己酮肟A以获得环己酮肟气体A1并且在压力低于汽化压力的条件下通过加热来蒸馏剩余的残留物C，然后回收包含在残留物C中的环己酮肟A2。
回收环己酮方法

[实用新型]一种废水深度过滤装置-CN202122537916.9有效
发明人：侯捷 -专利权人：安徽省贝斯泰检测科技有限公司
申请日： 2021-10-21 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： B01D29/03 文献下载
摘要：本实用新型废水深度过滤装置，废水中大颗粒的残留物被安插柱上的外置毛刷所阻拦，剩余的废水继续向下流淌，通过外置把手带动转动顶板进行晃动，被阻拦的残留物在经过晃动后从外排孔中向外排出，排出后的残留物从排出孔处排出，剩余的废水进入到滤框本体中，废水穿过包裹网后经过内置滤片进行过滤，内置滤片对废水中的细微残留物进行截留，废水在慢慢渗透多层内置滤片后，排出滤框本体，该结构能够采用复合的过滤方式对废水进行深度过滤，使过滤效果更加全面
一种废水深度过滤装置

[发明专利]薄膜沉积腔室的清洁方法-CN201910811467.7在审
发明人：朴明俊;金镇宽;朴敏慧;朴柱明;安相焕 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：公开了一种薄膜沉积腔室的清洁方法，可以包括：i)在薄膜沉积腔室中同时提供氧等离子体和氟等离子体，以至少部分地去除薄膜沉积腔室中的包括碳(C)的第一残留物和包括硅(Si)的第二残留物，以及ii)在薄膜沉积腔室中提供氟等离子体而不提供氧等离子体，以去除在薄膜沉积腔室中剩余的第二残留物。
薄膜沉积清洁方法

[发明专利]回收贵金属和叔膦的方法-CN92115022.9无效
发明人： J·J·德奥里弗办达拉;A·J·甘查斯德卡瓦乎;W·赫吉 -专利权人：普鲁利化学公司
申请日： 1992-12-30 - 公布日： 1997-09-17 - 主分类号： C22B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及从无机和/或有机残留物中回收碲/贵金属沉淀物形态的贵金属，其特征在于向残留物中添加沸点高于120℃的溶剂；通过蒸馏去除水和沸点低于添加溶剂沸点的其它残留溶剂；添加碲或可还原的碲化合物；然后在碲/贵金属沉淀物分离前于大气压力下进行回流。本发明方法还可从含有叔膦的残留物中回收氧化物形态的叔膦，它是在碲贵金属沉淀物分离后浓缩剩余的母液；回收添加的高沸点溶剂以及通过沉淀使氧化物形态的叔膦同水分离而实现的。
回收贵金属方法

[发明专利]形成半导体结构的方法-CN202110709302.6在审
发明人：赖振益 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：蚀刻工艺的过程中产生残留物在沟槽内。方法还包括移除残留物。移除残留物包括使用第一气相清洁工艺以移除残留物的至少一部分，以及在使用第一气相清洁工艺之后，使用第二气相清洁工艺以移除残留物的剩余部分。本发明提供的形成半导体结构的方法是使用多步骤的气相清洁工艺以移除半导体结构上的残留物作为蚀刻后清洁的操作。借由气体组成的选择以及工艺条件的安排，在进行蚀刻后清洁的操作中最小化对半导体结构的影响。
形成半导体结构方法

[发明专利]一种变电站火灾残留物风险评估方法、系统、介质及设备-CN202211559564.X在审
发明人：江世雄;翁孙贤;刘强;陈国伟;陈扩松;王重卿;郑宇;陈垚;李熙;涂承谦;车艳红;程慧青;陈鸿;龚建新;魏源;万芯媛 -专利权人：国网福建省电力有限公司电力科学研究院;国网福建省电力有限公司宁德供电公司;国网福建省电力有限公司
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G16H50/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种变电站火灾残留物风险评估方法，包括：确定火灾残留物的暴露媒介；确定火灾残留物的暴露途径；计算第一暴露媒介中火灾残留物浓度；设定火灾残留物通过第一暴露媒介进入其他暴露媒介的分配比例；根据所述分配比例和第一暴露媒介中火灾残留物浓度，计算其他暴露媒介中火灾残留物浓度；根据不同暴露媒介中火灾残留物浓度，计算不同暴露途径火灾残留物的日平均暴露量；根据所述火灾残留物日平均暴露量，计算不同暴露途径火灾残留物的致癌风险和非致癌风险。
一种变电站火灾残留物风险评估方法系统介质设备

