专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种闪存器件及其制造方法-CN201910394766.5有效
  • 罗清威;李赟;周俊 - 武汉新芯集成电路制造有限公司
  • 2019-05-13 - 2022-12-20 - H01L29/788
  • 本发明提供了一种闪存器件的制造方法,衬底上形成有浮层以及浮层上的图案化的堆叠层,堆叠层包括依次层叠的隔离层和控制堆叠层一侧为擦除区,另一侧为字线区,在堆叠层的侧壁上可以形成侧墙,沿横向去除字线区的部分厚度的侧墙,使字线区的侧墙和擦除区的侧墙厚度不一致,以侧墙及堆叠层为掩蔽,进行浮层的刻蚀,以形成浮,沿横向去除擦除区部分厚度的侧墙,这样,得到的浮层在擦除区保留较多且伸出侧墙一部分,从而得到非对称结构的浮层,简化形成浮的工艺流程,降低器件的制造成本。
  • 一种闪存器件及其制造方法
  • [发明专利]一种无结型双线隧穿场效应晶体管-CN201910023720.2有效
  • 谢倩;李杰;黄安鹏;王政 - 电子科技大学
  • 2019-01-10 - 2021-07-06 - H01L29/739
  • 本发明属于半导体器件领域,提供一种无结型双线隧穿场效应晶体管,用以提升无结型隧穿场效应晶体管开态电流;本发明隧穿场效应晶体管通过源区金属与漏区金属的功函数与沟道区半导体电子亲和势的差值,在未掺杂或轻掺杂的沟道中通过电学掺杂形成P型掺杂特性源区与N型掺杂特性漏区;改变了传统无结型双隧穿晶体管上下对称的双结构,使顶层金属与底层金属具备长度差、即非对称结构,在无结型双隧穿场效应晶体管的中引入载流子线隧穿,并以线隧穿为主;同时,可通过增加顶层金属的延伸长度,缩短底层金属长度来增加顶层金属与底层金属长度差值,增大晶体管的线隧穿面积,提升载流子隧穿几率,有效提升了器件的开态电流。
  • 一种无结型双栅线隧穿场效应晶体管
  • [发明专利]基于非对称金属双结构的光学二极管-CN201010231416.6无效
  • 王慧田;许吉;程晨;陈璟;丁剑平;樊亚仙 - 南京大学
  • 2010-07-20 - 2010-12-15 - G02B6/34
  • 本发明公开了一种基于非对称金属双结构的光学二极管,包括第一金属和第二金属,第一金属和第二金属平行排列,第二金属周期是第一金属的两倍,第二金属的外表面上设有表面微腔。本发明中两层金属的层间距的存在,是为了利用双结构中特有的透射抑制现象,该结构的存在能够非常有效地实现零级透射的单向性。另一方面,本发明对较大周期一的外表面做了附加表面微腔结构的改进,能在一定波长范围实现能量透过率高达60%的透射。整个结构对电磁波的单向传输的控制可作用于宽带范围。
  • 基于对称金属结构光学二极管

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