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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]掩膜数据的修正方法、光掩膜和光学像的预测方法-CN200710096371.4无效
发明人：福原和也;河村大辅;三本木省次 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2005-02-23 - 公布日： 2007-09-26 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种考虑了实际曝光装置的特性的掩膜数据的修正方法、光掩膜、掩膜数据的修正程序。在制作在光刻工序中使用的光掩膜时所使用的掩膜数据的修正方法，根据使用包含使用光掩膜的曝光装置中的照明亮度分布的不均匀性的信息的仿真进行掩膜数据的修正，其中上述光掩膜是使用上述修正结果得到的掩膜数据制作的光掩膜
数据修正方法光掩膜光学预测

[发明专利]掩膜数据的修正方法、光掩膜和光学像的预测方法-CN200510008834.8无效
发明人：福原和也;河村大辅;三本木省次 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2005-02-23 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种考虑了实际曝光装置的特性的掩膜数据的修正方法、光掩膜、掩膜数据的修正程序。在制作在光刻工序中使用的光掩膜时所使用的掩膜数据的修正方法，根据使用包含使用光掩膜的曝光装置中的照明亮度分布的不均匀性的信息的仿真进行掩膜数据的修正，其中上述光掩膜是使用上述修正结果得到的掩膜数据制作的光掩膜
数据修正方法光掩膜光学预测

[实用新型]掩膜装置及掩膜板冷却系统-CN201520385806.7有效
发明人：王亚 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2015-06-04 - 公布日： 2015-10-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种掩膜装置，所述掩膜装置和冷却装置连接，其中，所述掩膜装置包括掩膜板，所述掩膜板的表面开设有第一槽，所述第一槽延伸至所述掩膜板的边缘，且所述第一槽中铺设有导热层，所述导热层的厚度和所述第一槽的深度相等上述掩膜装置能加快对掩膜板的降温，减少掩膜板的温度的变化，进而减少掩膜板在蒸镀过程中引起的变形。
装置掩膜板冷却系统

[实用新型]掩膜装置-CN201020106736.4有效
发明人：郭志勇;陈雄达;王士敏;商陆平;李绍宗 -专利权人：深圳莱宝高科技股份有限公司
申请日： 2010-01-28 - 公布日： 2010-10-20 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本实用新型涉及平板显示器技术领域，尤其涉及一种掩膜装置。掩膜装置包括基板、形成于基板上的掩膜图案及保护层。掩膜图案将基板分为透光区域和遮光区域。保护层设置于基板上且覆盖掩膜图案，其用于保护掩膜图案，防止掩膜图案在清洗过程中被损伤，延长掩膜装置的使用寿命。由于不需顾及掩膜图案，清洗更方便且效率更高，利于减少清洗掩膜装置的时间。
装置

[发明专利]掩膜装置及掩膜系统-CN201510308594.7在审
发明人：曾杰;李安石 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2015-06-08 - 公布日： 2015-09-02 - 主分类号： G03F1/50 文献下载
摘要：本发明实施例公开一种掩膜装置及掩膜系统。掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于滚筒掩膜版内的光源组件。滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，光源组件的外表上设置有光源。在光源的照射下，滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案。本发明在不需要制作大面积掩膜板的情况下，可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，从而节省成本。
装置系统

[发明专利]一种对掩膜进行处理的方法-CN201510053594.7在审
发明人：施维 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2015-02-02 - 公布日： 2016-10-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种对掩膜进行处理的方法，用于消除掩膜经过修补后出现的污染物，其在掩膜进行一定次数的修补后，用氧等离子体清洗所述掩膜。本发明提供的对掩膜进行处理的方法，用于去除28nm掩膜经过修补后出现的污染物，其通过用氧等离子体提清洗所述掩膜来去除掩膜在掩膜经过修补后出现的污染物，从而使掩膜可以修补更多的次数，提高掩膜的使用次数，降低生产成本
一种进行处理方法

[发明专利]掩膜装置及其控制方法、镀膜设备-CN202211324750.5在审
发明人：尚鲲鹏;雷克武;伍平生;薛颜同;王岳利 -专利权人：宁德时代新能源科技股份有限公司
申请日： 2022-10-27 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜装置及其控制方法、镀膜设备，能够解决在基材上镀膜不均匀的问题。本申请实施方式的掩膜装置包括：基座；掩膜板，掩膜板活动地设置在基座上；驱动组件，驱动组件与掩膜板连接，用于驱动掩膜板运动以调整掩膜板伸出基座的尺寸。本申请实施方式的掩膜装置中，驱动组件驱动掩膜板运动以调整掩膜板伸出基座的尺寸，从而可以调整掩膜板遮盖镀膜材料的面积，以控制镀膜材料镀在基材上的量，使得在基材上形成的镀膜厚度较均匀。
装置及其控制方法镀膜设备

[发明专利]掩膜板框架组件和掩膜板模组-CN201810612835.0有效
发明人：张健;黄俊杰;王震;李冬伟;赵蓉 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种用于蒸镀的掩膜板框架组件，所述掩膜板框架组件包括框架和开口掩膜板，所述开口掩膜板包括掩膜板本体和设置在所述掩膜板本体边缘处的多个固定条，所述框架包括框架本体，其中，所述开口掩膜板与所述框架层叠设置，且所述掩膜板本体的一部分与所述框架本体重叠，所述固定条位于所述框架本体上。本发明还提供一种掩膜板模组。所述掩膜板模组中的图像化掩膜板结构稳定，不容易产生变形。
掩膜板框架组件模组