[发明专利]用超临界二氧化碳工艺从半导体上去除光致抗蚀剂和光致抗蚀残留物-CN00819817.9无效
发明人： W·H·穆利 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2000-08-14 - 公布日： 2003-11-05 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：公开了从半导体基底上去除光致抗蚀剂或者光致抗蚀残留物的一种方法。将表面上有光致抗蚀剂或者光致抗蚀残留物的半导体基底放到压力室内。然后给压力室加压。将超临界二氧化碳和剥离剂化学药品导入压力室。超临界二氧化碳和剥离剂化学药品保持与光致抗蚀剂或者光致抗蚀残留物接触，直到从半导体基底去除掉光致抗蚀剂或者光致抗蚀残留物。然后冲洗和风干压力室。有机或者无机化学药品或者它们的组合与晶片表面上的抗蚀剂、抗蚀残留物和有机污染物相互作用，并且将这些材料和剩余化学药品带出这个压力室。
临界二氧化碳工艺半导体去除光致抗蚀剂光致抗蚀残留物

[发明专利]残留物的清除方法-CN201510271913.1有效
发明人：侯红娟;刘轩;朱建野 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2015-05-25 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种残留物的清除方法，包括：提供一残留物去除对象，所述残留物去除对象的表面上具有残留物；在所述残留物去除对象的表面上形成抗反射涂层以吸附所述残留物；去除所述抗反射涂层。在本发明提供的残留物的清除方法中，通过在残留物去除对象的表面上涂布具有强烈粘附作用的抗反射涂层，使其表面上的残留物被粘在所述抗反射涂层上，之后去除所述抗反射涂层，从而实现清除残留物的目的，由此解决了残留物所引起的各种问题
残留物清除方法

[发明专利]甲壳废物处理方法-CN201880049667.7在审
发明人：颜宁;杨慧颖;陈熙 -专利权人：新加坡国立大学
申请日： 2018-05-30 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： B09B3/00 文献下载
摘要：提供了一种用于回收水生有壳动物的甲壳所包括的成分的甲壳废物处理方法，所述方法包括：将所述甲壳废物与变性剂或水在预设温度下混合预设时长，以形成第一混合物；过滤所述第一混合物，以获得滤出物和残留物，其中，从所述滤出物中回收第一成分；将由所述过滤得到的残留物与二氧化碳接触，以形成包括第二成分的悬浮液；以及在所述接触后，收集作为剩余残留物的第三成分，其中，所述第一成分为一种或多种蛋白质，所述第二成分为钙盐，所述第三成分为甲壳素。
甲壳废物处理方法

[发明专利]一种丝状真菌性污泥膨胀抑制剂及其使用方法-CN201910326110.X有效
发明人：周丹丹;鲁馨;王越;付亮;崔晓春;霍洪亮;王小雨 -专利权人：东北师范大学
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： C02F3/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种丝状真菌性污泥膨胀抑制剂，制作方法为：将正常状态下的污泥超声、离心后收集上清液，得到活性污泥的胞外组分；将乙酸乙酯加入到活性污泥的胞外组分中，涡旋混匀、静沉后收集上层有机相，再旋蒸至乙酸乙酯挥发殆尽后得到残留物A，即为第一信使分子AHLs；用水重悬浮离心后剩余的底泥，加入蛋白酶抑制剂后破碎细胞，得到活性污泥胞内组分，将提取剂加入到活性污泥胞内组分中，得到残留物B，即为第二信使分子c‑di‑GMP；用甲醇溶解残留物A和残留物B的混合物，得到丝状真菌膨胀抑制剂。
一种丝状真菌污泥膨胀抑制剂及其使用方法

