专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]生产纯有机的方法及装置-CN201310090684.4有效
  • 徐志国;张黎明;杜丽萍;袁京;王万军;姜标 - 上海中科高等研究院;上海爱默金山药业有限公司
  • 2013-03-20 - 2013-05-22 - C07F7/21
  • 本发明提供一种生产纯有机的方法及装置。根据本发明的方法,先将待提纯的有机加热后进行第一精馏,冷凝后获得初步提纯的有机;随后再将所述初步提纯的有机与预定比例的金属络合剂混合,并预热后进行第二精馏,冷凝过滤后获得纯有机。实现本发明的方法的优选装置至少包括:包含加热器、第一冷凝器的第一精馏设备通过静态管道混合器及预热器连接包含第二冷凝器及过滤单元的第二精馏设备,其中,所述静态管道混合器用于将所述第一精馏设备输出的有机与金属络合剂混合,由此可以输出电子级纯有机,尤其可以输出含量>99.99%,金属杂质总量<10ppb的环聚氧烷体系。
  • 生产高纯有机硅方法装置
  • [发明专利]低温度系数多晶电阻的制造方法-CN201410604403.7有效
  • 袁苑;陈瑜 - 上海华虹宏力半导体制造有限公司
  • 2014-10-30 - 2015-01-28 - H01L21/70
  • 本发明公开了一种低温度系数多晶电阻的制造方法,步骤包括:1)衬底上生长多晶膜;2)P型低浓度掺杂;3)阻多晶的光刻曝光显影,在阻多晶以外区域进行N型掺杂;4)去除光刻胶,沉积氮化硅膜;5)一刻蚀形成N型多晶阻多晶;6)浅掺杂漏注入,生长氮化硅,刻蚀掉字线上和阻多晶上的氮化硅;7)对源漏和部分阻多晶进行P型重掺杂,形成P型源漏和P型多晶。该方法通过互掺杂,在光刻版最少的情况下,在低温度系数多晶电阻的制造工艺中实现了阻多晶、低阻P型多晶和N型多晶的同时形成。
  • 温度系数多晶电阻制造方法
  • [发明专利]镁低钛精矿制取钛铁、钛铁的方法-CN200710048313.4无效
  • 梅卫东 - 梅卫东
  • 2007-01-23 - 2007-08-01 - C22C1/02
  • 本发明提供了一种用镁低钛精矿制取钛铁、钛铁的方法,该方法包括以下步骤:1)配制反应料;2)按铝热法进行第一冶炼;3)冶炼结束后,放出钛铁液,铸锭,得到钛铁;4)加入铁,对炉内渣液用电热法进行第二冶炼;5)冶炼结束后,放出全部熔液,铸锭,得到钛铁。本发明采用复合发热剂提高反应热,保持渣温,促使钛铁沉降,解决钛精矿中氧化镁含量,渣溶点,粘度大,钛铁沉降困难,出钛铁率低的问题;本发明可使铝热法冶炼后渣中残留的钛铁细粒及未还原的低价钛氧化物回收成钛铁,提高原料中钛的回收率;本发明两冶炼在同一炉内进行,提高反应炉的使用效率;高温炉渣直接冶炼,可利用炉渣的物理热降低钛铁冶炼的能耗。
  • 用高镁低钛精矿制取硅钛铁方法
  • [发明专利]一种钽氧化物靶材及其制备方法-CN202310625160.4在审
  • 姚力军;潘杰;杨慧珍;周友平;廖培君 - 宁波江丰电子材料股份有限公司
  • 2023-05-30 - 2023-08-22 - C04B35/495
  • 本发明提供了一种钽氧化物靶材及其制备方法,所述制备方法包括:将五氧化二钽粉末和粉混合得到混合粉料,然后装填到模具中;将混合粉料和模具整体置于热压烧结设备中,经一加压处理后抽真空,然后进行一加热处理,再充入保护性气体,进行二加热处理;所述二加热处理后,维持温度进行二加压处理,降温降压后再经机加工,得到钽氧化物靶材。本发明所述方法以五氧化二钽粉末和粉为原料,利用原料特性,控制热压烧结过程中的加热加压进程,使得靶材产品致密度,微观结构均匀且无气孔,电阻率波动范围小,能够满足磁控溅射对靶材纯度、密度和电阻率的要求;所述方法有效解决钽氧化物靶材容易开裂的问题,产品的成材率
  • 一种氧化物及其制备方法

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