专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果9691346个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]药用辅料羧甲基淀粉钠的制备方法-CN201210247679.5无效
  • 郑桂富 - 郑桂富
  • 2012-07-17 - 2012-10-17 - C08B31/12
  • 本发明提供了一种药用辅料羧甲基淀粉钠的制备方法,包括以下工艺步骤:将淀粉加入氢氧化钠醇溶液中进行碱化反应,然后经醚化、脱盐、分离、干燥、粉碎后得到药用辅料羧甲基淀粉钠,所述醚化剂采用氯乙酸钠。由于本发明中所述的工艺步骤中没有副产物乙醇酸钠的生成,因此,也就不需要将氢氧化钠分两次添加,简化了制备工艺步骤,使得本制备方法工艺简单、步骤合理;另外,由于采用无毒的氯乙酸钠为醚化剂,整个制备过程中不会对操作人员造成伤害,操作人员的劳动环境较传统制备工艺的劳动环境好。本制备方法中的淀粉可采用甘薯淀粉,使得本制备方法既可在一定程度上满足国内对具有药用辅料羧甲基淀粉钠的需求,也为甘薯的深加工找到了一条新出路。
  • 药用辅料羧甲基淀粉制备方法
  • [发明专利]一种柔性太阳能电池的快速制备方法-CN201710675041.4在审
  • 李胜夏;王家林;蓝河 - 上海幂方电子科技有限公司
  • 2017-08-09 - 2017-12-26 - H01L51/48
  • 本发明申请涉及一种有机太阳能电池的制备方法,所述太阳能电池包括柔性基底/透明电极层、介质层、活性层和金属电极,其特征在于通过刮涂工艺制备所述介质层和所述活性层,并通过点胶的方式制备顶电极。与旋涂、喷涂法制备缓冲层的工艺相比,本发明所述方法涉及的设备与工艺简单、环境友好且利于大面积工业化制备。而通过点胶工艺制备顶电极,避免了真空蒸镀对材料和设备的高要求,同时也不存在喷墨打印顶电极过程中电极材料组分单一、制备的电极功函数不可调、等问题,实现了工艺简单化,并且可快速、大面积制备太阳能电池的技术效果
  • 一种柔性太阳能电池快速制备方法
  • [发明专利]结晶ITO薄膜的制备方法、On‑cell型触控面板的制备方法-CN201710842690.9在审
  • 吕绍卿 - 武汉华星光电技术有限公司
  • 2017-09-18 - 2017-12-12 - G02F1/1343
  • 本发明公开了一种结晶ITO薄膜的制备方法,用于在液晶面板上制备形成结晶ITO薄膜,所述制备方法包括应用沉积工艺,在彩膜基板的背离液晶层的表面上制备形成非结晶ITO薄膜;在预设温度下,应用准分子激光退火工艺本发明还公开了一种On‑cell型触控面板的制备方法,包括制备形成触控感应电极层的步骤,具体包括应用沉积工艺,在彩膜基板的背离液晶层的表面上制备形成非结晶ITO薄膜;应用光刻工艺,将所述非结晶ITO薄膜刻蚀形成图案化的触控感应电极;在预设温度下,应用准分子激光退火工艺,使图案化的触控感应电极对应的非结晶ITO薄膜晶化形成结晶ITO薄膜。
  • 结晶ito薄膜制备方法oncell型触控面板
  • [发明专利]一种脊状LED及其制备方法-CN201710346428.5有效
  • 张亮 - 深圳市长方集团股份有限公司
  • 2017-05-17 - 2019-02-26 - H01L33/00
  • 本发明涉及一种脊状LED及其制备方法。其中,所述制备方法包括:选取SOI衬底;利用CVD工艺在SOI衬底表面生长Ge外延层;利用CVD工艺在Ge外延层表面生长氧化层;利用LRC工艺晶化Ge外延层形成改性Ge外延层;利用干法刻蚀工艺刻蚀氧化层;在改性Ge外延层表面生长本征Ge层;选择性刻蚀本征Ge层形成脊型结构;在脊型结构的两侧分别注入P离子和B离子形成N型Ge区域和P型Ge区域;制备金属接触电极以完成脊状LED的制备;本发明利用激光再晶化工艺,在SOI衬底上制备位错密度低Ge外延层,并制备高质量直接带隙Ge外延层,然后实现一种脊状LED及其制备方法
  • 一种led及其制备方法
  • [发明专利]一种钌薄膜的制备方法-CN201310405900.X无效
  • 张春敏;王鹏飞;张卫 - 复旦大学
  • 2013-09-09 - 2013-12-25 - H01L21/768
  • 本发明属于集成电路铜互连工艺技术领域,具体涉及一种钌薄膜的制备方法。本发明方法包括利用等离子体增强原子层淀积工艺制备钌薄膜,再对所制得的钌薄膜进行高温退火处理。等离子体增强原子层淀积工艺可以在纳米级精确地控制钌薄膜的生长厚度,并且所制备的钌薄膜在大面积范围内具有好的均匀性,而高温退火工艺可以实现氧化钌向钌的转变,增加钌薄膜的纯度。本发明的钌薄膜的制备方法还可以减少钌薄膜的制备时间,降低时间成本。
  • 一种薄膜制备方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top