[发明专利]掩膜板的检测方法-CN200910195217.1无效
发明人：朱瑜杰;陈宏璘;孙强;施春山 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-09-04 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜板的检测方法，包括步骤：预先根据在掩膜层中形成的光掩膜图形的目标特征尺寸计算目标曝光能量；提供掩膜板和半导体基底，在所述掩膜板上具有开口图形，在所述半导体基底上具有光掩膜层；利用小于目标曝光能量的测试曝光能量，透过掩膜板对所述半导体基底上的部分区域光掩膜层曝光；进行显影，形成光掩膜图形；对所述光掩膜图形进行检测。本发明可以对掩膜板上的缺陷进行检测。
掩膜板检测方法

[发明专利]掩膜板固化方法及掩膜板处理工艺-CN201210366881.X无效
发明人：顾婷婷 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2012-09-27 - 公布日： 2014-04-02 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明揭示了一种掩膜板固化方法，该方法包括：将掩膜板进行等离子体工艺处理，以使掩膜板固化。本发明还揭示了一种掩膜板处理工艺，该工艺包括：制备具有图形的掩膜板；将所述掩膜板进行等离子体工艺处理，使所述掩膜板固化以形成固化掩膜板；以及将所述固化掩膜板进行湿法清洗。本发明采用等离子体对掩膜板进行固化，使掩膜板在湿法清洗去除缺陷的过程中不会损坏到掩模板，提高良率。
掩膜板固化方法处理工艺

[发明专利]掩膜板组件-CN202111444597.5在审
发明人：陈万里;李冬伟;王善鹤 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜板组件，涉及显示技术领域，用于解决掩膜条难以拆卸、重复利用率较低的技术问题。该掩膜板组件包括框架、掩膜条、至少两个导轨，以及分别安装在每个导轨上的至少一个夹持装置，夹持装置可沿导轨移动，且夹持在掩膜条的端部，以使掩膜条张紧。通过夹持装置夹持并张紧掩膜条，夹持装置与掩膜条之间便于拆卸，且拆卸掩膜条时不易损伤掩膜条和框架，掩膜条可以重复多次利用，提高了掩膜条的重复利用率，降低了成本。
掩膜板组件

[发明专利]掩膜板和显示面板-CN202210716783.8在审
发明人：李世泰;孙琳;李慧;朱修剑 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司;昆山国显光电有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本申请提供一种掩膜板和显示面板，涉及显示技术领域，用于解决显示面板易出现显示效果差的技术问题。其中，掩膜板包括：掩膜板本体和支撑柱，所述支撑柱设置于所述掩膜板本体的第一表面，所述支撑柱配置为对待掩膜层掩膜时容置于待掩膜层的容置槽中；所述第一表面为对待掩膜层掩膜时面向待掩膜层的表面。本申请提供的掩膜板用于在制备显示面板的过程中使用，例如在制备显示面板的发光层时对显示面板的像素限定层进行掩膜。
掩膜板显示面板

[发明专利]掩膜板组件-CN202211195066.1在审
发明人：韩冰;陈闯;崔雪;李文星 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜板组件，包括框架、掩膜板、传送机构和施压机构，所述框架设置有镂空区；所述掩膜板活动设置于所述框架上；且在所述掩膜板的长度方向上，所述掩膜板包括若干掩膜单元；所述传送机构与所述掩膜板固定连接，用于带动所述掩膜板沿所述长度方向移动，以切换与所述镂空区对应的所述掩膜单元；所述施压机构用于将与所述镂空区对应的所述掩膜单元与所述框架压紧。通过上述方案，降低掩膜板所占存放空间，通过施压机构压紧掩膜板以确保蒸镀精度。
掩膜板组件

[实用新型]组合掩膜版-CN201821269953.8有效
发明人：不公告发明人 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-08-08 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种组合掩膜版，该组合掩膜版包括第一子掩膜版和第二子掩膜版，第一子掩膜版上形成有第一光掩膜图形，第二子掩膜版上形成有第二光掩膜图形，第一光掩膜图形和第二光掩膜图形具有重迭在同一曝光区域内的交互插排图形本实用新型将复杂的掩膜图形分解为两个简单的子掩膜图形，在一个刻蚀制程中转印至基底上，简化了刻蚀工艺并提高了套刻精度。
光掩膜图形掩膜版组合掩膜掩膜图形本实用新型刻蚀工艺曝光区域插排基底刻蚀套刻制程重迭分解

[实用新型]一种掩膜组件及应用其的蒸镀装置-CN202120886673.7有效
发明人：徐蒙蒙;王江南;史晓波;冯敏强 -专利权人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请日： 2021-04-27 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种掩膜组件及蒸镀装置，掩膜组件包括掩膜遮挡板和掩膜板，所述掩膜遮挡板位于所述掩膜板远离所述基片的一侧；所述掩膜遮挡板与所述掩膜板之间分离间隔设置；所述掩膜板上镂空设置有第一蒸镀图案，所述掩膜遮挡板上镂空设置有第二蒸镀图案其能够减弱蒸镀过程中所述掩膜板受到的热辐射，避免掩膜板受热膨胀产生形变。
一种组件应用装置

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