[实用新型]一种全自动乳化沥青蒸发残留物的蒸煮装置-CN202120581960.7有效
发明人：张奕龙;林芳燕;许新权;何伟杰;方潮明;蔡福光;陈信佑;古嘉和;吴欣然 -专利权人：广东华路交通科技有限公司
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： C10C3/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种全自动乳化沥青蒸发残留物的蒸煮装置，底座内部设置有加热装置，底座上端连接有加热腔；加热腔上部连接于顶壳，顶壳一侧设置有出气口，出气口与加热腔连通，出气口上设置有排气管，所述排气管连接有过滤装置本装置可以根据不同的乳化沥青材料设置不同的蒸煮时间和温度要求，使得蒸煮过程温度控制更准确，防止当水分蒸发后，剩余沥青残留物温度容易升高，导致残留物老化，达不到蒸发后残留物各项指标的技术要求，同时不需要试验人员全程现场跟踪
一种全自动乳化沥青蒸发残留物装置

[发明专利]光刻胶和刻蚀残留物的低压去除-CN200580045692.0有效
发明人：稻泽刚一郎;瓦迪亚纳森·巴拉苏布拉马尼恩;萩原正明;西村荣一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-12-01 - 公布日： 2007-12-26 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：提供了一种用于低压等离子体灰化以去除在先前的介电层的等离子体刻蚀期间形成的光刻胶残余和刻蚀残留物的方法。该灰化方法使用涉及含氧气体的两步等离子体工艺，其中在第一清洁步骤中向衬底施加低偏置或零偏置以从衬底上去除显著量的光刻胶残余和刻蚀残留物，并且从室表面上刻蚀并去除有害的氟碳残留物。在第二清洁步骤中向衬底施加增大的偏置以从衬底上去除剩余的光刻胶和刻蚀残留物。在第二清洁步骤中采用了小于20mTorr的室压强。两步工艺减少了常在传统的一步灰化工艺中观察到的记忆效应。
光刻刻蚀残留物低压去除

[发明专利]光刻胶和刻蚀残留物的低压去除-CN200580046337.5有效
发明人：稻沢刚一郎;瓦迪亚纳森·巴拉苏布拉马尼恩;畑村安则;萩原正明;西村荣一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2005-12-02 - 公布日： 2008-01-02 - 主分类号： H01L21/461 文献下载
摘要：提供了一种用于等离子体灰化以去除在先前的介电层的等离子体刻蚀期间形成的光刻胶残余和刻蚀残留物的方法。该灰化方法使用涉及含氢气体的两步等离子体工艺，其中在第一清洁步骤中向衬底施加低偏置或零偏置以从衬底上去除显著量的光刻胶残余和刻蚀残留物，并且从室表面上刻蚀并去除有害的氟碳残留物。在第二清洁步骤中向衬底施加增大的偏置以从衬底上去除剩余的光刻胶和刻蚀残留物。在第二清洁步骤中采用了小于20mTorr的室压强。两步工艺减少了常在传统的一步灰化工艺中观察到的记忆效应。
光刻刻蚀残留物低压去除

[发明专利]一种排除鱼塘水中鱼粪及鱼食残留物的装置-CN202011025011.7有效
发明人：吴丹;胡开鑫 -专利权人：宁波大学
申请日： 2020-09-25 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： A01K63/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种排除鱼塘水中鱼粪及鱼食残留物的装置，包括：鱼塘、文丘里爆氧器、一级排污器、电控箱、二级污物分离桶、漂浮物滤网，文丘里爆氧器对水增氧，又促使水在圆形鱼塘中旋转，使沉淀在塘底的鱼粪及鱼食残留物聚集在塘中心，漂浮的在水面塘沿漂移，漂浮物滤网及时收集清理漂浮物，而聚集在塘中心的污物先吸入二级污物分离桶再分离，利用相关设备把鱼粪及鱼食残留物含量高的污水排除，剩余较清的水回归鱼塘，由此可以在鱼粪及鱼食残留物尚未发酵污染水质之前
一种排除鱼塘水中残留物装置

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